【技术实现步骤摘要】
本申请涉及蒸发镀膜，尤其涉及一种蒸镀膜料结构及蒸镀设备。
技术介绍
1、电子束蒸发镀膜技术是利用高能量电子束将蒸镀膜料蒸发，并沉积在待加工物体表面形成薄膜。在蒸发镀膜工艺中，通常使用颗粒状膜料或块状膜料作为蒸镀膜料。颗粒状膜料，颗粒与颗粒之间存在较大的空隙，在蒸镀时容易发生膜料飞溅；并且颗粒状膜料放在坩埚内的膜料含量较少，需要多次添加。块状膜料，电子束打到块状膜料上时容易发生飞炸。因此，现有的蒸镀膜料蒸发不稳定，影响镀膜成型后的均匀性和致密性。
技术实现思路
1、为克服现有技术中的不足，本申请提供一种蒸镀膜料结构及蒸镀设备。
2、本申请提供如下技术方案：
3、第一方面，本申请提供了一种蒸镀膜料结构，包括：膜料块和膜料颗粒，所述膜料块和所述膜料颗粒的成分相同，所述膜料块的顶面的整面铺设所述膜料颗粒。
4、在一种可能的实施方式中，所述膜料块的周围设有所述膜料颗粒，且所述膜料颗粒包覆所述膜料块的外围面的整面。
5、在一种可能的实施方式中，所述膜料块呈圆柱状。
6、在一种可能的实施方式中，所述膜料块和所述膜料颗粒均设于坩埚内，所述坩埚呈倒圆锥台状，所述膜料块的底面与所述坩埚内底面的形状和大小一致。
7、在一种可能的实施方式中，所述膜料颗粒顶面的直径与所述膜料块顶面的直径之间的比值d，满足关系式：1≤d＜2。
8、在一种可能的实施方式中，所述膜料颗粒整体的厚度在1-3mm之间。
9、在一种可能的实
10、在一种可能的实施方式中，所述膜料块为蓝宝石块；所述膜料颗粒为三氧化二铝颗粒。
11、在一种可能的实施方式中，所述膜料块为石英块；所述膜料颗粒为二氧化硅颗粒。
12、第二方面，本申请还提供了一种蒸镀设备，所述蒸镀设备包括坩埚和电子枪；所述坩埚用于容置上述蒸镀膜料结构；所述电子枪用于加热所述蒸镀膜料结构。
13、相比现有技术，本申请的有益效果：
14、本申请的蒸镀膜料结构由膜料块和铺设于膜料块顶面的膜料颗粒组成；膜料颗粒被加热熔融时能够形成熔池，不断溶解的熔池能够将热量传递至膜料块上，以促使膜料块熔化；由于膜料块密度高，且内部无空隙，进而能够提升蒸镀膜料结构蒸镀时的膜料利用率，并减少飞溅现象的发生。膜料颗粒形成的熔池促使膜料块熔融，可以有效防止膜料块受到较为集中的热冲击，并且膜料颗粒熔融时，熔池能够填充膜料块的裂隙，进而防止膜料块炸裂。
15、为使本申请的上述目的、特征和优点能更明显和易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，做详细说明如下。
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1.一种蒸镀膜料结构，其特征在于，包括：膜料块和膜料颗粒，所述膜料块和所述膜料颗粒的成分相同，所述膜料块的顶面的整面铺设所述膜料颗粒；
2.根据权利要求1所述的蒸镀膜料结构，其特征在于，所述膜料块呈圆柱状。
3.根据权利要求2所述的蒸镀膜料结构，其特征在于，所述膜料块和所述膜料颗粒均设于坩埚内，所述坩埚呈倒圆锥台状，所述膜料块的底面与所述坩埚内底面的形状和大小一致。
4.根据权利要求3所述的蒸镀膜料结构，其特征在于，所述膜料颗粒顶面的直径与所述膜料块顶面的直径之间的比值d，满足关系式：1≤d＜2。
5.根据权利要求1所述的蒸镀膜料结构，其特征在于，所述膜料颗粒整体的厚度在1-3mm之间。
6.根据权利要求1或5所述的蒸镀膜料结构，其特征在于，所述膜料块的厚度在10-12mm之间。
7.根据权利要求1所述的蒸镀膜料结构，其特征在于，所述膜料块为蓝宝石块；所述膜料颗粒为三氧化二铝颗粒。
8.根据权利要求1所述的蒸镀膜料结构，其特征在于，所述膜料块为石英块；所述膜料颗粒为二氧化硅颗粒。
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...【技术特征摘要】
1.一种蒸镀膜料结构，其特征在于，包括：膜料块和膜料颗粒，所述膜料块和所述膜料颗粒的成分相同，所述膜料块的顶面的整面铺设所述膜料颗粒；
2.根据权利要求1所述的蒸镀膜料结构，其特征在于，所述膜料块呈圆柱状。
3.根据权利要求2所述的蒸镀膜料结构，其特征在于，所述膜料块和所述膜料颗粒均设于坩埚内，所述坩埚呈倒圆锥台状，所述膜料块的底面与所述坩埚内底面的形状和大小一致。
4.根据权利要求3所述的蒸镀膜料结构，其特征在于，所述膜料颗粒顶面的直径与所述膜料块顶面的直径之间的比值d，满足关系式：1≤d＜2。
5.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵卓，杨鹏，石玉佳，陈小群，谢国民，
申请(专利权)人：蓝思科技东莞有限公司，
类型：新型
国别省市：
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