【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文所公开的目标总体上涉及用于半导体制造中的隔离阀，且在一些示例中，涉及用于隔离阀的部件。
技术介绍
1、半导体衬底处理系统系通过包括蚀刻、物理气相沉积(pvd)、原子层沉积(ald)、化学气相沉积(cvd)、等离子体增强化学气相沉积(pecvd)、脉冲沉积层(pdl)、等离子体增强脉冲沉积层(pepdl)、以及抗蚀剂移除的技术而用以处理半导体衬底。其中一种半导体衬底处理设备为包含真空处理室的等离子体处理设备，真空处理室包含上电极与下电极。在衬底处理循环中，将射频(rf)功率施加在这些电极之间，以将处理气体激发成等离子体而处理在室中的半导体衬底。
2、真空处理室通常由处理气体供应管线所供应。处理气体供应管线可根据需要包含操作成从清洁气体隔离处理气体的一或更多个隔离阀。常规隔离阀包含o形环密封配置。高温、激进的动态响应需求、以及恶劣的化学环境可能使阀应用在半导体处理中尤其具有挑战性。具有常规o形环密封配置的隔离阀迅速且经常失效。
3、本文中所提出的现有技术大致上用于呈现本公开内容的背景。应当注意，本节中所描述的信息是为了将以下所公开的主题的一些背景提供给本领域技术人员，不应将其视为公认的现有技术。具体而言，在此
技术介绍
部分中描述的范围内的当前指定的专利技术人的工作以及在提交申请时不能确定为现有技术的说明书的各方面既不明确也不暗示地承认是针对本公开的现有技术。
技术实现思路
1、本文提出用于隔离气体(例如半导体制造中的处理和清洁气体)的方法和系统。一些示例包含用
2、在一些示例中，一种隔离阀包括：阀体；阀致动器；以及包含聚四氟乙烯(ptfe)材料的提动头，所述提动头能通过所述阀致动器在所述阀体中移动，以将所述ptfe材料保持为与相对表面密封接合，而无需o形环的介入。
3、在一些示例中，所述提动头完全由所述ptfe材料组成或完全由所述ptfe材料构成的单一结构。
4、在一些示例中，所述提动头不具有o形环安置通道。
5、在一些示例中，所述提动头包含凹部或台阶。
6、一些示例还包括提动阀组件，所述提动阀组件包含提动阀外壳和由所述提动头限定的区段。
7、在一些示例中，所述提动头与所述提动阀外壳分开形成。
8、在一些示例中，所述提动阀组件是具有由与所述提动阀外壳一体成型的所述提动头限定的所述区段的单一结构。
9、在一些示例中，所述提动头包含被配置成与所述提动阀外壳内部的匹配结构适配的凹部或台阶。
10、在一些示例中，提供了一种用于隔离阀的无o形环提动头，所述隔离阀包含阀体和阀致动器，所述无o形环提动头包含：限定密封表面的(ptfe)材料区段，所述密封表面不具有o形环安置通道，所述提动头能通过所述阀致动器在所述阀体中移动，以在所述隔离阀关闭时将所述ptfe材料所限定的所述密封表面保持为与相对表面密封接合，而无需o形环的介入。
11、在一些示例中，所述无o形环提动头包含凹部或台阶。
12、在一些示例中，所述无o形环提动头是完全由所述ptfe材料组成或完全由所述ptfe材料构成的单一结构。
13、在一些示例中，所述隔离阀包括提动阀组件，所述提动阀组件包含提动阀外壳和所述无o形环提动头。
14、在一些示例中，所述无o形环提动头与所述提动阀外壳分开形成。
15、在一些示例中，所述提动阀组件是具有与所述提动阀外壳一体成型的所述无o形环提动头的单一结构。
16、在一些示例中，所述无o形环提动头包含被配置成与所述提动阀外壳内部的匹配结构适配的凹部或台阶。
17、在一些示例中，所述隔离阀包括阀体和阀致动器，所述提动阀组件包括：提动阀外壳；以及提动头，所述提动头包含限定密封表面的(ptfe)材料区段，所述密封表面不具有o形环安置通道，所述提动头能通过所述阀致动器在所述阀体中移动，以在所述隔离阀关闭时将由所述ptfe材料所限定的所述密封表面保持为与相对表面密封接合，而无需o形环的介入。
18、在一些示例中，所述提动头包含凹部或台阶。
19、在一些示例中，所述凹部或台阶被配置成与所述提动阀外壳内部的匹配结构适配。
20、在一些示例中，所述提动头是完全由所述ptfe材料组成或完全由所述ptfe材料构成的单一结构。
21、在一些示例中，所述提动头与所述提动阀外壳分开形成。
22、在一些示例中，所述提动阀组件是具有与所述提动阀外壳一体成型的所述提动头的单一结构。
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1.一种隔离阀，其包括：
2.根据权利要求1所述的隔离阀，其中所述提动头是完全由所述PTFE材料组成或完全由所述PTFE材料构成的单一结构。
3.根据权利要求2所述的隔离阀，其中所述提动头不具有O形环安置通道。
4.根据权利要求1所述的隔离阀，其中所述提动头包含凹部或台阶。
5.根据权利要求1的隔离阀，其还包括提动阀组件，所述提动阀组件包含提动阀外壳和由所述提动头限定的区段。
6.根据权利要求5所述的隔离阀，其中所述提动头与所述提动阀外壳分开形成。
7.根据权利要求5所述的隔离阀，其中所述提动阀组件是具有由与所述提动阀外壳一体成型的所述提动头限定的所述区段的单一结构。
8.根据权利要求5所述的隔离阀，其中所述提动头包含被配置成与所述提动阀外壳内部的匹配结构适配的凹部或台阶。
9.一种用于隔离阀的无O形环提动头，所述隔离阀包含阀体和阀致动器，所述无O形环提动头包含：
10.根据权利要求9所述的无O形环提动头，其中所述无O形环提动头包含凹部或台阶。
11.根据权利要
12.根据权利要求9所述的无O形环提动头，其中所述隔离阀包括提动阀组件，所述提动阀组件包含提动阀外壳和所述无O形环提动头。
13.根据权利要求12所述的无O形环提动头，其中所述无O形环提动头与所述提动阀外壳分开形成。
14.根据权利要求12所述的无O形环提动头，其中所述提动阀组件是具有与所述提动阀外壳一体成型的所述无O形环提动头的单一结构。
15.根据权利要求12所述的无O形环提动头，其中所述无O形环提动头包含被配置成与所述提动阀外壳内部的匹配结构适配的凹部或台阶。
16.一种用于隔离阀的提动阀组件，所述隔离阀包括阀体和阀致动器，所述提动阀组件包括：
17.根据权利要求16所述的提动阀组件，其中所述提动头包含凹部或台阶。
18.根据权利要求17所述的提动阀组件，其中所述凹部或台阶被配置成与所述提动阀外壳内部的匹配结构适配。
19.根据权利要求16所述的提动阀组件，其中所述提动头是完全由所述PTFE材料组成或完全由所述PTFE材料构成的单一结构。
20.根据权利要求16所述的提动阀组件，其中所述提动头与所述提动阀外壳分开形成。
21.根据权利要求16所述的提动阀组件，其中所述提动阀组件是具有与所述提动阀外壳一体成型的所述提动头的单一结构。
22.一种操作隔离阀的方法，所述方法包括：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种隔离阀，其包括：
2.根据权利要求1所述的隔离阀，其中所述提动头是完全由所述ptfe材料组成或完全由所述ptfe材料构成的单一结构。
3.根据权利要求2所述的隔离阀，其中所述提动头不具有o形环安置通道。
4.根据权利要求1所述的隔离阀，其中所述提动头包含凹部或台阶。
5.根据权利要求1的隔离阀，其还包括提动阀组件，所述提动阀组件包含提动阀外壳和由所述提动头限定的区段。
6.根据权利要求5所述的隔离阀，其中所述提动头与所述提动阀外壳分开形成。
7.根据权利要求5所述的隔离阀，其中所述提动阀组件是具有由与所述提动阀外壳一体成型的所述提动头限定的所述区段的单一结构。
8.根据权利要求5所述的隔离阀，其中所述提动头包含被配置成与所述提动阀外壳内部的匹配结构适配的凹部或台阶。
9.一种用于隔离阀的无o形环提动头，所述隔离阀包含阀体和阀致动器，所述无o形环提动头包含：
10.根据权利要求9所述的无o形环提动头，其中所述无o形环提动头包含凹部或台阶。
11.根据权利要求9所述的无o形环提动头，其中所述无o形环提动头是完全由所述ptfe材料组成或完全由所述ptfe材料构成的单一结构。
12.根据权利要求9所述的无o形环提动头，其中...
【专利技术属性】
技术研发人员：亚伦·布莱克·米勒，班亚·翁森纳库姆，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：
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