【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在处理腔室内使基板干燥的技术，特别是涉及利用超临界状态的处理流体对由液膜覆盖的基板进行处理的工艺。以下示出日本专利申请的说明书、附图以及权利要求书中的公开内容通过参照而将其全部内容援引至此：jp特愿2023-138193(2023年8月28日申请)。
技术介绍
1、半导体基板、显示装置用玻璃基板等各种基板的处理工序包含利用各种处理流体对基板的表面进行处理的工序。以往以来，广泛进行了作为处理流体而使用药液或冲洗液等的液体的湿法处理。近年来，为了使该湿法处理后的基板干燥，使用了超临界状态的处理流体的处理也得到实用化。特别在具有形成有微细图案的图案形成面的基板的干燥处理中是有益的。这是因为，超临界状态的处理流体与液体相比具有表面张力低且会进入图案的间隙深处这种特性。通过使用该处理流体，能够高效地进行干燥处理。另外，还能够减小在干燥时因表面张力引起的图案塌陷的发生风险。
2、例如在jp特开2013-201302号公报所述的基板处理系统中，作为本专利技术的“湿法处理装置”的一例而设有基板显影装置。在该基板显影装置中，作为在该装置内的最终处理，相对于利用冲洗液润湿的基板供给作为本专利技术的“有机溶剂”的一例的ipa(异丙醇：isopropylalcohol)液。由此，执行ipa置换，从基板的表面除去冲洗液。另外，在基板的表面形成堆有ipa液的堆液(液盛り)状态。也就是说，包含ipa液的液膜形成为桨状。其结果为，基板的表面维持在由ipa液润湿的状态。然后，基板在维持堆液状态的情况下被基板搬送装置搬送至相当于本专利技术
技术实现思路
1、在基板显影装置或基板洗净装置等的湿法处理装置中，期望利用ipa置换将冲洗液等的液体完全从图案的内部排出。然而，有时在图案的内底面残留液体。若在残留了像这样残留的液体(以下称为“残留液”)的状态下将基板搬入基板干燥装置(超临界处理装置)并进行超临界干燥处理，则有时会产生如下的问题。也就是说，构成液膜的液体成分与超临界状态的处理流体的置换容易不彻底。因此，为了应对这个问题，考虑到使处理流体的使用量增大这样的对策。然而，这会招致运行成本的增大，并且会给社会造成很大的环境负担。
2、另外，有时即使使处理流体的使用量增大，残留液仍会直接残留在图案的内底面，这会成为图案塌陷的要因。为此，残留液的存在成为产品产量下降的主要原因之一。
3、本专利技术是鉴于上述课题而提出的，其目的在于提供如下的技术，即，在将在接受了湿法处理的基板的表面堆有有机溶剂的状态的基板从湿法处理装置搬送至超临界处理装置、并使用超临界状态的处理流体使基板干燥的基板处理系统中，能够实现在减少处理流体的消耗量且降低环境负担的同时提高产量。
4、本专利技术的一个方面为使基板干燥的基板处理方法，所述基板具有形成有图案的图案形成面，而且在图案形成面附着有液体基板，基板处理方法包括：(a)工序，在湿法处理装置中，在通过向图案形成面供给有机溶剂而将液体置换为有机溶剂之后，形成在图案形成面堆有有机溶剂的堆液状态；(b)工序，从湿法处理装置将堆液状态的基板搬送至超临界处理装置；(c)工序，在超临界处理装置中，通过使堆液状态的图案形成面与超临界状态的处理流体接触，使基板干燥；以及(d)工序，在使图案形成面与超临界状态的处理流体接触之前，一边维持堆液状态一边对基板附加振动，由此使在图案残留的液体与有机溶剂混合。
5、另外，本专利技术的另一方面为使基板干燥的基板处理系统，基板具有形成有图案的图案形成面，而且在图案形成面附着有液体，基板处理系统具备：湿法处理装置，其通过向图案形成面供给有机溶剂而将液体置换为有机溶剂之后，形成在图案形成面堆有有机溶剂的堆液状态；超临界处理装置，其通过使堆液状态的图案形成面与超临界状态的处理流体接触，使基板干燥；基板搬送装置，其从湿法处理装置向超临界处理装置搬送堆液状态的基板；以及控制装置，其以执行在湿法处理装置中在形成堆液状态之后对基板施加振动的第1振动附加处理、在基板搬送装置中对基板施加振动的第2振动附加处理、以及在超临界处理装置中在使图案形成面与超临界状态的处理流体接触之前对基板施加振动的第3振动附加处理中的至少一个处理的方式，控制湿法处理装置、搬送装置以及超临界处理装置。
6、在像这样构成的专利技术中，在将附着于基板的图案形成面的液体置换为有机溶剂之后，有机溶剂的液膜形成为堆液状态(桨状态)。在此，若在图案的内底面残留液体，则该残留液会成为招致处理流体的消耗增大或产品的产量下降的要因。于是，在本专利技术中，在使基板的图案形成面与超临界状态的处理流体接触之前，对堆液状态的基板附加振动。由此，在图案残留的液体移流扩散而与有机溶剂混合。其结果为，利用在图案的内底面不存在残留液的状态、即所谓的无残留液执行基于超临界状态的处理流体的干燥处理。
7、专利技术效果
8、如上所述，根据本专利技术能够利用无残留液执行超临界干燥处理。其结果为，能够减少处理流体的消耗量并且提高产量。
9、上述本专利技术的各方面所具有的多个构成要素并非全部是必须的，为了解决上述课题的一部分或者全部、或者达成在本说明书中记载的效果的一部分或者全部，能够适当针对所述多个构成要素的一部分的构成要素进行变更、削除、替换成新其他构成要素、删除限定内容的一部分。另外，为了解决上述课题的一部分或者全部、或者为了达成在本说明书中记载的效果的一部分或者全部，还能够将上述本专利技术的一方面所包含的技术特征的一部分或者全部与上述的本专利技术的其他方面所包含的技术特征的一部分或者全部组合来作为本专利技术的独立的一个方式。
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1.一种基板处理方法，使基板干燥，所述基板具有形成有图案的图案形成面，而且在所述图案形成面附着有液体，所述基板处理方法的特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，
5.根据权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，
6.根据权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于，
9.根据权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于，
10.根据权利要求8或者9所述的基板处理方法，其特征在于，
11.根据权利要求8或者9所述的基板处理方法，其特征在于，
12.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，
13.根据权利要求12所述的基板处理方法，其特征在于，
14.根据权利要求12所述的基板处理方法，其特征在于，
15.一种基板处理系统，使基板干燥，所述基板具有形成有图案的图案形成面，而且在所述图案形成面附着有液体，所述基板处理系统的特征在于，具备：
...【技术特征摘要】
1.一种基板处理方法，使基板干燥，所述基板具有形成有图案的图案形成面，而且在所述图案形成面附着有液体，所述基板处理方法的特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，
5.根据权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，
6.根据权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的基板处理方法，其...
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