【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种晶圆传输机械手的清洗装置。
技术介绍
1、晶圆传输机器人(wtr)用于在不同工艺模组之间按工序快速、高效、平稳的转移晶圆。晶圆传输机器人包括用于夹持晶圆的晶圆传输机械手。在湿法工艺中，晶圆传输机械手在多个工艺模组之间转移晶圆时容易造成交叉污染。因此，晶圆传输机械手在抓取湿法工艺(例如是湿法清洗工艺)处理的晶圆后需要进行清洗。
2、如图1所示，现有的清洗装置10通常包括贮存清洗液1011的清洗槽101、喷液嘴102和喷气嘴103。该清洗装置10的清洗槽101包括两个敞口槽，槽口1012开口向上，分别安装于一外槽中。进液组件向清洗槽101注入清洗液1011。槽口1012上方设置有用于喷淋清洗液1011的喷液嘴102，喷液嘴102上方设置有喷气嘴103，喷气嘴103喷射气体以吹干晶圆传输机械手104。
3、清洗晶圆传输机械手104时，清洗液1011充满清洗槽101，并且进液组件持续向清洗槽101注入清洗液1011，喷液嘴102向晶圆传输机械手104喷淋清洗液1011，清洗槽101内的清洗液1011不断流动并且不断从槽口1012溢出到外槽，经外槽的排液口排出。晶圆传输机械手104自槽口1012进入清洗槽101中，并且按照预先设计好的运动轨迹上下往复运动。由于清洗槽101上方存在其他部件的干涉，因此晶圆传输机械手104上下往复运动的行程是有限的，晶圆传输机械手104只有部分浸没在清洗槽101内的清洗液1011中，被清洗槽101内不断流动的清洗液1011有效清洗；在晶圆
4、喷气嘴103在使用大流量的气体干燥晶圆传输机械手104的过程中，会产生杂乱的气流和水汽。然而，现有的清洗装置10的清洗槽101是敞口槽，且喷液嘴102和喷气嘴103设置于槽口1012的上方，如图1中箭头200所示，杂乱的气流和水汽会从清洗槽101的槽口1012上方向外溢出，一方面，杂乱的气体溢流会造成等待区域的晶圆w出现晃动；另一方面，带出的水汽会造成等待区域的晶圆w表面产生水渍。不仅如此，从槽口1012上方向外溢出的杂乱的气流和水汽也有可能对工艺设备内的其他工艺模组产生不良影响。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种晶圆传输机械手的清洗装置，用于解决现有技术中晶圆传输机械手的清洗装置在使用大流量气体干燥晶圆传输机械手的过程中，气体溢流杂乱，且容易带出水汽，影响等待区域的晶圆，造成等待区域的晶圆晃动以及晶圆表面产生水渍，且有可能对工艺设备内的其他工艺模组产生不良影响的技术问题。
2、为实现上述目的及其它相关目的，本专利技术提供了一种晶圆传输机械手的清洗装置，包括：清洗槽，所述清洗槽的内部形成有容纳清洗液和所述晶圆传输机械手的清洗空间；干燥部，设置于所述清洗槽的内部，用于干燥所述晶圆传输机械手；所述清洗槽进一步设置有出口，所述出口位于所述干燥部和所述清洗液的液面之间，所述出口适于接入一排风系统。
3、优选地，所述排风系统为厂务排放系统。
4、优选地，所述清洗槽的槽口配置有遮盖所述槽口的挡板，所述挡板上设置有用于所述晶圆传输机械手进出所述清洗槽的缺口。
5、优选地，所述清洗槽设置有溢流口，用于限定所述清洗槽内部的所述清洗液的液面高度，所述清洗液自所述溢流口溢流出所述清洗槽。
6、优选地，所述清洗槽的至少一个槽壁低于所述出口，所述槽壁的上方形成所述溢流口。
7、在其他可能的实施例中，所述清洗槽的至少一个槽壁上开设所述溢流口。
8、优选地，所述晶圆传输机械手包括两个机械夹爪，所述清洗槽包括与两个所述机械夹爪对应的两个槽体，两个所述槽体的内部分别形成有容纳所述清洗液和一个所述机械夹爪的清洗空间。
9、优选地，所述干燥部为喷气管，所述喷气管上设置有多个喷气嘴，所述喷气管分布于每个所述槽体内部的一侧或者对应分布于每个所述槽体内部的两侧。
10、优选地，每个所述槽体的两侧分别设置一个所述出口。
11、优选地，进一步包括喷液部，所述喷液部设置于所述清洗槽的内部，用于向所述晶圆传输机械手喷淋所述清洗液
12、如上所述，本专利技术提供一种晶圆传输机械手的清洗装置，具有以下有益效果：
13、1)通过将干燥部设置在清洗槽的内部，在清洗槽设置有出口，出口与一排风系统连接，排出清洗过程中产生的杂乱气流和水汽，有效减少气流和水汽从槽口上方外溢；
14、2)在清洗槽的槽口处设置挡板，在挡板上设置用于晶圆传输机械手进出的缺口，不仅能阻挡气流和水汽外溢，而且能辅助优化出口的排出效果，进一步减少气流和水汽外溢；
15、3)出口接入厂务排放系统，将厂务排放系统作为排风系统，无需设置额外的排风系统，有效降低改造成本。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述排风系统为厂务排放系统。
3.根据权利要求1所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的槽口配置有遮盖所述槽口的挡板，所述挡板上设置有用于所述晶圆传输机械手进出所述清洗槽的缺口。
4.根据权利要求1所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽设置有溢流口，用于限定所述清洗槽内部的所述清洗液的液面高度，所述清洗液自所述溢流口溢流出所述清洗槽。
5.根据权利要求4所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的至少一个槽壁低于所述出口，所述槽壁的上方形成所述溢流口。
6.根据权利要求4所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的至少一个槽壁上开设所述溢流口。
7.根据权利要求1所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述晶圆传输机械手包括两个机械夹爪，所述清洗槽包括与两个所述机械夹爪对应的两个槽体，两个所述槽体的内部分别形成有容纳所述清洗液和一个所述
8.根据权利要求7所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述干燥部为喷气管，所述喷气管上设置有多个喷气嘴，所述喷气管分布于每个所述槽体内部的一侧或者对应分布于每个所述槽体内部的两侧。
9.根据权利要求7所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，每个所述槽体的两侧分别设置一个所述出口。
10.根据权利要求1至9任一项所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，进一步包括喷液部，所述喷液部设置于所述清洗槽的内部，用于向所述晶圆传输机械手喷淋所述清洗液。
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述排风系统为厂务排放系统。
3.根据权利要求1所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的槽口配置有遮盖所述槽口的挡板，所述挡板上设置有用于所述晶圆传输机械手进出所述清洗槽的缺口。
4.根据权利要求1所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽设置有溢流口，用于限定所述清洗槽内部的所述清洗液的液面高度，所述清洗液自所述溢流口溢流出所述清洗槽。
5.根据权利要求4所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的至少一个槽壁低于所述出口，所述槽壁的上方形成所述溢流口。
6.根据权利要求4所述的晶圆传输机械手的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的至少...
【专利技术属性】
技术研发人员：王晖，向阳，初振明，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。