【技术实现步骤摘要】
本说明书涉及芯片，更具体地说，本申请涉及一种标准单元生成方法及相关设备。
技术介绍
1、随着半导体技术的不断演进，芯片制造工艺朝着更小的特征尺寸发展，finfet 工艺应运而生并成为现代集成电路制造的关键技术。finfet 工艺兴起以克服传统平面工艺局限。其三维鳍状晶体管虽提升性能与功耗表现，但给 stdcell 开发带来挑战。
2、工艺上，finfet 结构复杂，电学特性分析难，制造精度要求高，影响单元性能且协调工艺与物理实现不易。eda 工具繁杂，逻辑到验证各环节工具功能、格式、操作皆不同，协同困难，数据转换适配繁琐。开发流程串行且长，各环节相互依存，一环出错需回溯，如物理设计与时序分析的迭代，致周期延长。开发还高度依赖专家经验，因工艺复杂，专家需权衡晶体管参数并精通工具与流程，既提升技术门槛，又限制团队规模与效率。总之finfet工艺中stdcell开发的所面临的工艺复杂、eda工具繁杂、开发流程长、依赖于高级专家经验等问题亟待解决。
技术实现思路
1、在
技术实现思路
部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本申请的
技术实现思路
部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。
2、第一方面，本申请提出一种标准单元生成方法，包括：
3、读取目标工艺的工艺文件和需要生成的标准单元的行为描述；
4、针对需要调用的底层工具，生成所述
5、根据所述标准单元的目标要求和所述目标工艺，确定执行策略，所述执行策略为与所述标准单元相关的多级参数的组合；
6、通过所述适配器调用所述底层工具，以使所述底层工具根据所述执行策略中的各级参数、所述工艺文件和所述行为描述进行执行，生成所述标准单元。
7、在一种可行的实施方式中，根据需要生成的标准单元的目标要求和所述目标工艺，确定执行策略，包括：根据需要生成的所述标准单元的目标要求，确定一级策略参数；根据所述一级策略参数和所述目标工艺，确定二级设计参数；根据所述一级策略参数和所述二级设计参数，确定所述底层工具的三级工具参数，并将所述一级策略参数、所述二级设计参数与所述三级工具参数的组合作为所述执行策略。
8、在一种可行的实施方式中，针对需要调用的底层工具，生成所述底层工具对应的适配器，包括：对于需要调用的底层工具，生成对应的脚本语言；对所述脚本语言进行封装，得到所述脚本语言对应的封装体，并根据所述封装体，建立所述底层工具对应的适配器。
9、在一种可行的实施方式中，所述方法还包括：在所述底层工具进行执行的过程中，缓存每个执行节点对应的输出，若当前执行节点出现错误，则根据上一执行节点对应的输出回退至所述上一执行节点。
10、在一种可行的实施方式中，在所述底层工具进行执行的过程中，若发生报警，则生成报警信息，并将所述报警信息记录至日志文件中，以便用户对所述报警信息进行查看。
11、在一种可行的实施方式中，所述方法还包括：获取所述标准单元对应的结果文件，所述结果文件是所述底层工具根据所述执行策略和所述工艺文件进行执行所生成的文件；对所述结果文件进行统一管理操作，所述统一管理操作包含有检查校验操作、读写权限动态调整操作、文件流程管理操作以及超大文本优化操作。
12、在一种可行的实施方式中，所述方法还包括：若生成的所述标准单元对于所述目标要求的满足率超过预设阈值，则将所述执行策略作为默认策略保存至策略库中，以更新所述策略库。
13、第二方面、本申请提出一种标准单元生成装置，包括：
14、读取单元，配置为读取目标工艺的工艺文件和需要生成的标准单元的行为描述；
15、生成单元，配置为针对需要调用的底层工具，生成所述底层工具对应的适配器；
16、确定单元，配置为根据所述标准单元的目标要求和所述目标工艺，确定执行策略，所述执行策略为与所述标准单元相关的多级参数的组合；
17、调用单元，配置为通过所述适配器调用所述底层工具，以使所述底层工具根据所述执行策略中的各级参数、所述工艺文件和所述行为描述进行执行，生成所述标准单元。
18、第三方面，一种电子设备，包括：存储器、处理器以及存储在上述存储器中并可在上述处理器上运行的计算机程序，上述处理器用于执行存储器中存储的计算机程序时实现如上述的第一方面任一项的标准单元生成方法的步骤。
19、第四方面，本申请还提出一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，上述计算机程序被处理器执行时实现第一方面任一项的标准单元生成方法。
20、综上，本申请提出的技术方案，通过读取工艺文件和需要生成的标准单元的行为描述，借助适配器转换使底层工具能精准处理工艺信息和设计要求，有效应对工艺复杂性；针对繁杂底层工具生成对应适配器，将执行策略转化为底层工具所需格式，实现无缝对接与协同，降低工具差异带来的难度；依据目标工艺与目标要求确定多级参数组合的执行策略，经适配器调用底层工具依此执行，优化开发路径，避免反复试错，显著缩短开发流程时长；且方案将流程规范化、自动化，减少对高级专家经验的依赖，让经验不足的工程师也可依流程开展工作，降低人力依赖、促进知识共享并减少人员流动风险，全方位解决了标准单元开发面临的诸多难题。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种标准单元生成方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据需要生成的标准单元的目标要求和所述目标工艺，确定执行策略，包括：
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，针对需要调用的底层工具，生成所述底层工具对应的适配器，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
8.一种标准单元生成装置，其特征在于，包括：
9.一种电子设备，包括：存储器和处理器，其特征在于，所述处理器用于执行存储器中存储的计算机程序时实现如权利要求1-7中任一项所述的标准单元生成方法。
10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1-7中任一项所述的标准单元生成方法。
【技术特征摘要】
1.一种标准单元生成方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据需要生成的标准单元的目标要求和所述目标工艺，确定执行策略，包括：
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，针对需要调用的底层工具，生成所述底层工具对应的适配器，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
6.根据权利要求1所述的方法，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘丹，
申请(专利权)人：北京汤谷软件技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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