【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体加工，具体涉及一种用于光刻对准测量的分段式频域回归网络及其使用方法。
技术介绍
1、光刻对准是光刻工艺中的一个关键步骤，其目的是确保掩膜上的图形与硅片上的图形准确对齐，以保证曝光后图形之间的准确套刻。在实现本专利技术过程中，专利技术人发现现有光刻对准测量算法至少存在如下问题：无法解决大量程测量和高精度测量之间的矛盾；无法自动拟合和消除各类误差源的误差模型，导致测量误差较大；无法有效解调复杂对准信号，导致算法带来额外的测量误差；无法有效应对测量系统中的非线性量，导致算法策略精度存在极限。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此，本专利技术目的在于提供一种用于光刻对准测量的分段式频域回归网络及其使用方法。
2、本专利技术所采用的技术方案为：
3、一种用于光刻对准测量的分段式频域回归网络，包括：
4、预处理模块，包括小波变换和傅里叶变换；
5、孪生频域回归网络，包括孪生模块和数据融合模块，孪生模块用于从不同频谱图中提取粗糙和精细的错位信息；数据融合模块用于通过整合孪生模块的输出计算偏移量。
6、优选地，小波变换：[ima，imh，imv，imd]＝dwt2(im，wname)，
7、其中，ima，imh，imv和imd分别为对应图像的低频、水平高频、垂直高频和对角高频分量，dwt2表示单层二维离散小波变换，wname为所使用的小波核名称。
8、傅里叶变换
9、幅度iamp＝log(abs(fftshift(fft(im·))))；
10、相位ipha＝angle(fftshift(fft(im·))),
11、其中，im为ima，imh，imv或imd中的任一分量，fft为快速傅里叶变换，fftshift用于将零频分量移至数组中心，abs用于幅度提取，angle用于相位提取。
12、优选地，孪生模块包括四个分支，每个分支包括一个主干分支和一个掩码分支，主干分支用于特征提取，掩码分支用于模拟注意力机制。所述主干分支包括残差单元，掩码分支包括编码器-解码器结构。数据融合模块包括两个全连接层，两个全连接层的单元数分别为4和2。
13、一种上述的分段式频域回归网络的使用方法，包括：
14、s1、将硅片和掩膜重叠放置，让位移台开始做步进扫描，在每一个扫描位置利用相机对形成的莫尔条纹进行采集成像，以此形成数据集；
15、s2、将图像作为输入图像，位移台的位置值作为真值，输入频域回归网络进行训练，通过反复的训练使损失最小，以此完成训练；
16、s3、利用训练好的频域回归网络对实际采集到的对准信号进行回归预测。
17、优选地，所述掩膜表面刻蚀有线形或圆环形的对准标记。所述步进扫描为一维扫描或二维扫描。
18、本专利技术通过结合小波变换和孪生频域回归网络构成的分段式频域回归网络来对数据进行处理，实现在毫米量级下的亚纳米级光刻对准，有益效果为：
19、小波变换可以自动实现采集信号在不同量程下的分段划分，过程具有自适应性，无需人为操作；
20、孪生频域回归网络对不同量程范围内的数据自动拟合频域滤波器，通过分段式提取有效信息与特征融合，实现大量程下的高精度测量；
21、可以处理各类复杂对准信号，可以有效应对策略系统中的非线性问题；
22、该方法采用全局信号进行对准，鲁棒性较好，对光束质量和测量环境没有苛刻的要求；对准速度快，对准效率高。
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1.一种用于光刻对准测量的分段式频域回归网络，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的分段式频域回归网络，其特征在于：
3.如权利要求2所述的分段式频域回归网络，其特征在于：
4.如权利要求1所述的分段式频域回归网络，其特征在于：
5.如权利要求4所述的分段式频域回归网络，其特征在于：所述主干分支包括残差单元，掩码分支包括编码器-解码器结构。
6.如权利要求4或5所述的分段式频域回归网络，其特征在于：
7.一种如权利要求1-6任一项所述的分段式频域回归网络的使用方法，其特征在于，包括：
8.如权利要求7所述的使用方法，其特征在于：所述掩膜表面刻蚀有线形或圆环形的对准标记。
9.如权利要求7所述的使用方法，其特征在于：所述步进扫描为一维扫描或二维扫描。
【技术特征摘要】
1.一种用于光刻对准测量的分段式频域回归网络，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的分段式频域回归网络，其特征在于：
3.如权利要求2所述的分段式频域回归网络，其特征在于：
4.如权利要求1所述的分段式频域回归网络，其特征在于：
5.如权利要求4所述的分段式频域回归网络，其特征在于：所述主干分支包括残差单元，掩码分支包括编码...
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