【技术实现步骤摘要】
本申请属于光刻仿真，尤其涉及一种光刻胶仿真模型的评估方法、设备、介质及产品。
技术介绍
1、在集成电路制造中，高性能芯片的结构越来越复杂，线宽也在不断地减小。随着线宽的减小，光学邻近效应会导致光罩图形在光刻胶上的成像差距逐渐增大。因此，对光学邻近效应的影响进行修正显得至关重要。
2、现有方法中，利用光刻胶仿真模型修正光学邻近效应在光刻过程中的影响。而在创建光刻胶仿真模型中，选取的光学建模参数往往会存在对于某些方向的测试版图占比偏重过大的情形，易导致光刻胶仿真模型对于这些占比偏重过大方向的测试版图出现过拟合现象。
3、然而，现有方法无法准确识别创建的光刻胶仿真模型是否存在过拟合现象，对光刻胶仿真模型评估的准确性不高。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了一种光刻胶仿真模型的评估方法、设备、介质及产品，能够提高对光刻胶仿真模型评估的准确性。
2、本申请实施例的一方面，提供一种光刻胶仿真模型的评估方法，包括：
3、获取待评估光刻胶仿真模型的光刻胶参数与光学建模文件，光学建模文件中包括用于构建待评估光刻胶仿真模型的原始光学建模参数；
4、根据光刻胶参数与光学建模文件，构建旋转光刻胶仿真模型，旋转光刻胶仿真模型为对原始光学建模参数旋转目标角度后的旋转光学建模参数进行光刻胶成像仿真的模型；
5、将旋转光学建模参数输入至旋转光刻胶仿真模型中，得到旋转图形尺寸；
6、将旋转图形尺寸与基准图形尺寸进行比较，得到尺寸差
7、根据尺寸差值，评估待评估光刻胶仿真模型是否存在过拟合现象。
8、本申请实施例的一方面，提供一种光刻胶仿真模型的评估装置，包括：
9、参数获取模块，用于获取待评估光刻胶仿真模型的光刻胶参数与光学建模文件，光学建模文件中包括用于构建待评估光刻胶仿真模型的原始光学建模参数；
10、模型构建模块，用于根据光刻胶参数与光学建模文件，构建旋转光刻胶仿真模型，旋转光刻胶仿真模型为对原始光学建模参数旋转目标角度后的旋转光学建模参数进行光刻胶成像仿真的模型；
11、尺寸确定模块，用于将旋转光学建模参数输入至旋转光刻胶仿真模型中，得到旋转图形尺寸；
12、差值确定模块，用于将旋转图形尺寸与基准图形尺寸进行比较，得到尺寸差值，基准图形尺寸为将原始光学建模参数输入至待评估光刻胶仿真模型中得到的图形尺寸；
13、模型评估模块，用于根据尺寸差值，评估待评估光刻胶仿真模型是否存在过拟合现象。
14、本申请实施例的一方面，提供一种电子设备，该设备包括：存储器及存储在存储器上并可在处理器上运行的程序或指令，程序或指令被处理器执行时实现如上述本申请实施例的任意一方面提供的光刻胶仿真模型的评估方法。
15、本申请实施例的一方面，提供一种可读存储介质，可读存储介质上存储程序或指令，程序或指令被处理器执行时实现如上述本申请实施例的任意一方面提供的光刻胶仿真模型的评估方法。
16、本申请实施例的一方面，提供一种计算机程序产品，计算机程序产品中的指令由电子设备的处理器执行时，使得电子设备执行如上述本申请实施例的任意一方面提供的光刻胶仿真模型的评估方法。
17、本申请实施例提供的光刻胶仿真模型的评估方法中，根据待评估光刻胶仿真模型的光刻胶参数与光学建模文件，构建旋转光刻胶仿真模型，用于对原始光学建模参数旋转目标角度后的旋转光学建模参数进行光刻胶成像仿真。如此，通过旋转光刻胶仿真模型，可以精准确定旋转目标角度后的光学建模参数与旋转前的光学建模参数分别进行光刻胶成像仿真得到的图形尺寸之间是否存在偏差，从而验证待评估光刻胶仿真模型是否符合旋转对称性。通过验证目标光刻胶仿真模型是否符合旋转对称性，精准判断出待评估光刻胶仿真模型是否会出现过拟合现象。如此，本申请实施例通过旋转光刻胶仿真模型，能够准确识别出待评估光刻胶仿真模型是否存在过拟合现象，提高对光刻胶仿真模型评估的准确性。
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1.一种光刻胶仿真模型的评估方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述光刻胶参数与所述光学建模文件，构建旋转光刻胶仿真模型，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述旋转光学建模参数包括旋转测试版图、旋转量测数据以及旋转测试光源；
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述获取所述旋转测试光源对应的旋转交叉传感系数，包括：
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述对所述旋转测试版图、所述旋转量测数据以及所述旋转交叉传感系数进行光学仿真，构建所述旋转光学仿真模型，包括：
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将所述旋转光学建模参数输入至所述旋转光刻胶仿真模型中，得到旋转图形尺寸，包括：
7.根据权利要求1-6任意一项所述的方法，其特征在于，在对所述光学建模文件中的光学建模参数旋转多个目标角度的情况下；
8.一种电子设备，其特征在于，所述设备包括：处理器以及存储有计算机程序指令的存储器；
9.一种计算机可读存储介质，其特征
10.一种计算机程序产品，其特征在于，所述计算机程序产品中的指令由电子设备的处理器执行时，使得所述电子设备执行如权利要求1-7任意一项所述的光刻胶仿真模型的评估方法。
...【技术特征摘要】
1.一种光刻胶仿真模型的评估方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述光刻胶参数与所述光学建模文件，构建旋转光刻胶仿真模型，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述旋转光学建模参数包括旋转测试版图、旋转量测数据以及旋转测试光源；
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述获取所述旋转测试光源对应的旋转交叉传感系数，包括：
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述对所述旋转测试版图、所述旋转量测数据以及所述旋转交叉传感系数进行光学仿真，构建所述旋转光学仿真模型，包括：
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将所述旋转光学建模参...
【专利技术属性】
技术研发人员：施智诚，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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