System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法技术_技高网

一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法技术

技术编号:44482252 阅读:4 留言:0更新日期:2025-03-04 17:49
本发明专利技术涉及半导体技术领域。一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一,将待清洗的聚四氟乙烯过滤芯浸泡于适量异丙醇中,使其润湿;步骤二,将聚四氟乙烯过滤芯浸泡于适量超纯水溶液中;步骤三,在聚四氟乙烯过滤芯装入循环系统后,向循环系统中加入适量盐酸水溶液进行长时间循环冲洗;步骤四,接着将酸液排出后向循环系统中加入纯水进行长时间循环冲洗;步骤五,在洁净室中进行冲洗与湿包装完成清洗。本发明专利技术通过建立一个酸循环系统,对滤芯进行长时间的循环清洗,以确保滤芯的初始和长期的清洁度。更能够满足聚四氟乙烯过滤芯的实际生产需求,减少使用过程中的金属析出。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体,具体涉及一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法


技术介绍

1、半导体器件,尤其是高密度的集成电路,易受到各种污染的损害。为了减少由于污染而造成的产量损失,半导体厂商对设备厂商提出了严格的纯度要求。随着器件的复杂性的增加和特征尺寸的减小,对微污染的要求越高。半导体设备在微电路生产过程中的主要污染物:颗粒、金属和有机物。来自液体传输系统中滤芯的污染物最终会以固体颗粒的形式或通过化学反应以离子污染的形式到达加工环境。因此,液体传输系统中的滤芯在用于生产设备之前必须确保其清洁度。

2、液体传输系统中的滤芯在生产加工过程中会有颗粒、金属和有机物的残留。现在采用的方法如下:第一步,使用有机溶剂浸泡,随后纯水浸泡;第二步,在酸性药液中长时间浸泡;第三步,使用纯水进行物理冲洗。但是上述方法无法完全去除滤芯中残留的颗粒与金属,无法满足实际生产制造需求。


技术实现思路

1、针对现有技术存在的问题,本专利技术提供一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,已解决上述至少一个技术问题。

2、本专利技术的技术方案是:一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于,包括如下步骤:

3、步骤一,将待清洗的聚四氟乙烯过滤芯浸泡于适量异丙醇中,使其润湿;

4、步骤二,将聚四氟乙烯过滤芯浸泡于适量超纯水溶液中;

5、步骤三,在聚四氟乙烯过滤芯装入循环系统后,向循环系统中加入适量盐酸水溶液进行长时间循环冲洗;

6、步骤四,接着将酸液排出后向循环系统中加入纯水进行长时间循环冲洗;

7、步骤五,在洁净室中进行冲洗与湿包装完成清洗。

8、本专利技术通过建立一个酸循环系统,对滤芯进行长时间的循环清洗,以确保滤芯的初始和长期的清洁度。更能够满足聚四氟乙烯过滤芯的实际生产需求,减少使用过程中的金属析出,使得清洗后的滤芯能够应用于高密度的集成电路生产中。同时第二步酸循环冲洗与第三步纯水循环冲洗均在酸循环系统中完成,不需要反复拿取滤芯,减少外界污染。减少金属析出,达到金属总析出小于10μ g/l的要求。第二步酸循环冲洗与第三步纯水循环冲洗均在酸循环系统中完成,不需要反复拿取滤芯,减少操作步骤。

9、进一步优选,步骤一中的浸泡时长为30分钟,步骤二中的浸泡时长为10分钟,步骤三中循环时间24小时,步骤始终循环时间24小时。

10、长时间的循环清洗,以确保滤芯的初始和长期的清洁度。

11、进一步优选,步骤三中盐酸水溶液的浓度为10%。

12、进一步优选,所述循环系统包括循环泵、液体储存罐、进气管路、循环管路、管路控制阀门、浮子流量计、压力传感器以及相应的治具,并预留采样口。

13、能够保证液体在整个系统中的循环流动以及实时采样检测。

14、进一步优选,所述循环系统中还设有一排液口。

15、可以在进行下一步操作时排出系统内残余液体。

16、进一步优选,所述液体储存罐上开设有一排气口和进气口。

17、用于注入气体和排出多余气体,气体有助于促进罐内液体的活性。

18、进一步优选,所述液体储存罐的顶端开设有三个开口,所述液体储存罐的底部开设有两个开口。

19、可以方便对液体储存罐进行操作。

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【技术保护点】

1.一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于:步骤一中的浸泡时长为30分钟,步骤二中的浸泡时长为10分钟,步骤三中循环时间24小时,步骤始终循环时间24小时。

3.根据权利要求1所述的一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于:步骤三中盐酸水溶液的浓度为10%。

4.根据权利要求1所述的一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于:所述循环系统包括循环泵、液体储存罐、进气管路、循环管路、管路控制阀门、浮子流量计、压力传感器以及相应的治具,并预留采样口。

5.根据权利要求4所述的一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于:所述循环系统中还设有一排液口。

6.根据权利要求4所述的一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于:所述液体储存罐上开设有一排气口和进气口。

7.根据权利要求4所述的一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于:所述液体储存罐的顶端开设有三个开口,所述液体储存罐的底部开设有两个开口。

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【技术特征摘要】

1.一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于:步骤一中的浸泡时长为30分钟,步骤二中的浸泡时长为10分钟,步骤三中循环时间24小时,步骤始终循环时间24小时。

3.根据权利要求1所述的一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于:步骤三中盐酸水溶液的浓度为10%。

4.根据权利要求1所述的一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法,其特征在于:所述循环系统包括循...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈凯旋贺贤汉徐忆濛张正伟蒋立峰王成明
申请(专利权)人:上海富乐德智能科技发展有限公司
类型:发明
国别省市:

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