【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于对金属材料的镀覆，具体涉及以镀覆工艺为特征的，尤其涉及一种镀膜用进出料压力平衡方法以及应用该方法的镀膜设备。
技术介绍
1、在镀膜技术中，镀膜的基板一般经过如下工艺：
2、1、将基板送入常压的装载腔；
3、2、将真空的进料平衡腔与装载腔平衡压力后接收基板；
4、3、对进料平衡腔抽真空后，将基板送入工艺腔内镀膜；
5、4、将镀膜基板送入真空的进料平衡腔内；
6、5、将卸载腔与真空的进料平衡腔平衡压力后接收基板；
7、6、对卸载腔回填气体以取出镀膜基板。
8、为了加快整个工艺的流程，在相关技术中，在装载腔与真空的进料平衡腔平衡压力之前，会先对装载腔抽取一定气压，以及在卸载腔与真空的出料平衡腔平衡压力之前，也会对卸载腔抽取一定气压。
9、但是，在上述方案中，需要通过真空泵对装载腔和卸载腔进行抽气；同时，在对卸载腔进行气体回填时，所需的气体量较大，造成回填时间较长且成本较较高。
10、因此，如何缩短在对卸载腔进行气体回填的时间以及回填量是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
11、需要说明的是，本
技术介绍
部分中公开的以上信息仅用于理解本申请构思的
技术介绍
，因此，并不认为上述描述构成现有技术的信息。
技术实现思路
1、本公开实施例至少提供一种镀膜用进出料压力平衡方法以及应用该方法的镀膜设备。
2、第一方面，本公开实施例提供了一种镀膜用进出料压力平衡方
3、在一种可选的实施方式中，所述步骤s8的方法包括：通过循环步骤s2至步骤s7若干次以后，使补偿管以一稳定压力与出料平衡腔进行压力平衡，随后使出料平衡腔再次与卸载腔进行压力平衡，以提高卸载腔的气体回填压力起点。
4、在一种可选的实施方式中，所述步骤s7的方法包括：通过向卸载腔回填氮气使卸载腔解除负压，以送出镀膜基板；以及通过真空泵使出料平衡腔恢复真空状态，以等待接收新的镀膜基板。
5、在一种可选的实施方式中，所述步骤s2的方法包括：打开装载腔的相应门阀；将基板送入装载腔后关闭相应门阀；打开补偿管与装载腔之间的第一角阀，使装载腔内高压的气体流入低压的补偿管中以平衡压力；装载腔与补偿管平衡压力后关闭第一角阀。
6、在一种可选的实施方式中，所述步骤s5的方法包括：打开出料平衡腔的相应门阀；将工艺腔内的镀膜基板送入出料平衡腔后关闭相应门阀；打开补偿管与出料平衡腔之间的第二角阀，使补偿管内高压的气体流入低压的出料平衡腔中以平衡压力；出料平衡腔与补偿管平衡压力后关闭第二角阀。
7、第二方面，本公开实施例还提供一种应用镀膜用进出料压力平衡方法的镀膜设备，其包括：镀膜区，通过相应门阀隔开以形成若干腔室，且包括：装载腔、进料平衡腔、出料平衡腔、卸载腔；补偿管，分别与装载腔、出料平衡腔相连；真空泵；以及控制模块，被配置为控制真空泵使进料平衡腔、出料平衡腔、补偿管抽至真空状态；其中，在装载腔接收基板后，所述装载腔先与补偿管平衡压力后，再与进料平衡腔平衡压力；以及在出料平衡腔接收镀膜基板后，所述出料平衡腔先与补偿管平衡压力后，再与卸载腔平衡压力。
8、在一种可选的实施方式中，所述镀膜设备还包括：回填泵，分别与装载腔和卸载腔相连，且与控制模块电性连接；其中，所述控制模块还被配置为控制回填泵向装载腔和卸载腔内回填氮气以解除负压。
9、在一种可选的实施方式中，所述补偿管通过第一管道与装载腔相连，且第一管道上设置有第一角阀；所述补偿管通过第二管道与出料平衡腔相连，且第二管道上设置有第二角阀。
10、在一种可选的实施方式中，所述装载腔与进料平衡腔通过第三管道相连，且第三管道上设置有进料平衡阀；以及所述出料平衡腔与卸载腔通过第四管道相连，且第四管道上设置有出料平衡阀。
11、在一种可选的实施方式中，所述镀膜区还包括：工艺腔；所述工艺腔位于进料平衡腔和出料平衡腔之间，以接收基板进行镀膜后送出。
12、本专利技术的有益效果是，本镀膜用进出料压力平衡方法中当基板进入装载腔后，将常压的装载腔后与真空的补偿管进行压力平衡，使装载腔内高压的气体流入低压的补偿管中，以此代替现有技术中采用真空泵对装载腔抽取一定气压的操作，不仅不需要使用真空泵，而且高压往低压走速度更快，完成此操作后的补偿管中已经不再是真空状态，而是存在一定的压强；当基板进入出料平衡腔后，将不再是真空状态的补偿管与真空状态的出料平衡腔进行压力平衡，使补偿管内高压的气体流入出料平衡腔中，随后将不再是真空状态的出料平衡腔与常压状态的卸载腔进行压力平衡，此时卸载腔的压力相对于采用现有技术操作后的更高，所以当对卸载腔进行氮气回填时采用的氮气量也更少。
13、本专利技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
14、为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，本文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
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1.一种镀膜用进出料压力平衡方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的镀膜用进出料压力平衡方法，其特征在于，
3.如权利要求1所述的镀膜用进出料压力平衡方法，其特征在于，
4.如权利要求1所述的镀膜用进出料压力平衡方法，其特征在于，
5.如权利要求1所述的镀膜用进出料压力平衡方法，其特征在于，
6.一种应用如权利要求1所述的镀膜用进出料压力平衡方法的镀膜设备，其特征在于，包括：
7.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，还包括：
8.如权利要求7所述的镀膜设备，其特征在于，
9.如权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，
10.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种镀膜用进出料压力平衡方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的镀膜用进出料压力平衡方法，其特征在于，
3.如权利要求1所述的镀膜用进出料压力平衡方法，其特征在于，
4.如权利要求1所述的镀膜用进出料压力平衡方法，其特征在于，
5.如权利要求1所述的镀膜用进出料压力平衡方法，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：李中清，陈斌，化冬明，庄正军，上官泉元，
申请(专利权)人：常州比太科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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