【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及处理装置、基板处理装置、显示方法、基板处理方法、半导体器件的制造方法及记录介质。
技术介绍
1、以往，已知如专利文献1所记载那样的显示配方及其组合信息的技术。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：国际公开第2019/186649号说明书
技术实现思路
1、本专利技术提供一种能够容易确定处理装置中的特定配方、和与该配方建立了对应的组合信息的技术。
2、根据本专利技术的一个方案，提供一种技术，具备控制部，该控制部能够以将配方选择画面以及配方编辑画面显示于画面的方式进行控制，其中该配方选择画面具有显示多个示出包含副配方或主配方在内的配方的标识的配方选择区域，该配方编辑画面具有当在上述配方选择画面中选择了某一个上述标识的情况下能够显示与所选择的上述标识相对应的上述配方的管理信息的管理信息显示区域、以及显示与上述管理信息显示区域上所显示的上述配方关联的组合信息的组合信息编辑区域。
3、专利技术效果
4、根据本专利技术，能够容易确定处理装置中的特定配方、和与该配方建立了对应的组合信息。
【技术保护点】
1.一种处理装置，其特征在于，
2.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
4.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
5.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
6.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
7.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
8.如权利要求7所述的处理装置，其特征在于，
9.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
10.如权利要求2所述的处理装置，其特征在于，
11.如权利要求2所述的处理装置，其特征在于，
12.如权利要求2所述的处理装置，其特征在于，
13.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
14.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
15.如权利要求14所述的处理装置，其特征在于，
16.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
17.一种显示方法，其特征在于，具有如下工序：
18.一
19.一种半导体器件的制造方法，其特征在于，
20.一种记录介质，为计算机可读的记录介质，记录有程序，其特征在于，所述程序使计算机执行如下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种处理装置，其特征在于，
2.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
4.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
5.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
6.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
7.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
8.如权利要求7所述的处理装置，其特征在于，
9.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
10.如权利要求2所述的处理装置，其特征在于，
11.如权利要求2所述的处理...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。