【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，尤其涉及一种摆阀及薄膜沉积设备。
技术介绍
1、摆动型调压阀(简称摆阀)用于调节反应腔室压力，是hdp cvd设备(high-densityplasma chemical vapor deposition，高密度等离子体化学气相沉积)的关键零部件之一。反应腔内压力作为影响薄膜沉积速率及溅射速率的重要影响因素，通常可通过快速、精准地控制阀板开度，调节高真空管路的流导，最终实现快速稳定地调控反应腔室压力。同时摆阀还具备隔离关断功能，在反应腔室进行清洗操作时，较大的腔室压力会造成分子泵过载，因此需要通过摆阀内部密封环与阀板、阀体进行密封，进而将反应腔室与分子泵进行隔离。复杂的摆阀内部结构导致设备维护周期较长，如果摆阀在使用过程中频繁出现问题会严重影响机台产能。目前，在hdp设备薄膜沉积工艺过程中，长时间的高浓度氟离子腐蚀以及频繁的摆阀开关动作导致密封环侧壁的o型密封圈表层容易因腐蚀、摩擦而脱落，并在脱落位置逐渐形成裂纹源，在阀门反复开关动作下最终导致动密封失效，产生内漏。
技术实现思路
1、本专利技术的实施例提供了一种摆阀及薄膜沉积设备，旨在解决现有的摆阀的o型密封圈频繁开关导致动密封失效的问题。
2、第一方面，本专利技术提供了一种摆阀，包括：阀体、密封环和密封组件，所述密封环可上下移动地设于所述阀体中，所述密封环朝向所述阀体内壁的一侧开设有密封槽，所述密封组件设于所述密封槽中，所述密封组件包括第一密封体，所述第一密封体与所述阀体内壁抵接形成动密封；p>
3、其中，所述第一密封体与所述阀体内壁为面接触。
4、进一步地，所述阀体上开设有上下贯通的法兰口，所述阀体可水平旋转地设于所述阀体中以开闭所述法兰口，所述阀体上开设有吹扫气道，所述吹扫气道连通外界与所述阀体内部，所述吹扫气道的出气方向指向所述法兰口。
5、进一步地，所述阀体内部远离所述法兰口的一侧的压力大于所述法兰口一侧的压力。
6、进一步地，所述密封组件还包括第二密封体和固定环，所述固定环设于所述密封槽中，所述第二密封环固设于所述固定环背向所述阀体内壁的一侧，所述第一密封环固设于所述固定环朝向所述阀体内壁的一侧。
7、进一步地，所述固定环的上表面与所述密封槽的上槽面紧密贴合，所述固定环的下表面与所述密封槽的下槽面紧密贴合。
8、进一步地，所述固定环朝向所述阀体内壁的一侧开设有固定槽，所述第二密封体固设于所述固定槽中。
9、进一步地，所述固定槽包括上水平槽面、下水平槽面和竖直槽面，所述上水平槽面与所述下水平槽面平行相间，所述竖直槽面分别竖直连接所述上水平槽面和所述下水平槽面；其中，所述第一密封体分别与所述上水平槽面、所述下水平槽面和所述竖直槽面呈面接触。
10、进一步地，所述第一密封体为多边形密封圈；和/或，所述第二密封体为o型密封圈。
11、进一步地，所述固定环由聚四氟乙烯制成。
12、第二方面，本专利技术还提供一种薄膜沉积设备，包括反应腔、分子泵、摆阀、气动阀和针阀，所述摆阀为上述的摆阀，所述反应腔与所述摆阀连接，所述摆阀通过其法兰口与所述分子泵连通，所述气动阀、所述针阀与所述摆阀依次连接；其中，吹扫气体依次经所述气动阀、所述针阀、所述摆阀的吹扫气道、所述分子泵排出。
13、本专利技术提供一种摆阀及薄膜沉积设备，该摆阀包括：阀体、密封环和密封组件，密封环开设有密封槽，密封组件设置密封槽中，密封组件包括第一密封体，第一密封体与阀体内壁抵接，密封环在阀体中上下移动，第一密封体与阀体之间形成动密封，相对于现有的o型密封圈与阀体之间的线接触，第一密封体与阀体内壁为面接触，接触面积更大，更大的接触面积可以更均匀地分布压力，减少局部压力过高，从而降低摩擦，减少表层脱落，降低机械摩擦对第一密封体性能的损伤，提高耐用性，延长使用寿命和维护周期，提高机台产能。
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1.一种摆阀，其特征在于，包括：阀体、密封环和密封组件，所述密封环可上下移动地设于所述阀体中，所述密封环朝向所述阀体内壁的一侧开设有密封槽，所述密封组件设于所述密封槽中，所述密封组件包括第一密封体，所述第一密封体与所述阀体内壁抵接形成动密封；
2.根据权利要求1所述的摆阀，其特征在于，所述阀体上开设有上下贯通的法兰口，所述阀体可水平旋转地设于所述阀体中以开闭所述法兰口，所述阀体上开设有吹扫气道，所述吹扫气道连通外界与所述阀体内部，所述吹扫气道的出气方向指向所述法兰口。
3.根据权利要求2所述的摆阀，其特征在于，所述阀体内部远离所述法兰口的一侧的压力大于所述法兰口一侧的压力。
4.根据权利要求1-3任一项所述的摆阀，其特征在于，所述密封组件还包括第二密封体和固定环，所述固定环设于所述密封槽中，所述第二密封环固设于所述固定环背向所述阀体内壁的一侧，所述第一密封环固设于所述固定环朝向所述阀体内壁的一侧。
5.根据权利要求4所述的摆阀，其特征在于，所述固定环的上表面与所述密封槽的上槽面紧密贴合，所述固定环的下表面与所述密封槽的下槽面紧密贴合
6.根据权利要求4所述的摆阀，其特征在于，所述固定环朝向所述阀体内壁的一侧开设有固定槽，所述第二密封体固设于所述固定槽中。
7.根据权利要求6所述的摆阀，其特征在于，所述固定槽包括上水平槽面、下水平槽面和竖直槽面，所述上水平槽面与所述下水平槽面平行相间，所述竖直槽面分别竖直连接所述上水平槽面和所述下水平槽面；其中，所述第一密封体分别与所述上水平槽面、所述下水平槽面和所述竖直槽面呈面接触。
8.根据权利要求4所述的摆阀，其特征在于，所述第一密封体为多边形密封圈；和/或，所述第二密封体为O型密封圈。
9.根据权利要求4所述的摆阀，其特征在于，所述固定环由聚四氟乙烯制成。
10.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括反应腔、分子泵、摆阀、气动阀和针阀，所述摆阀为权利要求2-9任一项所述的摆阀，所述反应腔与所述摆阀连接，所述摆阀通过其法兰口与所述分子泵连通，所述气动阀、所述针阀与所述摆阀依次连接；其中，吹扫气体依次经所述气动阀、所述针阀、所述摆阀的吹扫气道、所述分子泵排出。
...【技术特征摘要】
1.一种摆阀，其特征在于，包括：阀体、密封环和密封组件，所述密封环可上下移动地设于所述阀体中，所述密封环朝向所述阀体内壁的一侧开设有密封槽，所述密封组件设于所述密封槽中，所述密封组件包括第一密封体，所述第一密封体与所述阀体内壁抵接形成动密封；
2.根据权利要求1所述的摆阀，其特征在于，所述阀体上开设有上下贯通的法兰口，所述阀体可水平旋转地设于所述阀体中以开闭所述法兰口，所述阀体上开设有吹扫气道，所述吹扫气道连通外界与所述阀体内部，所述吹扫气道的出气方向指向所述法兰口。
3.根据权利要求2所述的摆阀，其特征在于，所述阀体内部远离所述法兰口的一侧的压力大于所述法兰口一侧的压力。
4.根据权利要求1-3任一项所述的摆阀，其特征在于，所述密封组件还包括第二密封体和固定环，所述固定环设于所述密封槽中，所述第二密封环固设于所述固定环背向所述阀体内壁的一侧，所述第一密封环固设于所述固定环朝向所述阀体内壁的一侧。
5.根据权利要求4所述的摆阀，其特征在于，所述固定环的上表面与所述密封槽的上槽面紧密贴合，所述固定环的下表面...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜宏亮，李钦波，
申请(专利权)人：拓荆创益沈阳半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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