【技术实现步骤摘要】
本申请总体上涉及电子设计自动化，更具体地涉及利用对修改电路块的识别进行半导体布局设计验证。
技术介绍
1、在用于制造集成电路的设计流程中，集成电路的物理设计可描述特定几何元素，通常称为布局设计。通常为多边形的几何元素限定了将在各种材料中产生以制造集成电路的形状。通常，设计者将选择表示电路器件部件(例如接触、栅极等)的几何元素组，且将其放置在设计区域中。这些几何元素组可以是定制设计的，选自先前创建的设计库，有时称为半导体知识产权(intellectual property，ip)、设计ip、ip块等，或两者的某种组合。一旦已经放置表示电路器件部件的几何元素组，则然后根据预定路线在这些几何元素之间放置表示连接线的几何元素。这些线将形成用于互连电子器件的布线。
2、可以以许多不同的格式提供对集成电路的物理设计的描述，例如图形数据系统ii(graphic data system ii，gdsii)格式、开放存取格式、milkyway格式、部件级网表eddm格式以及开放艺术品系统交换标准(open artwork systeminterchange standard，oasis)格式。这些各种工业格式可以用于定义用于制造集成电路的布局设计中的几何信息。其中一些格式(例如gdsii格式)可以包括结构的层级，各个结构具有布局元素，例如多边形、路径、多义线、圆形、文本框等。一旦布局设计完成，就可以从布局设计中生成光罩或掩模，其可以用于使用光刻工艺制造集成电路。
3、由于集成电路的大多数布局设计包括一个或多个先前创建的ip
技术实现思路
1、本申请公开了一种实现物理验证工具的计算系统，该物理验证工具从半导体布局设计中提取描述集成电路的单元，基于提取的单元相对于集成电路的目标设计(例如知识产权(ip)设计块、标准设计单元等)的大小的大小来识别所提取的单元中的一者或多者对应于用于验证的候选单元。物理验证工具可以修改半导体布局设计以去除不与候选单元相对应的集成电路。物理验证工具还可以生成目标布局设计，该目标布局设计包括在与半导体布局设计中的候选单元相对应的位置处的集成电路的目标设计的副本，并且通过基于修改的半导体布局设计和目标布局设计的比较确定所提取的单元中的至少一者与集成电路的目标设计的修改版本相对应来执行对半导体布局设计的验证。下面将更详细地描述实施例。
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1.一种方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，还包括：由所述计算系统确定用于所述提取的单元中的每一者的边界框，其中，所述边界框的尺寸对应于所述提取的单元的大小。
3.根据权利要求1所述的方法，还包括：由所述计算系将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计统逐层地进行比较。
4.根据权利要求3所述的方法，其中，对所述半导体层的包括与所述提取的单元相对应的集成电路的级中的至少一者或者所述半导体层的所有级执行将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计进行比较。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计进行比较还包括：对所述修改的半导体布局设计中的候选单元和所述目标布局设计中的集成电路的所述目标设计执行异或(XOR)逻辑运算。
6.根据权利要求1所述的方法，其中，集成电路的所述目标设计的所述修改版本包括对所述目标设计中的所述集成电路的修改、在集成电路的所述目标设计的范围中的额外虚拟填充结构、在对应于所述提取的单元的所述半导体层中的导线敷设、或者在比所述提取的单元更高的半导体层中的
7.根据权利要求1所述的方法，其中，执行对所述半导体布局设计的所述验证还包括：确定与集成电路的所述候选设计和所述目标设计之间的差异程度对应的相似性百分比，并且将所述相似性百分比与阈值进行比较以确定所述提取的单元中的至少一者与集成电路的所述目标设计的所述修改版本对应。
8.一种系统，包括：
9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述计算系统响应于所述计算机可执行指令的执行，还被配置为：确定用于所述提取的单元中的每一者的边界框，其中，所述边界框的尺寸对应于所述提取的单元的大小。
10.根据权利要求9所述的系统，其中，所述计算系统响应于所述计算机可执行指令的执行，还被配置为：将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计逐层地进行比较。
11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述计算系统响应于所述计算机可执行指令的执行，还被配置为：对所述半导体层的包括与所述提取的单元相对应的集成电路的级中的至少一者或者所述半导体层的所有级，将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计进行比较。
12.根据权利要求8所述的系统，其中，所述计算系统响应于所述计算机可执行指令的执行，还被配置为：通过对所述修改的半导体布局设计中的候选单元和所述目标布局设计中的集成电路的所述目标设计执行异或(XOR)逻辑运算，来将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计进行比较。
13.根据权利要求8所述的系统，其中，所述计算系统响应于所述计算机可执行指令的执行，还被配置为：通过确定与集成电路的所述候选设计和所述目标设计之间的差异程度对应的相似性百分比，并且将所述相似性百分比与阈值进行比较以确定所述提取的单元中的至少一者与集成电路的所述目标设计的所述修改版本对应，来执行对所述半导体布局设计的所述验证。
14.一种包括存储指令的至少一种计算机可读存储设备的装置，所述指令被配置为使得一个或多个处理设备执行操作，所述操作包括：
15.根据权利要求14所述的装置，其中，所述指令被配置为使得一个或多个处理设备执行操作，所述操作还包括：确定用于所述提取的单元中的每一者的边界框，其中，所述边界框的尺寸对应于所述提取的单元的大小。
16.根据权利要求15所述的装置，其中，所述指令被配置为使得一个或多个处理设备执行操作，所述操作还包括：将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计逐层地进行比较。
17.根据权利要求16所述的装置，其中，所述指令被配置为使得一个或多个处理设备执行操作，所述操作还包括：对所述半导体层的包括与所述提取的单元相对应的集成电路的级中的至少一者或者所述半导体层的所有级，将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计进行比较。
18.根据权利要求14所述的装置，其中，所述指令被配置为使得一个或多个处理设备执行操作，所述操作还包括：通过对所述修改的半导体布局设计中的候选单元和所述目标布局设计中的集成电路的所述目标设计执行异或(XOR)逻辑运算，来将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计进行比较。
19.根据权利要求14所述的装置，其中，集成电路的所述目标设计的所述修改版本包括对所述目标设计中的所述集成电路的修改、在集成电路的所述目标设计的范围中的额外虚拟填充结构、在对应于所述提取的单元的所述半导体层中的导线敷设、或者在比所述提取的单元更高的半导体层中的导线敷设中的至少一者。
20.根据权利要求14所述的...
【技术特征摘要】
1.一种方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，还包括：由所述计算系统确定用于所述提取的单元中的每一者的边界框，其中，所述边界框的尺寸对应于所述提取的单元的大小。
3.根据权利要求1所述的方法，还包括：由所述计算系将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计统逐层地进行比较。
4.根据权利要求3所述的方法，其中，对所述半导体层的包括与所述提取的单元相对应的集成电路的级中的至少一者或者所述半导体层的所有级执行将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计进行比较。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计进行比较还包括：对所述修改的半导体布局设计中的候选单元和所述目标布局设计中的集成电路的所述目标设计执行异或(xor)逻辑运算。
6.根据权利要求1所述的方法，其中，集成电路的所述目标设计的所述修改版本包括对所述目标设计中的所述集成电路的修改、在集成电路的所述目标设计的范围中的额外虚拟填充结构、在对应于所述提取的单元的所述半导体层中的导线敷设、或者在比所述提取的单元更高的半导体层中的导线敷设中的至少一者。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，执行对所述半导体布局设计的所述验证还包括：确定与集成电路的所述候选设计和所述目标设计之间的差异程度对应的相似性百分比，并且将所述相似性百分比与阈值进行比较以确定所述提取的单元中的至少一者与集成电路的所述目标设计的所述修改版本对应。
8.一种系统，包括：
9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述计算系统响应于所述计算机可执行指令的执行，还被配置为：确定用于所述提取的单元中的每一者的边界框，其中，所述边界框的尺寸对应于所述提取的单元的大小。
10.根据权利要求9所述的系统，其中，所述计算系统响应于所述计算机可执行指令的执行，还被配置为：将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计逐层地进行比较。
11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述计算系统响应于所述计算机可执行指令的执行，还被配置为：对所述半导体层的包括与所述提取的单元相对应的集成电路的级中的至少一者或者所述半导体层的所有级，将所述修改的半导体布局设计与所述目标布局设计进行比较。
12.根据权利要求8所述的系统，其中，所述计算系统响应于所述计算机可执行指令的执行，还被配置为：通过对所述修改的半导体布局设计中的候选单元和所述目标布局设计中的集成电路的所述目...
【专利技术属性】
技术研发人员：S·哈拉夫，M·黑霸，J·J·缪尔海德，
申请(专利权)人：西门子工业软件有限公司，
类型：发明
国别省市：
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