单片式晶圆清洗装置制造方法及图纸

本技术公开了一种单片式晶圆清洗装置，包括清洗室、设于清洗室内用于放置并带动晶圆旋转的承载盘、用于将不同清洗剂冲洗在晶圆表面的多根供液管道，承载盘下方设有升降集液盘，所述升降集液盘通过多层围挡分隔出若干个储液区，每层围挡的上部均为倾向承载盘的倾斜结构，每个储液区均连接有出液管道，通过上下调节升降集液盘的高度能够将不同的清洗剂分别分配至不同的储液区内后排出。本技术能够在清洗时以升降集液盘升降的方式将酸碱药液区分，流入不同储液区内分别排出，避免药液混合发生结晶，还能够实现药液的更好分配，解决清洗过程中药液返溅的问题，提高一次清洗能力，减少晶圆的报废。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及晶圆清洗，尤其涉及一种单片式晶圆清洗装置。

技术介绍

1、晶圆清洗机工作时需要将酸碱药液冲洗在晶圆表面，以去除表面微粒和有机物，传统清洗过程中酸碱药液混合会发生结晶，药液容易返溅至晶圆表面，造成晶圆表面出现清洗残留以及颗粒增加，并且有一定的晶圆报废风险，晶圆清洗能力差。

技术实现思路

1、本技术要解决的技术问题是提供一种单片式晶圆清洗装置，旨在解决现有技术中存在的传统清洗过程中酸碱药液混合会发生结晶，药液容易返溅至晶圆表面，晶圆清洗能力差的技术问题。

2、本技术的技术方案是：一种单片式晶圆清洗装置，包括清洗室、设于清洗室内用于放置并带动晶圆旋转的承载盘、用于将不同清洗剂冲洗在晶圆表面的多根供液管道，承载盘下方设有升降集液盘，所述升降集液盘通过多层围挡分隔出若干个储液区，每层围挡的上部均为倾向承载盘的倾斜结构，每个储液区均连接有出液管道，通过上下调节升降集液盘的高度能够将不同的清洗剂分别分配至不同的储液区内后排出。

3、进一步的，本技术中所述供液管道包括sc1药液管、第一纯水管、第二纯水管、臭氧水管、dhf药液管，每根供液管道上均设有喷嘴。

4、进一步的，本技术中所述倾斜结构与水平面的夹角为10°～15°。

5、进一步的，本技术中所述储液区具有三个，由内向外依次为用于收集sc1药液的内层储液区、用于收集dhf药液的中层储液区、以及用于收集纯水及臭氧水的外层储液区。

6、进一步的，本技术中所述出液管道包括与储液区连接的内软管、与内软管连接的外连接管，外连接管上设有阀门。

7、进一步的，本技术中所述内层储液区围挡的倾斜结构上设有电动翻转板，电动翻转板用于根据不同的药液调节转动角度以实现更好的分配。

8、进一步的，本技术中所述升降集液盘由气缸驱动升降。

9、本技术与现有技术相比具有以下优点：本技术的单片式晶圆清洗装置，将晶圆放置在承载盘上，清洗过程中承载盘旋转，通过不同的喷嘴将酸碱药液冲洗在晶圆表面，去除表面微粒和有机物，为了防止酸碱药液混合后发生结晶，在清洗时会以升降集液盘升降的方式将酸碱药液区分，流入不同的储液区内分别排出；此外，还通过优化围挡上部倾斜结构的工作角度，并新增配合的电动翻转板，不仅能够实现药液的更好分配，还能解决清洗过程中药液返溅的问题，提高了一次清洗能力，减少晶圆的报废。

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【技术保护点】

1.一种单片式晶圆清洗装置，其特征在于：包括清洗室(1)、设于清洗室(1)内用于放置并带动晶圆(a)旋转的承载盘(2)、用于将不同清洗剂冲洗在晶圆(a)表面的多根供液管道，承载盘(2)下方设有升降集液盘(8)，所述升降集液盘(8)通过多层围挡(9)分隔出若干个储液区，每层围挡(9)的上部均为倾向承载盘(2)的倾斜结构(9a)，每个储液区均连接有出液管道，通过上下调节升降集液盘(8)的高度能够将不同的清洗剂分别分配至不同的储液区内后排出。

2.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述供液管道包括SC1药液管(3)、第一纯水管(4)、第二纯水管(5)、臭氧水管(6)、DHF药液管(7)，每根供液管道上均设有喷嘴。

3.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述倾斜结构(9a)与水平面的夹角为10°～15°。

4.根据权利要求2所述的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述储液区具有三个，由内向外依次为用于收集SC1药液的内层储液区(8a)、用于收集DHF药液的中层储液区(8b)、以及用于收集纯水及臭氧水的外层储液区(8c)。

5.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述出液管道包括与储液区连接的内软管(10)、与内软管(10)连接的外连接管(11)，外连接管(11)上设有阀门(12)。

6.根据权利要求4所述的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述内层储液区(8a)围挡(9)的倾斜结构(9a)上设有电动翻转板(13)，电动翻转板(13)用于根据不同的药液调节转动角度以实现更好的分配。

7.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述升降集液盘(8)由气缸驱动升降。

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【技术特征摘要】

1.一种单片式晶圆清洗装置，其特征在于：包括清洗室(1)、设于清洗室(1)内用于放置并带动晶圆(a)旋转的承载盘(2)、用于将不同清洗剂冲洗在晶圆(a)表面的多根供液管道，承载盘(2)下方设有升降集液盘(8)，所述升降集液盘(8)通过多层围挡(9)分隔出若干个储液区，每层围挡(9)的上部均为倾向承载盘(2)的倾斜结构(9a)，每个储液区均连接有出液管道，通过上下调节升降集液盘(8)的高度能够将不同的清洗剂分别分配至不同的储液区内后排出。

2.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述供液管道包括sc1药液管(3)、第一纯水管(4)、第二纯水管(5)、臭氧水管(6)、dhf药液管(7)，每根供液管道上均设有喷嘴。

3.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述倾斜结构(9a)与水平面的夹角为10...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐进，张晓艳，吴勇，蔡爱军，
申请(专利权)人：上海晶盟硅材料有限公司，
类型：新型
国别省市：