一种连续电镀阳极遮蔽设备制造技术

本技术涉及电镀遮蔽技术领域，具体是一种连续电镀阳极遮蔽设备，包括有上遮蔽治具、下遮蔽治具和调节机构；调节机构设置在上遮蔽治具和下遮蔽治具的两端；上遮蔽治具与下遮蔽治具两侧侧壁上设置有翼板，翼板之间设置有导杆，调节机构包括有定位板、螺纹杆和转柄，导杆一端贯穿上遮蔽治具侧壁的翼板与定位板固定连接，上遮蔽治具滑动设置在导杆上，且上遮蔽治具顶部设置有螺纹杆，螺纹杆贯穿定位板与转柄连接，螺纹杆与定位板螺纹连接；定位板顶部设置有挂杆，挂杆上设置有定位块，且定位块上设置有固定块，固定块设置在镀槽顶部两侧。本技术可以有效改善电镀工件镀层厚度上下不均匀的现象，提高电镀质量和效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电镀遮蔽，具体是一种连续电镀阳极遮蔽设备。

技术介绍

1、电镀是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性及增进美观等作用。

2、目前，在连续电镀中，会遇到一些电镀产品要求在电镀时的整体膜厚分布均匀，且不同上下位置的膜厚之间所要求的公差范围又小；另外，还需要对一些电镀位置进行遮蔽，防止这些位置被电镀。

3、传统的电镀方式是把产品直接放入电镀槽内通过药水进行电镀的，电镀时，药水从电镀槽的底部喷入的，因此电镀槽下部药水含量较多，上部药水含量较小；由于产品为固定放置的方式，电镀槽内的上中下位置药水含量分布不均，会造成电镀时的上、下的膜厚与中间的膜厚相差较大，从而无法满足膜厚分布均匀的技术要求。

技术实现思路

1、本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种连续电镀阳极遮蔽设备，该种遮蔽设备可以有效改善电镀工件镀层厚度上下不均匀的现象，提高电镀质量和效率。

2、为实现上述目的，根据本技术的第一方面的实施例提出一种连续电镀阳极遮蔽设备，包括有上遮蔽治具、下遮蔽治具和调节机构，所述上遮蔽治具底部开设有上遮蔽槽，所述下遮蔽治具顶部开设有下遮蔽槽；所述调节机构设置在上遮蔽治具和下遮蔽治具的两端；所述上遮蔽治具与下遮蔽治具两侧侧壁上设置有翼板，所述翼板之间设置有导杆，所述调节机构包括有定位板、螺纹杆和转柄，所述导杆一端贯穿上遮蔽治具侧壁的翼板与所述定位板固定连接，所述上遮蔽治具滑动设置在导杆上，且所述上遮蔽治具顶部设置有所述螺纹杆，所述螺纹杆贯穿定位板与所述转柄连接，所述螺纹杆与所述定位板螺纹连接；所述定位板顶部设置有挂杆，所述挂杆上设置有定位块，且所述定位块上设置有固定块，所述固定块设置在镀槽顶部两侧。

3、作为本技术进一步的方案：所述定位块外侧设置有从外侧穿至挂杆处的第一调节螺栓。

4、作为本技术进一步的方案：所述定位块上开设有安装槽，所述固定块滑动设置在安装槽内，且所述定位块外侧设置有从外侧穿至固定块的第二调节螺栓。

5、作为本技术进一步的方案：所述安装槽一侧设置有滑槽，所述固定块一侧设置有滑块，所述滑块滑动设置在滑槽内，且所述固定块另外一侧设置有凹槽，所述第二调节螺栓设置在凹槽处，且所述第二调节螺栓与所述凹槽相适配。

6、作为本技术进一步的方案：所述固定块上开设有条形槽，所述条形槽与镀槽顶部活动安装。

7、与现有技术相比，本技术的有益效果是：

8、1.本技术通过螺纹杆与定位板螺纹连接，转动转柄可对上遮蔽治具进行高度调节，可以有效改善电镀工件镀层厚度上下不均匀的现象，提高电镀质量和效率；同时可以根据不同的电镀工艺和工件要求进行调整，具有较强的适应性和灵活性，且通过翼板和导杆的安装，提高上遮蔽治具移动的稳定时，使得上遮蔽治具与下遮蔽治具在水平面的投影上唯一同一轴线上。

9、2.本技术通过旋转第一调节螺栓，可以微调定位块在挂杆上的位置，从而实现对遮蔽治具的精确调整，使得设备能够适应不同规格和尺寸的电镀工件，增加了设备的适应性和灵活性。

10、3.本技术通过设置安装槽允许固定块在槽内滑动，这为设备提供了更大的调节空间，以适应不同尺寸和规格的镀槽。同时通过第二调节螺栓实现对固定块位置的微调。使得设备能够适应不同宽度和间距的镀槽，增加了设备的通用性和灵活性。

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【技术保护点】

1.一种连续电镀阳极遮蔽设备，包括有上遮蔽治具(1)、下遮蔽治具(2)和调节机构，所述上遮蔽治具(1)底部开设有上遮蔽槽(11)，所述下遮蔽治具(2)顶部开设有下遮蔽槽(21)；所述调节机构设置在上遮蔽治具(1)和下遮蔽治具(2)的两端；

2.根据权利要求1所述的一种连续电镀阳极遮蔽设备，其特征在于，所述定位块(6)外侧设置有从外侧穿至挂杆(5)处的第一调节螺栓(61)。

3.根据权利要求1所述的一种连续电镀阳极遮蔽设备，其特征在于，所述定位块(6)上开设有安装槽(63)，所述固定块(7)滑动设置在安装槽(63)内，且所述定位块(6)外侧设置有从外侧穿至固定块(7)的第二调节螺栓(62)。

4.根据权利要求3所述的一种连续电镀阳极遮蔽设备，其特征在于，所述安装槽(63)一侧设置有滑槽(631)，所述固定块(7)一侧设置有滑块(71)，所述滑块(71)滑动设置在滑槽(631)内，且所述固定块(7)另外一侧设置有凹槽(72)，所述第二调节螺栓(62)设置在凹槽(72)处，且所述第二调节螺栓(62)与所述凹槽(72)相适配。

5.根据权利要求4所述的一种连续电镀阳极遮蔽设备，其特征在于，所述固定块(7)上开设有条形槽(73)，所述条形槽(73)与镀槽顶部活动安装。

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【技术特征摘要】

1.一种连续电镀阳极遮蔽设备，包括有上遮蔽治具(1)、下遮蔽治具(2)和调节机构，所述上遮蔽治具(1)底部开设有上遮蔽槽(11)，所述下遮蔽治具(2)顶部开设有下遮蔽槽(21)；所述调节机构设置在上遮蔽治具(1)和下遮蔽治具(2)的两端；

2.根据权利要求1所述的一种连续电镀阳极遮蔽设备，其特征在于，所述定位块(6)外侧设置有从外侧穿至挂杆(5)处的第一调节螺栓(61)。

3.根据权利要求1所述的一种连续电镀阳极遮蔽设备，其特征在于，所述定位块(6)上开设有安装槽(63)，所述固定块(7)滑动设置在安装槽(63)内，且所述定位块(6...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘超，
申请(专利权)人：东莞市四辉表面处理科技有限公司，
类型：新型
国别省市：