【技术实现步骤摘要】
本实施方式涉及一种评价方法、半导体元件的制造方法及评价系统。
技术介绍
1、在nil(nano inprint lithography，纳米压印光刻)中，准备原版，在衬底上涂布光敏剂，并将原版压印至衬底上的光敏剂上。使光敏剂转印原版的形状并曝光、硬化，将原版从衬底上脱模，以形成在光敏剂的图案为掩模对衬底进行加工，从而在衬底上形成图案。业界期望nil中与原版压印相关的条件是合适的。
技术实现思路
1、根据本实施方式，提供一种评价方法。评价方法包括对表示第1衬底的缺陷分布的第1二维数据与表示预测的第2衬底的缺陷分布的第2二维数据分别实施第1变换处理，产生第1光谱与第2光谱，其中第1衬底因其上的光敏剂被原版压印而形成有图案。评价方法包括对所产生的第1光谱与所产生的第2光谱分别实施滤波处理。评价方法包括对处理后的第1光谱与处理后的第2光谱分别实施第2变换处理以将第1二维数据及第2二维数据解码。评价方法包括对解码后的第1二维数据与解码后的第2二维数据实施阈值处理。评价方法包括对阈值处理后的第1二维数据与阈值处理后的第2二维数据应用比较函数来计算一致度。
2、根据一实施方式，能够使与原版压印相关的条件优化。
【技术保护点】
1.一种评价方法，包括：
2.根据权利要求1所述的评价方法，其中
3.根据权利要求1所述的评价方法，其中
4.根据权利要求1所述的评价方法，其中
5.根据权利要求2所述的评价方法，其中
6.根据权利要求5所述的评价方法，其中
7.根据权利要求6所述的评价方法，其中
8.根据权利要求1所述的评价方法，其中
9.根据权利要求1所述的评价方法，其中
10.根据权利要求1所述的评价方法，其中
11.根据权利要求10所述的评价方法，其中
12.根据权利要求10所述的评价方法，其中
13.根据权利要求10所述的评价方法，其中
14.根据权利要求1所述的评价方法，其中
15.根据权利要求14所述的评价方法，其中
16.根据权利要求14所述的评价方法，其中
17.一种半导体元件的制造方法，包括：
18.根据权利要求17所述的半导体元件的制造方法，其中
19.一种评价系统，具备：>
20.根据权利要求19所述的评价系统，其中
...【技术特征摘要】
1.一种评价方法，包括：
2.根据权利要求1所述的评价方法，其中
3.根据权利要求1所述的评价方法，其中
4.根据权利要求1所述的评价方法，其中
5.根据权利要求2所述的评价方法，其中
6.根据权利要求5所述的评价方法，其中
7.根据权利要求6所述的评价方法，其中
8.根据权利要求1所述的评价方法，其中
9.根据权利要求1所述的评价方法，其中
10.根据权利要求1所述的评价方法，其中
11.根据权利...
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