【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于蚀刻液的，涉及金属蚀刻制备工艺及其制备方法。
技术介绍
1、为了应对电子元器件技术的散热挑战，金属散热方案堪称优选之一。除了广泛应用的金属衬底技术，采用金属散热片制作的相变均热板正成为当前技术发展的潮流。凭借相变传热机制，金属均热板能有效传导电子元器件产生的热量，减少其工作温度，延长使用寿命。至于金属散热片，它是制造金属均热板不可或缺的原料，通过蚀刻微结构技术来创造足够的蒸汽通道，从而提升热交换效率。
2、在金属散热片的蚀刻过程中，蚀刻液往往需要加入金属络合剂，金属络合剂的主要作用是与金属离子形成稳定的络合物，防止这些金属离子在蚀刻液中重新沉积到金属散热片的表面。这样可以确保蚀刻过程的均匀性和精确性，避免产生不良的表面粗糙度和不均匀的蚀刻深度。此外，金属络合剂还可以提高蚀刻液的使用寿命，减少因金属离子积累而频繁更换蚀刻液的频率，从而降低生产成本。然而，当前在已有的金属络合剂中，普遍采用的是仅含单一活性官能团的络合剂。为了扩大对金属的蚀刻效率及拓宽应用领域，要么需要增加其添加量，要么得采取多种金属络合剂混合配伍的方法，由此带来了成本高、作用效率不高的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供金属蚀刻制备工艺及其制备方法，本专利技术通过改进生产工艺，对金属片进行精细蚀刻和研磨，有效避免了穿孔问题，并确保金属片硬度足够，防止变形。采用本专利技术的蚀刻工艺，提高了金属片质量和使用寿命，确保了生产过程的稳定性和可靠性。此外，本专利技术的金属络合剂含有氮、氧、
2、本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：
3、一种金属蚀刻制备工艺包括以下步骤：
4、s1、在金属片上涂覆光刻胶后，对该金属片表面的光刻胶层执行掩模曝光显影处理；
5、s2、将蚀刻液喷淋于金属片上，对未被光刻胶覆盖的金属片部位进行蚀刻；
6、s3、对蚀刻完成的金属片进行清洗以及去胶，然后置于研磨机中进行研磨，超声清洗后进行烘干处理，即完成。
7、作为本专利技术的一种优选技术方案，在步骤s1中，所述曝光显影处理为40mj/cm2曝光功率下曝光为20s。
8、作为本专利技术的一种优选技术方案，在步骤s2中，所述蚀刻的温度为20-30℃。
9、作为本专利技术的一种优选技术方案，在步骤s3中，所述超声清洗之前包括依次置于去蜡液、丙酮和异丁醇中在45℃温度下各清洗5min。
10、作为本专利技术的一种优选技术方案，在步骤s3中，所述超声清洗为置于去离子水中进行超声清洗10min；所述烘干处理的温度为80-90℃。
11、作为本专利技术的一种优选技术方案，所述蚀刻液按重量份比包括以下组分：过氧化氢30-40重量份、戊二酸5.4-6.2重量份、季戊四醇4.6-5.4重量份、金属络合剂5.5-6.0重量份、2-氨基苯甲酸2-3重量份、异丙醇胺5-6份和去离子水45-52重量份。
12、作为本专利技术的一种优选技术方案，所述金属络合剂的制备方法包括以下步骤：
13、步骤一：将羟基肉桂醛和无水乙醇加入到反应釜中混匀后进行预热，在惰性氛围和搅拌条件下，加入乙二胺溶液和冰醋酸加热处理，冷却至室温，旋蒸去掉溶剂，洗涤后进行真空干燥，得到预制体；
14、步骤二：将预制体和无水乙醇加入到反应釜中搅拌混合后，加入硫代苹果酸和引发剂的质量比为进行紫外线照射处理，离心去掉溶剂后，洗涤后进行真空干燥，得到金属络合剂。
15、作为本专利技术的一种优选技术方案，在步骤一中，所述预热的温度为40℃；所述惰性氛围为氮气氛围；所述搅拌条件为在400-600rpm转速下进行搅拌；所述加热处理为在50-60℃温度加热4-5h。
16、作为本专利技术的一种优选技术方案，在步骤一中，所述羟基肉桂醛、无水乙醇、乙二胺溶液和冰醋酸的质量比为7-8：30-40：20-25：0.3-0.4；所述羟基肉桂醛为2-羟基肉桂醛；所述乙二胺溶液由乙二胺和无水乙醇按质量比0.8-1.0：10混合而成。
17、作为本专利技术的一种优选技术方案，在步骤二中，所述搅拌混合为在300-400rpm转速搅拌15-20min；所述紫外线照射处理为在365nm波长紫外照射5-6h；所述洗涤为用无水乙醇清洗三遍；所述真空干燥为在60℃温度真空干燥至恒重。
18、作为本专利技术的一种优选技术方案，在步骤二中，所述预制体、无水乙醇、硫代苹果酸和引发剂的质量比为10-11：40-50：2.4-2.8：0.20-0.23；所述引发剂为安息香二乙醚。
19、本专利技术的有益效果：
20、(1)本专利技术通过改进生产工艺，具体来说，通过对金属片进行精细的蚀刻处理，在完成蚀刻工序之后，再通过研磨工艺进一步减小金属片的厚度，使得能有效避免在蚀刻过程中出现穿孔的问题，同时也能确保金属片在后续使用过程中不会因为硬度不足而发生变形的现象，采用本专利技术的蚀刻工艺，不仅提高了金属片的质量和使用寿命，还确保了整个生产过程的稳定性和可靠性。
21、(2)本专利技术所获得的金属络合剂，含有氮、氧及硫杂原子的有机杂环化合物，拥有众多活性吸附位点，能更轻松地吸附至金属铜表层，进而构成防护膜，以达到阻遏铜腐蚀的效果，展现出卓越的金属缓蚀性能，保证蚀刻液维持优良的蚀刻速度，防止过度侧蚀的情况出现。
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1.一种金属蚀刻制备工艺，其特征在于，所述金属蚀刻制备工艺包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于：在步骤S1中，所述曝光显影处理为40mJ/cm2曝光功率下曝光为20s。
3.根据权利要求1所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于：在步骤S2中，所述蚀刻的温度为20-30℃。
4.根据权利要求1所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于：在步骤S3中，所述超声清洗之前包括依次置于去蜡液、丙酮和异丁醇中在45℃温度下各清洗5min。
5.根据权利要求1所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于：在步骤S3中，所述超声清洗为置于去离子水中进行超声清洗10min；所述烘干处理的温度为80-90℃。
6.根据权利要求1所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于，所述蚀刻液按重量份比包括以下组分：过氧化氢30-40重量份、戊二酸5.4-6.2重量份、季戊四醇4.6-5.4重量份、金属络合剂5.5-6.0重量份、2-氨基苯甲酸2-3重量份、异丙醇胺5-6份和去离子水45-52重量份。
7.根据权利要求6所述的金属蚀刻制备
8.根据权利要求7所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于：在步骤一中，所述预热的温度为40℃；所述惰性氛围为氮气氛围；所述搅拌条件为在400-600rpm转速下进行搅拌；所述加热处理为在50-60℃温度加热4-5h；所述羟基肉桂醛、无水乙醇、乙二胺溶液和冰醋酸的质量比为7-8：30-40：20-25：0.3-0.4；所述羟基肉桂醛为2-羟基肉桂醛；所述乙二胺溶液由乙二胺和无水乙醇按质量比0.8-1.0：10混合而成。
9.根据权利要求7所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于：在步骤二中，所述搅拌混合为在300-400rpm转速搅拌15-20min；所述紫外线照射处理为在365nm波长紫外照射5-6h；所述洗涤为用无水乙醇清洗三遍；所述真空干燥为在60℃温度真空干燥至恒重；所述预制体、无水乙醇、硫代苹果酸和引发剂的质量比为10-11：40-50：2.4-2.8：0.20-0.23；所述引发剂为安息香二乙醚。
...【技术特征摘要】
1.一种金属蚀刻制备工艺，其特征在于，所述金属蚀刻制备工艺包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于：在步骤s1中，所述曝光显影处理为40mj/cm2曝光功率下曝光为20s。
3.根据权利要求1所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于：在步骤s2中，所述蚀刻的温度为20-30℃。
4.根据权利要求1所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于：在步骤s3中，所述超声清洗之前包括依次置于去蜡液、丙酮和异丁醇中在45℃温度下各清洗5min。
5.根据权利要求1所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于：在步骤s3中，所述超声清洗为置于去离子水中进行超声清洗10min；所述烘干处理的温度为80-90℃。
6.根据权利要求1所述的金属蚀刻制备工艺，其特征在于，所述蚀刻液按重量份比包括以下组分：过氧化氢30-40重量份、戊二酸5.4-6.2重量份、季戊四醇4.6-5.4重量份、金属络合剂5.5-6.0重量份、2-氨基苯甲酸2-3重量份、异丙醇胺5-6份和去离子水45-52重量份...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴玉涛，熊道安，张卫，
申请(专利权)人：科峻成精密科技东莞有限公司，
类型：发明
国别省市：
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