【技术实现步骤摘要】
本公开涉及光学镀膜领域，更具体地涉及一种硒化锌基底镀制dlc膜层的制备方法。
技术介绍
1、硒化锌(znse)是一种非常好的红外材料，透光范围宽，对红外波长具有低吸收性，并可透射可见光，是制作红外透镜、窗口、输出耦合镜和扩束镜的优质材料，从0.5μm一直透到19μm，具有良好的成像特性和热冲击特性，由于硒化锌镜片用来做窗口片，需具备在恶劣环境下长时间正常的能力，如大气高速飞行、抗击异物摩擦、在阴雨潮湿天气抵抗雨水的浸泡及腐蚀等等。类金刚石(dlc)膜很好地解决了这些问题，但硒化锌基底直接镀制dlc膜层附着力较差。
技术实现思路
1、鉴于
技术介绍
中存在的问题，本公开的一目的在于提供一种硒化锌基底镀制dlc膜层的制备方法，其制备的硒化锌基底的陪镀片连同对应面上的含dlc膜层的膜系在8-12μm波段的单面透过率平均大于77.5％。
2、本公开的另一目的在于提供一种硒化锌基底镀制dlc膜层的制备方法，其制备的硒化锌基底的连同对应面上的含dlc膜层的膜系能够满足作为窗口片在各种恶劣环境下的使用、满足应用端的要求。
3、由此，一种硒化锌基底镀制dlc膜层的制备方法包括步骤：s1，镀前针对作为镜片的硒化锌基底的陪镀片和产品的需要镀制dlc膜层的面进行清洁；s2，将清洁处理好的镜片放入工装夹具，放好镜片的工装夹具挂入真空镀膜机的腔体内，腔体的温度设定为130℃；s3，真空镀膜机启动，抽真空并腔体加热，真空度达到1.5×10-3pa且腔体的温度达到设定温度时，打开真空镀膜机的
4、本公开的有益效果如下：在根据本公开的硒化锌基底镀制dlc膜层的制备方法中，通过步骤s1至步骤s10、通过251nmge/211nmzns/667.6nmge构成的介质层打底来进行硒化锌基底的1200nmdlc膜层镀制，如测试过程所验证地，硒化锌基底的陪镀片连同对应面上的含dlc膜层的膜系(即介质层加dlc膜层)不仅能够实现在8-12μm波段的单面透过率平均大于77.5％(具体为77.81％)，而且通过水泡试验、盐雾试验、粘接力试验、冷热冲击试验、恒温恒湿试验、恒温恒湿试验、耐摩擦试验(中度摩擦试验)、低温试验和高温试验，从而能够满足作为窗口片在各种恶劣环境下的使用，满足应用端的要求。
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1.一种硒化锌基底镀制DLC膜层的制备方法，其特征在于，包括步骤：
2.据权利要求1所述的硒化锌基底镀制DLC膜层的制备方法，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的硒化锌基底镀制DLC膜层的制备方法，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的硒化锌基底镀制DLC膜层的制备方法，其特征在于，
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6.根据权利要求1所述的硒化锌基底镀制DLC膜层的制备方法，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的硒化锌基底镀制DLC膜层的制备方法，其特征在于，在步骤S4中，
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【技术特征摘要】
1.一种硒化锌基底镀制dlc膜层的制备方法，其特征在于，包括步骤：
2.据权利要求1所述的硒化锌基底镀制dlc膜层的制备方法，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的硒化锌基底镀制dlc膜层的制备方法，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的硒化锌基底镀制dlc膜层的制备方法，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的硒化锌基底镀制dlc膜层的制备方法，其特征在于，
6.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁献波，刘梦佳，刘克武，
申请(专利权)人：安徽光智科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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