【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及测量多层试样中包含的特定的层的厚度的厚度测量方法、x射线分析装置、信息处理装置以及计算机程序。
技术介绍
1、有时想要测量多层试样中包含的各层的厚度。例如，有时想要测量覆盖基材的覆盖膜的厚度。作为测量多层试样的各层的厚度的方法，有如下的方法：向多层试样照射x射线，检测从多层试样产生的荧光x射线，基于荧光x射线，测量各层的厚度。另外，有如下的方法：检测透过多层试样后的透过x射线，根据透过x射线，测量各层的厚度。在专利文献1中公开了基于透过x射线测量试样的厚度的技术。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本专利公开公报特开平11-287643号
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题
2、在基于荧光x射线测量厚度的方法中，从距表面远的部分产生的荧光x射线被检测的强度变小，因此能够测量的厚度存在极限。与透过多层试样后的透过x射线相关的信息成为与多个层相关的信息的重叠。因此，基于透过x射线测量厚度的方法需要各层的组成是已知的。这样，在以往的方法中，能够测量厚度的试样受到限制。
3、本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种能够测量比以往更多的多层试样的厚度的厚度测量方法、x射线分析装置、信息处理装置以及计算机程序。
4、用于解决技术问题的技术方案
5、本专利技术的一个方式的厚度测量方法的特征在于，向包括层叠的第一层以及第二层的试样以x射线按所述第一层、所述第二层的
6、在本专利技术的一个方式中，向包括层叠的第一层以及第二层的试样照射x射线，检测荧光x射线以及透过x射线，基于荧光x射线，确定第一层中的x射线的吸收系数以及第一层的密度。此外，基于透过x射线的两个能量下的强度、第一层中的x射线的吸收系数以及第一层的密度，计算第一层的厚度。通过利用荧光x射线以及透过x射线的双方的检测结果，对于与以往不同的试样，能够测量第一层的厚度。利用基于荧光x射线的检测结果分析得到的第一层的特性，计算第一层的厚度，从而即使对于第一层的组成不清楚的试样，也能够测量第一层的厚度。
7、本专利技术的一个方式的厚度测量方法的特征在于，所述两个能量之差在规定范围内。
8、在本专利技术的一个方式中，为了计算第一层的厚度，利用两个能量下的透过x射线的强度，确定两个能量，使得两个能量之差包含在规定范围内。通过两个能量之差小，向试样照射的x射线的各个能量下的强度大致相同，能够以省略用于计算第一层的厚度的式子中包含的向试样照射的x射线的两个能量的强度比的方式对该式子进行近似。
9、本专利技术的一个方式的厚度测量方法的特征在于，在处于所述两个能量之间的能量范围内不包含所述第二层中包含的元素的吸收边。
10、在本专利技术的一个方式中，两个能量之差小，在处于两个能量之间的能量范围内不包含第二层中包含的元素的吸收边的位置。因此，第二层中的x射线的吸收系数大致相同。能够以省略用于计算第一层的厚度的式子中包含的、用第二层的密度以及第二层的厚度乘以第二层中的两个能量的x射线的吸收系数之差得到的项的方式对该式子进行近似。通过使用近似得到的式子，即使第二层的组成或厚度不清楚，也能够计算第一层的厚度。
11、本专利技术的一个方式的厚度测量方法的特征在于，通过基于所述荧光x射线的元素分析，确定所述两个能量，使得在处于所述两个能量之间的能量范围内包含所述第一层中包含的元素的吸收边。
12、在本专利技术的一个方式中，在处于两个能量之间的能量范围内包含第一层中包含的元素的吸收边的位置。因此，两个能量下的透过x射线的强度之差变大，第一层中的两个能量的x射线的吸收系数之差也变大。在用于计算第一层的厚度的式子中，包含两个能量下的透过x射线的强度之比的对数与第一层中的两个能量的x射线的吸收系数之差的比。式子的计算结果不会不正确，能够正确地计算第一层的厚度。
13、本专利技术的一个方式的x射线分析装置的特征在于，具备：照射部，向包括层叠的第一层以及第二层的试样以x射线按所述第一层、所述第二层的顺序透过的方式照射所述x射线；荧光x射线检测器，检测从所述第一层产生的荧光x射线；透过x射线检测器，检测透过所述试样后的透过x射线；以及分析部，所述分析部通过基于所述荧光x射线的元素分析，确定所述第一层中的x射线的吸收系数以及所述第一层的密度，所述分析部基于所述透过x射线的不同的两个能量下的强度、所述吸收系数以及所述密度，计算所述第一层的厚度。
14、在本专利技术的一个方式中，x射线分析装置向包括层叠的第一层以及第二层的试样照射x射线，检测荧光x射线以及透过x射线，通过基于荧光x射线的元素分析，确定第一层中的x射线的吸收系数以及第一层的密度。另外，x射线分析装置基于透过x射线的两个能量下的强度、第一层中的x射线的吸收系数以及第一层的密度，计算第一层的厚度。利用基于荧光x射线的检测结果分析得到的第一层的特性，计算第一层的厚度，从而即使对于第一层的组成不清楚的试样，也能够测量第一层的厚度。
15、在本专利技术的一个方式的x射线分析装置中，其特征在于，所述分析部不利用所述透过x射线的检测结果，而通过基于所述荧光x射线的元素分析，计算所述第一层的厚度。
16、在本专利技术的一个方式中，x射线分析装置不利用透过x射线的检测结果，仅基于荧光x射线的检测结果，也能够测量试样中包含的第一层的厚度。在第一层的厚度比较小的情况下，x射线分析装置仅基于荧光x射线的检测结果，能够简便地测量第一层的厚度。在第一层的厚度比较大的情况下，x射线分析装置通过利用荧光x射线以及透过x射线双方的检测结果，能够测量第一层的厚度。
17、本专利技术的一个方式的信息处理装置的特征在于具备：取得部，取得通过向包括层叠的第一层以及第二层的试样以x射线按所述第一层、所述第二层的顺序透过的方式照射所述x射线而从所述第一层产生的荧光x射线的检测结果、以及透过所述试样后的透过x射线的检测结果；确定部，通过基于所述荧光x射线的检测结果的元素分析，确定所述第一层中的x射线的吸收系数以及所述第一层的密度；以及计算部，基于所述透过x射线的不同的两个能量下的强度、所述吸收系数以及所述密度，计算所述第一层的厚度。
18、本专利技术的一个方式的计算机程序的特征在于，所述计算机程序使计算机执行如下的处理：基于通过向包括层叠的第一层以及第二层的试样以x射线按所述第一层、所述第二层的顺序透过的方式照射所述x射线而从所述第一层产生的荧光x射线的检测结果，进行元素分析，由此确定所述第一层中的x射线的吸收系数以及所述第一层的密度，基于透过所述试样后的透过x射线的检测结果中包含的所述透过x射线的不同的两本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种厚度测量方法，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的厚度测量方法，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的厚度测量方法，其特征在于，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的厚度测量方法，其特征在于，
5.一种X射线分析装置，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的X射线分析装置，其特征在于，
7.一种信息处理装置，其特征在于，
8.一种计算机程序，其特征在于，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种厚度测量方法，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的厚度测量方法，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的厚度测量方法，其特征在于，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的厚度测量方法...
【专利技术属性】
技术研发人员：大桥聪史，宫本奖平，青山朋树，宫坂真太郎，名仓诚，广濑润，松永大辅，
申请(专利权)人：株式会社堀场制作所，
类型：发明
国别省市：
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