【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及基板处理装置用基板支撑组装体，更详细地，涉及为了执行清洁等半导体制造工序而在支撑基板的状态下使其旋转的基板支撑组装体。
技术介绍
1、基板处理装置是指利用处理液对半导体晶圆、显示器用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等基板进行蒸镀、显影、蚀刻或清洁的装置。
2、其中，清洁工序用于去除存在于上述基板上的异物或颗粒，代表性地，是指在使基板在被夹盘底座(旋转头)支撑的状态下高速旋转的同时向基板的表面或背面供给处理液的处理工序。
3、在上述旋转式清洁装置中，当上述夹盘底座旋转时，为了防止基板沿着夹盘底座的侧面方向脱离，需要在上述夹盘底座的上端沿着周围方向设置多个夹盘销。
4、通常，基板处理装置设置有用于驱动上述夹盘销的机构部(mechanism)和用于驱动上述机构部的驱动部，因此，当基板旋转时，基板被夹盘销把持，并且，当初次向夹盘底座设置或搬运上述基板时，使得上述基板维持从夹盘销分离的状态。
5、即，上述夹盘销具有在基板被把持在旋转头的把持位置与从基板分离的解除位置之间进行移动或旋转的结构。
6、上述夹盘底座、夹盘销、机构部及驱动部构成基板处理装置的基板支撑装置。
7、现有技术文献
8、专利文献
9、专利文献1：韩国公开专利公报第10-2023-0029170号(2023年03月03日)
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于，提供使得用于把持及
2、为了实现上述目的，本专利技术的基板处理装置用基板支撑组装体包括：夹盘底座，当设置基板时，与上述基板相向配置，能够以旋转中心轴为中心进行旋转；夹盘销，突出配置在上述夹盘底座的上部，用于把持或分离上述基板；机构部，用于联动上述夹盘销；以及驱动部，用于驱动上述机构部，上述机构部包括：第一工作部，包括能够通过上述驱动部沿着上述旋转中心轴方向进行升降复原移动的推杆凸轮；第二工作部，因与上述推杆凸轮的升降移动联动而能够以旋转中心轴为中心往复旋转；以及第一复原单元，使得夹盘底座与第二工作部相连接以能够复原上述第二工作部，上述夹盘销因与上述第二工作部的往复旋转联动而能够在原地往复旋转。
3、上述机构部包括导辊，上述导辊能够在一侧面与上述第二工作部的外周面相向的状态下旋转，在上述推杆凸轮的上端形成有倾斜的凸轮引导面，与上述导辊的外周面相接触。
4、在上述第二工作部的内周面形成有齿条齿轮部，在上述夹盘销的外周面形成有与上述齿条齿轮部相啮合的小齿轮部。
5、上述第二工作部为环形，上述齿条齿轮部形成在挡止部，上述挡止部从上述环形部分沿着外侧突出形成。
6、上述机构部包括移动辊，上述移动辊能够在一侧面与上述第二工作部的外周面相向的状态下旋转，在从上述第二工作部的上端突出的状态下，上述移动辊能够与夹盘底座相接触并移动。
7、上述第一工作部包括：一对导杆，上下延伸设置在上述夹盘底座，沿着旋转中心轴的周围方向相互隔开配置；上述推杆凸轮，能够通过上述一对导杆进行上下移动，在上表面形成有倾斜的凸轮引导面，上述倾斜的凸轮引导面通过上述第一复原单元沿着第二工作部的复原方向逐渐升高；以及第二复原单元，沿着上述导杆延伸配置，介于上述夹盘底座与推杆凸轮之间。
8、上述夹盘底座包括：夹盘支撑部，呈沿着水平方向展开的板状；以及收容部，沿着上述夹盘支撑部的外周部形成，用于收容上述机构部，在上表面设置有夹盘销。
9、上述结构的本专利技术具有如下效果，即，若驱动部推动推杆凸轮使其移动到上侧，则形成在推杆凸轮上端的倾斜的凸轮引导面对导辊施加向上的负荷，随着限制向上移动的导辊沿着上述倾斜的凸轮引导面移动，第二工作部以旋转中心轴为中心进行旋转，夹盘销因联动第二工作部的旋转移动而在原地旋转，由此，可通过实现夹盘销对于基板的把持及解除功能来使得工作变得非常可靠和稳定。
10、并且，随着推杆凸轮直线移动，可通过联动齿条齿轮部与小齿轮部的旋转来实现夹盘销的旋转工作，因此，存在结构耐性优秀的优点。
11、并且，在本专利技术中，上述机构部包括移动辊，移动辊能够在一侧面与上述第二工作部的外周面相向的状态下旋转，在从上述第二工作部的上端突出的状态下，上述移动辊因与夹盘底座相接触而能够移动，由于上述移动辊的外周面从上述第二工作部突出并首先接触夹盘底座的表面进行移动，因此，可避免产生摩擦阻力。
12、并且，在本专利技术中，由于第二工作部为环形，上述齿条齿轮部形成在挡止部，而上述挡止部从上述环形部分沿着外侧突出形成，因此，以旋转中心轴为中心的第二工作部自然形成旋转限制。
13、并且，在本专利技术中，由于机构部收容在配置于夹盘支撑部外周部的收容部，因此，可通过实现单层紧凑结构来提高旋转中心轴周围的空间利用度。
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1.一种基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，上述第二工作部为环形，上述齿条齿轮部形成在挡止部，上述挡止部从上述环形部分沿着外侧突出形成。
5.根据权利要求2所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，上述机构部包括移动辊，上述移动辊能够在一侧面与上述第二工作部的外周面相向的状态下旋转，在从上述第二工作部的上端突出的状态下，上述移动辊能够与夹盘底座相接触并移动。
6.根据权利要求2所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，上述第一工作部包括：
7.根据权利要求1或2所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，上述夹盘底座包括：
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，上述第二工作部为环形，上述齿条齿轮部形成在挡止部，上述挡止部从上述环形部分沿着外侧突出形成。
5.根据权利要求...
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