光器件制造技术

本发明专利技术的目的在于实现一种可以防止杂散光向光纤等光出射入射机构侵入且具有优良反射衰减特性的光器件。本发明专利技术的光器件具有：至少在一部分具有壁面（３１）的自由空间；朝自由空间出射光束的一个以上的光出射机构；将经过该自由空间而到达的光束入射的一个以上的光入射机构。另外，在光器件的壁面（３１）的任意部分，设置防止照射到该部分的不需要的光（５２）朝自由空间内反射的终端波导（７０）等反射防止机构。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种具有相互进行光耦合的一个以上的光出射机构和一个 以上的光入射机构的光器件。更详细地说，涉及一种防止在光器件内产生 杂散光的技术。
技术介绍
这种光器件例如使用硅基板作为基板，通过蚀刻等方法将所需要的要素形成于基板上。接着，在该基板上设置光纤等光波导机构。Japanese Patent Application Laid Open No.2005匿37885 (专利文献1 )和Japanese Patent Application Laid Open No.2005-164886 (专利文献2)公开了这种光器件的例子。在专利文献1的图1 ~图3中记载的光器件为2x2型光开关。该光器件 以设置有光纤的四条槽构成十字形的方式形成于基板上。在这些四条槽交 叉的交叉部，设于可动杆前端的可动反射镜以能够移动的状态配置。可动 杆利用四根铰链能够自由移动地被支承，并被在其中间部分构成的梳齿型 静电执行器驱动。根据可动杆的动作，可动反射镜或向交叉部插入或从交 叉部拔出。如上所述的可动反射镜的插拔对分别设置于四条槽的光纤之间 的光路(光耦合)进行切换。专利文献2的图14及图15与专利文献1同样地，公开了 2x2型光开 关。该光器件也是在以构成十字形的方式形成于基板上的四条槽分别设置 光纤。可动反射镜向这些四条槽的交叉部的插拔对光路进行切换。另外，这些专利文献1及专利文献2中记载的光器件中的任一个，在 光纤的前端相对于光轴倾斜地进行研磨(形成倾斜端面)。倾斜端面增大在 光纤端面的反射衰减量，防止对光源的影响或信号质量的劣化等。上述专利文献1或专利文献2中记载的插拔光器件的反射镜的空间为 光纤设置用的四条槽的交叉部。即，该空间为由光纤的前端面及相对于基 板板面而垂直的基板侧壁面包围的空间。光纤配置成其光轴与基板板面平5行。另外，光纤前端的倾斜端面和基板板面垂直。因此，从光纤前端面出 射的出射光的光轴存在于与基板板面平行的平面内。光从一个光纤出射到如上所述的光器件内的空间时，与其他光纤不耦 合的光(特别是，被设于光路中的反射镜或滤光片等元件的表面、其他光 纤的端面等存在于光路中的某种界面反射的光)，被与包围空间的基板板面 垂直的面反射，并在与基板板面平行的一平面内反复反射。最终返回到出 射源的光纤并进行再耦合而不能得到足够的反射衰减量。特别是，如专利文献1或专利文献2中记载的光器件那样，当在传播 光的空间内存在与基板板面垂直的反射镜面时，由于反射镜面的反射率高， 故因杂散光而导致反射衰减特性劣化成为重大问题。并且，考虑如下情况例如将在光传播的空间内具有反射镜面的光器 件作为MEMS ( Micro Electro Mechanical System:」微型才几电系统)而构成的 情况。此时，使用机械掩模(乂力77夕)并通过溅射等在反射镜基体的 表面成膜金属膜(反射膜)。但是，仅在想要形成反射镜面的面上严密地进 行成膜是很困难的，通常会导致在周围也进行成膜。因此，会导致反射镜 面所在位置的空间的侧壁面等也形成金属膜。此时的反射衰减特性的劣化 成为更重大的问题。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于实现一种可以防止杂散光向光纤等光出射入 射机构侵入且具有优良反射衰减特性的光器件。本专利技术的光器件具有至少在一部分具有壁面的自由空间；朝自由空 间出射光束的一个以上的光出射机构；将经过该自由空间而到达的光束入 射的一个以上的光入射机构。另外，在壁面的任意部分形成有反射防止机 构，该反射防止机构防止照射到该部分的光束向自由空间内反射。根据本专利技术，由于可以将杂散光向设备的外部引导或将其吸收而有效 除去，故可以防止杂散光向光纤等光出射机构或光入射机构的侵入。因此， 可以实现良好反射衰减特性和光的干扰降低的光器件。附图说明图1是表示第一实施例的光器件的构成例的平面6图2是表示第一实施例的变形例1的光器件的构成例的平面图3是表示第一实施例的变形例2的光器件的构成例的平面图4A是表示第一实施例的变形例3的光器件的构成例的平面图4B是表示第一实施例的变形例3的光器件的放出部结构的剖面图5是表示第二实施例的光器件的构成例的平面图6A是表示第三实施例的光器件的构成例的平面图6B是表示第三实施例的光器件的构成例的剖面图7A是表示用于与插入了第一反射体的状态的第四实施例对比的光器件的结构的平面图7B是表示用于与拔出第 一反射体的状态的第四实施例对比的光器件的结构的平面图8A是表示插入了第一反射体的状态的第四实施例的光器件的构成 例的平面图8B是表示拔出第 一反射体的状态的第四实施例的光器件的构成例的 平面图9A是表示用于与插入了反射体的状态的光器件的第五实施例对比 的光器件(现有技术)的结构的平面图9B是表示用于与拔出反射体的状态的光器件的第五实施例对比的光 器件(现有技术)的结构的平面图10A是表示插入了反射体的状态的第五实施例的光器件的构成例的 平面图10B是表示拔出反射体的状态的第五实施例的光器件的构成例的平 面图ll是表示用于与第六实施例对比的光器件(现有技术)的结构的平 面图12是表示第六实施例的光器件的构成例的平面图； 图13是表示用于与第六实施例的变形例对比的光器件(现有技术)的 结构的平面图14是表示第六实施例的变形例的光器件的构成例的平面图。具体实施方式基于实施例说明本专利技术。其中，实施例并不限定本专利技术的范围，只是 本专利技术的例子。光器件在其内部设有传播光束的自由空间，在该空间内的光路配置有 反射镜或滤光片等元件。在这种光器件中，在被元件的面反射的反射光为 不能利用的光(不需要的光)时，在包围该自由空间的壁面或光纤的端面 等产生不需要的散射光。这些散射光成为杂散光而在光器件内传播或与光 束的光出射机构、光入射机构进行再耦合，从而成为干扰的原因。特别是， 当来自光出射机构的光束直接照射到高反射率的面上且反射光成为不能利 用的光(不需要的光)时，若该反射光进一步经过壁面等的反射而回到光 出射机构，则成为光器件的反射衰减特性劣化的大的原因。因此，本专利技术公开了如下结构的光器件，即在这些不需要的反射光特 别集中地照射的壁面部分、作为杂散光传播时可认为进行照射或反射的壁 面部分、或不需要的光的光路上，设置用于除去不需要的光的反射防止机 构。由此，照射到该部分的不需要的光不能向自由空间反射。即，可以防 止杂散光的传播或向光出射机构、光入射机构的混入。特别是，对防止反 射衰减特性的劣化是有效的。对反射防止机构而言，可考虑如下机构(1 )在不需要的光照射的壁 面的部分开口部形成终端波导，(2)在不需要的光照射的壁面的部分配置 光吸收部件，(3)通过使不需要的光照射的壁面的部分倾斜而将不需要的 光从光器件内放出等机构。以下，说明实现这些反射防止机构的几个实施 例(光器件的整体结构只要可适用本专利技术的反射防止机构，可以为任意结 构，故省略具体的图示)。接着，将这些实施例的结构用于已有光器件的实 施例，与光器件的整体构成例一并进行说明。另外，在此所说的自由空间指的是不存在边界条件或有意折射率分布 的空间，例如也可以填充有折射率匹配剂。另外，光出射机构、光入射机 构除光纤或其它光传送介质之外，也可为半导体芯片等发出光或接收光的 各种元件、光调制器等。光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光器件，其特征在于，具有：至少在一部分具有壁面的自由空间；朝所述自由空间出射光束的一个以上的光出射机构；将经过所述自由空间而到达的所述光束入射的一个以上的光入射机构；在所述壁面的任意部分，防止照射到该部分的来自所述光出射机构的光（以下称为“不需要的光”）向所述自由空间内反射的反射防止机构。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：加藤嘉睦，
申请(专利权)人：日本航空电子工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]