【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及防爆膜材料领域，特别涉及一种高反射高透过顶镀膜及其制备方法。
技术介绍
1、随着手机制造技术的不断发展，对于信号传输提出了更高的要求。传统的金属外壳对信号传输具有一定的屏蔽作用，因此促进了玻璃手机壳的应用发展。如今，华为、小米、oppo、vivo等手机终端，均采用2.5/3d的玻璃手机壳。但玻璃外壳的抗摔性及防爆性不佳，使用过程中容易损坏。因此现阶段在手机制备过程中通常选择引入保护膜来解决这一问题。鉴于此，对保护膜提出了更高要求，具有良好保护效果的同时还要满足视觉效果及光学效果。
2、手机后盖内防爆膜，又称为顶镀膜，是使用在手机电池玻璃后盖的一层保护膜，有效缓解手机与其他物体发生碰撞导致后盖玻璃面板破碎飞溅。如果没有手机后盖内防爆膜，那么在玻璃破碎后会向四面八方飞溅，所以手机后盖内防爆膜可以降低玻璃面板的不安全因素，进一步提升安全性能；同时还具有高亮度、高反射等光学效果。
3、现在手机后盖内防爆膜的加工工艺主要是gdf：在pet基膜上涂布oca，然后进行后端处理：uv光照、镀膜、印刷等步骤得到符合要求的产品。但此工艺在后盖内膜制备过程中存在反射率低、硬度不够、雾度高等问题；并且在制备过程中容易出现摩尔纹不良，对产品的良率产生影响。
4、所以，有必要对现有技术进行改进，以提供更可靠的方案。
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足，提供一种高反射高透过顶镀膜及其制备方法。
2、为解决上述技
3、优选的是，复合结构层通过在可印刷hc层的下表面采用磁控溅射镀膜得到，所述复合结构层包括由上至下依次层叠设置的打底层、第一氧化铌层、第一二氧化硅层、第二氧化铌层、第二二氧化硅层、第三氧化铌层和硅铝混合层；
4、硅铝混合层中硅:铝的摩尔比为80-95:20-5。
5、优选的是，其中，所述复合结构层的总厚度介于30nm-100nm之间，折射率介于1.90-2.30之间；
6、打底层厚度为0.1-1nm，第一氧化铌层的厚度为5-30nm，第一二氧化硅层厚度为3-16nm，第二氧化铌层厚度为5-20nm，第二二氧化硅层厚度为3-10nm，第三氧化铌层厚度为5-10nm，硅铝混合层厚度为2-10nm。
7、优选的是，所选保护膜层为pet保护膜，厚度为25μm-100μm；
8、所述primer层的厚度为0.1μm-0.9μm。
9、优选的是，所述基材层选自pet层、pi层、tac层、cop层、pc层；所述基材层的厚度为25-100μm。
10、优选的是，所述可印刷hc层为聚氨酯丙烯酸树脂膜层，厚度为1μm-9μm。
11、优选的是，所述oca光学胶层通过在复合结构层上涂布oca胶得到，所述oca胶包括以下质量份的原料：丙烯酸预聚物60-120份；第一光引发剂0.1-0.4份；流平剂0.1-0.3份；偶联剂0.2-0.5份；交联剂0.1-0.4份。
12、优选的是，其中，所述丙烯酸预聚物包括以下质量份的原料：丙烯酸异辛酯45-75份；丙烯酸-2-羟乙酯15-35份；丙烯酸异冰片酯5-22份；丙烯酸5-15份；第二光引发剂0.02-1份；分子量调节剂0.02-1份。
13、优选的是，所述oca光学胶层的厚度为5μm-50μm；所述离型膜的厚度介于100μm-200μm之间。
14、本专利技术还提供一种如上所述的高反射高透过顶镀膜的制备方法，包括以下步骤：
15、s1、在基材层的上表面和下表面分别涂布形成primer层和可印刷hc层，在primer层的上表面贴合保护膜层；
16、s2、采用磁控溅射镀膜工艺，选择氩气轰击靶材，在可印刷hc层的下表面依次镀设打底层、第一氧化铌层、第一二氧化硅层、第二氧化铌层、第二二氧化硅层、第三氧化铌层和硅铝混合层，形成复合结构层；
17、s3、在复合结构层的硅铝混合层的下表面涂布oca胶，固化后形成oca光学胶层；
18、s4、在oca光学胶层的下表面贴合离型膜层，得到所述高反射高透过顶镀膜。
19、本专利技术的有益效果是：
20、1、本专利技术提供了一种高反射高透过顶镀膜及其制备方法，本专利技术的顶镀膜能够避免手机后盖受到外力冲击后产生的玻璃飞溅，并且具有良好的光学效果及视觉效果，本专利技术采用一种新型镀膜工艺，对防爆膜膜层间结构进行设计，不同涂层之间良好的衔接与配合，实现性能目标的同时能解决外观单一的问题。
21、2、本专利技术在光学pet基材上进行pvd溅射处理，通过对设备工艺参数的调整，选择合适的折射率，设置溅制复合层中每一结构层的种类和厚度，得到厚度30nm-100nm的结构层，具有高反射、高透的光学性能，可提高防爆膜的镜面效果；在保证高反射性能的前提下能兼顾防爆膜高透、低雾等光学性能；同时具有良好的附着力和防裂性能。
22、3、在进行pvd处理之前，由于基材的硬度和均一性不够，在进行pvd溅射处理时容易出现起皱收缩现象，导致镀膜层均匀性和致密性较差。因此在pvd溅射之前需要对pet基材进行处理，本专利技术中在溅射面先涂布hc硬化层，能提高基材的表面性能，保证与pvd镀层之间的附着力和镀层的致密性。
23、4、本专利技术在基材层的另一面贴保护膜层，对基材起到良好的支撑保护作用，与hc硬化层协同作用，能确保在pvd溅射时膜材的平整度及硬度，保证镀层效果的均匀性和稳定性；基材层与保护膜层通过primer粘合，能匹配大部分uv转印胶。
24、5、本专利技术中使用自主合成的oca光学胶，透过率高、雾度低，对多种板材均具有优良的粘结效果，能同时兼顾环测、大角度贴合不反弹等性能。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种高反射高透过顶镀膜，其特征在于，包括由上至下依次层叠设置的保护膜层、primer层、基材层、可印刷HC层、复合结构层、OCA光学胶层和离型膜层。
2.根据权利要求1所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，复合结构层通过在可印刷HC层的下表面采用磁控溅射镀膜得到，所述复合结构层包括由上至下依次层叠设置的打底层、第一氧化铌层、第一二氧化硅层、第二氧化铌层、第二二氧化硅层、第三氧化铌层和硅铝混合层；
3.根据权利要求2所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，其中，所述复合结构层的总厚度介于30nm-100nm之间，折射率介于1.90-2.30之间；
4.根据权利要求1所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，所选保护膜层为PET保护膜，厚度为25μm-100μm；
5.根据权利要求1所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，所述基材层选自PET层、PI层、TAC层、COP层、PC层；所述基材层的厚度为25-100μm。
6.根据权利要求1所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，所述可印刷HC层为聚氨酯丙烯酸树脂膜层，厚度为1μm-9
7.根据权利要求1所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，所述OCA光学胶层通过在复合结构层上涂布OCA胶得到，所述OCA胶包括以下质量份的原料：丙烯酸预聚物60-120份；第一光引发剂0.1-0.4份；流平剂0.1-0.3份；偶联剂0.2-0.5份；交联剂0.1-0.4份。
8.根据权利要求7所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，其中，所述丙烯酸预聚物包括以下质量份的原料：丙烯酸异辛酯45-75份；丙烯酸-2-羟乙酯15-35份；丙烯酸异冰片酯5-22份；丙烯酸5-15份；第二光引发剂0.02-1份；分子量调节剂0.02-1份。
9.根据权利要求1所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，所述OCA光学胶层的厚度为5μm-50μm；所述离型膜的厚度介于100μm-200μm之间。
10.一种如权利要求1-9中任意一项所述的高反射高透过顶镀膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种高反射高透过顶镀膜，其特征在于，包括由上至下依次层叠设置的保护膜层、primer层、基材层、可印刷hc层、复合结构层、oca光学胶层和离型膜层。
2.根据权利要求1所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，复合结构层通过在可印刷hc层的下表面采用磁控溅射镀膜得到，所述复合结构层包括由上至下依次层叠设置的打底层、第一氧化铌层、第一二氧化硅层、第二氧化铌层、第二二氧化硅层、第三氧化铌层和硅铝混合层；
3.根据权利要求2所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，其中，所述复合结构层的总厚度介于30nm-100nm之间，折射率介于1.90-2.30之间；
4.根据权利要求1所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，所选保护膜层为pet保护膜，厚度为25μm-100μm；
5.根据权利要求1所述的高反射高透过顶镀膜，其特征在于，所述基材层选自pet层、pi层、tac层、cop层、pc层；所述基材层的厚度为25-100μm。
6.根据权利要求1所述的高反射高透过...
【专利技术属性】
技术研发人员：金闯，黄倩倩，赵帅，宋浩杰，蒋晓明，
申请(专利权)人：江苏斯迪克新材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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