【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光刻，尤其是涉及一种对称式双远心大视场成像系统及光刻设备。
技术介绍
1、随着光刻技术的不断发展，在精度和产能要求的要求也愈发严格。而作为光刻技术中核心部件的投影光刻物镜，其性能的高低直接决定了光刻系统的光刻水平。在相关技术中，通常使用的投影光刻物镜的镜片数量较多，共轭据范围较大，导致投影光刻物镜装配复杂，加工难度大，且成本较为昂贵，此外，现有技术中普遍存在光刻系统的像方视场小、畸变大、焦深小等问题，导致光刻系统的最终成像效果不佳。
技术实现思路
1、本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。
2、为此，本技术的一个目的在于提出一种对称式双远心大视场成像系统，该装置通过设置对称于光阑的14片透镜，使成像系统所产生的像差相互补偿，在提高成像质量的同时，大幅度降低了加工，检测和装校的工艺难度和成本。
3、为此，本技术的第二个目的在于提出一种光刻设备。
4、为实现上述目的，本技术第一方面的实施例公开了一种对称式双远心大视场成像系统，包括：物面、光阑、第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和像面；所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述光阑、所述第三透镜组、所述第四透镜组沿光轴从所述物面到所述像面依次设置；所述第一透镜组位于所述物面的后方以及所述第二透镜组的前方，所述第二透镜组位于所述第一透镜组的后方以及所述光阑的前方，所述光阑位于所述第二透镜组和所述第三透镜组之间，所述第三透镜组位于所述光阑的后方以及所述第四透镜组的前方，所述第四透
5、根据本技术实施例的对称式双远心大视场成像系统，通过设置以光阑为对称面完全对称的第一透镜组、第三透镜组以及第二透镜组和第四透镜组，可以使对称式双远心大视场成像系统的像差产生大小相等，符号相反的效果，实现相互补偿，进而自动校正为零，提高成像的质量，进一步的，通过设置14片透镜，可以在保证高质量成像的同时，优化对称式双远心大视场成像系统的结构，使其结构简单，大幅度降低制造成本以及检测和装校的工艺复杂度。
6、另外，根据本技术上述实施例的对称式双远心大视场成像系统，还可以具有如下附加的技术特征：
7、在一些实施例中，所述第一透镜、所述第三透镜、所述第四透镜、所述第五透镜、所述第六透镜、所述第九透镜、所述第十透镜、所述第十一透镜、所述第十二透镜、所述第十四透镜为正透镜，所述第二透镜、所述第七透镜、所述第八透镜、所述第十三透镜为负透镜。
8、在一些实施例中，所述第一透镜、所述第三透镜及所述第五透镜为平凸透镜，且具有正的光焦度，所述第一透镜、所述第三透镜及所述第五透镜的靠近所述物面的一侧为平面。
9、在一些实施例中，所述第二透镜为双凹透镜，且具有负的光焦度，其靠近物面的一侧的曲率半径小于靠近所述像面的一侧。
10、在一些实施例中，所述第四透镜为双凸透镜，且具有正的光焦度，其靠近所述物面的一侧的曲率半径大于靠近所述像面的一侧。
11、在一些实施例中，所述第六透镜为弯月透镜，且具有正的光焦度，其靠近所述物面的一侧的曲率半径小于靠近所述像面的一侧。
12、在一些实施例中，所述第七透镜为平凹透镜，且具有负的光焦度，其靠近所述物面的一侧为平面。
13、在一些实施例中，所述第一透镜至所述第十四透镜均为球面，且所述第一透镜至所述第十四透镜通过正负光焦度的组合及不同材料的组合，可进行各类像差的校正。
14、在一些实施例中，所述对称式双远心大视场成像系统的物方远心度小于或等于0.2度，所述对称式双远心大视场成像系统的像方远心度小于或等于0.2度。
15、在一些实施例中，所述对称式双远心大视场成像系统的波长的范围为400nm≤λ≤410nm，所述对称式双远心大视场成像系统的物方数值孔径的范围为0.08≤na≤0.12，所述对称式双远心大视场成像系统的物方线视场的范围为20mm≤y≤30mm，所述对称式双远心大视场成像系统的垂轴放大倍率为-1。
16、在一些实施例中，所述对称式双远心大视场成像系统的轭距为650mm，所述对称式双远心大视场成像系统的物距与像距的范围为75mm-95mm。
17、在一些实施例中，所述第一透镜至所述第十四透镜均采用玻璃材料。
18、为实现上述目的，本技术第二方面的实施例公开了一种光刻设备，包括如本技术第一方面实施例所述的对称式双远心大视场成像系统。
19、根据本技术实施例的光刻设备，通过设置以光阑为对称面完全对称的第一透镜组、第三透镜组以及第二透镜组和第四透镜组，可以使对称式双远心大视场成像系统的像差产生大小相等，符号相反的效果，实现相互补偿，进而自动校正为零，提高成像的质量，进一步的，通过设置14片透镜，可以在保证高质量成像的同时，优化对称式双远心大视场成像系统的结构，使其结构简单，大幅度降低制造成本以及检测和装校的工艺复杂度。
20、本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，包括：物面、光阑、第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和像面；
2.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第一透镜、所述第三透镜、所述第四透镜、所述第五透镜、所述第六透镜、所述第九透镜、所述第十透镜、所述第十一透镜、所述第十二透镜、所述第十四透镜为正透镜，所述第二透镜、所述第七透镜、所述第八透镜、所述第十三透镜为负透镜。
3.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第一透镜、所述第三透镜及所述第五透镜为平凸透镜，且具有正的光焦度，所述第一透镜、所述第三透镜及所述第五透镜的靠近所述物面的一侧为平面。
4.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第二透镜为双凹透镜，且具有负的光焦度，其靠近物面的一侧的曲率半径小于靠近所述像面的一侧。
5.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第四透镜为双凸透镜，且具有正的光焦度，其靠近所述物面的一侧的曲率半径大于靠近所述像面的一侧。
6
7.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第七透镜为平凹透镜，且具有负的光焦度，其靠近所述物面的一侧为平面。
8.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第一透镜至所述第十四透镜均为球面，且所述第一透镜至所述第十四透镜通过正负光焦度的组合及不同材料的组合，可进行各类像差的校正。
9.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述对称式双远心大视场成像系统的物方远心度小于或等于0.2度，所述对称式双远心大视场成像系统的像方远心度小于或等于0.2度。
10.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述对称式双远心大视场成像系统的波长的范围为400nm≤λ≤410nm，所述对称式双远心大视场成像系统的物方数值孔径的范围为0.08≤NA≤0.12，所述对称式双远心大视场成像系统的物方线视场的范围为20mm≤Y≤30mm，所述对称式双远心大视场成像系统的垂轴放大倍率为-1。
11.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述对称式双远心大视场成像系统的轭距为650mm，所述对称式双远心大视场成像系统的物距与像距的范围为75mm-95mm。
12.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第一透镜至所述第十四透镜均采用玻璃材料。
13.一种光刻设备，其特征在于，包括如权利要求1-12任一项所述的对称式双远心大视场成像系统。
...【技术特征摘要】
1.一种对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，包括：物面、光阑、第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和像面；
2.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第一透镜、所述第三透镜、所述第四透镜、所述第五透镜、所述第六透镜、所述第九透镜、所述第十透镜、所述第十一透镜、所述第十二透镜、所述第十四透镜为正透镜，所述第二透镜、所述第七透镜、所述第八透镜、所述第十三透镜为负透镜。
3.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第一透镜、所述第三透镜及所述第五透镜为平凸透镜，且具有正的光焦度，所述第一透镜、所述第三透镜及所述第五透镜的靠近所述物面的一侧为平面。
4.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第二透镜为双凹透镜，且具有负的光焦度，其靠近物面的一侧的曲率半径小于靠近所述像面的一侧。
5.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第四透镜为双凸透镜，且具有正的光焦度，其靠近所述物面的一侧的曲率半径大于靠近所述像面的一侧。
6.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第六透镜为弯月透镜，且具有正的光焦度，其靠近所述物面的一侧的曲率半径小于靠近所述像面的一侧。
7.根据权利要求1所述的对称式双远心大视场成像系统，其特征在于，所述第七透镜为平凹...
【专利技术属性】
技术研发人员：戚蓉蓉，戴晓霖，张敏，吕敏，
申请(专利权)人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。