【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及输送装置、输送方法和半导体装置的制造方法。
技术介绍
1、专利文献1公开了用于形成多晶硅薄膜的激光退火装置。在专利文献1中，投影透镜将激光集中在基板上，使得激光形成线性照射区域。结果，非晶硅膜结晶并变成多晶硅膜。
2、在专利文献1中，输送单元输送基板，而悬浮单元使基板悬浮。此外，在悬浮单元中，基板在相同的位置装载和卸载。输送单元沿着悬浮单元的每一侧输送基板。此外，基板在悬浮单元上方以环绕方式输送两次，使得基板的基本上整个表面被激光照射。
3、引用列表
4、专利文献
5、专利文献1：日本未审查的专利申请公开jp 2018－64048。
技术实现思路
1、在这种用于激光照射装置的输送装置中，期望适当地输送基板，使得以高速和稳定的方式执行激光照射过程。
2、根据本说明书中的说明和附图，要解决的其他问题和新颖特征将变得显而易见。
3、根据实施方式，输送装置设计成输送基板以便用线状激光照射基板，并且包括：主悬浮单元，其包括布置在激光的照射位置的正下方的照射区域，并且设计成使基板悬浮在主悬浮单元的上表面上方；保持机构，其布置在主悬浮单元的外部，并且设计成将基板保持在主悬浮单元上方；第一移动机构，其设计成使保持机构沿第一方向移动，以改变激光在基板上的照射位置；以及第二移动机构，其设计成使保持机构和第一移动机构沿与第一方向倾斜的第二方向移动，以改变激光在基板上的照射位置。
4、根据实施方式，输送装置设
5、根据实施方式，输送方法是用于通过使用输送装置输送基板以便用线状激光照射基板的输送方法，该输送装置包括：主悬浮单元，其包括布置在激光的照射位置的正下方的照射区域，并且设计成使基板悬浮在主悬浮单元的上表面上方；以及保持机构，其布置在主悬浮单元的外部，并设计成将基板保持在主悬浮单元上方，输送方法包括以下步骤：(a1)通过第一移动机构使保持机构沿第一方向移动，以改变激光在基板上的照射位置；以及(a2)通过第二移动机构使保持机构和第一移动机构沿与第一方向倾斜的第二方向移动，以改变激光在基板上的照射位置。
6、根据实施方式，在使用输送装置的输送方法中，该输送装置设计成输送基板以便用线状激光照射该基板，并且该输送装置包括：主悬浮单元，其包括布置在激光的照射位置的正下方的照射区域，并且设计成使基板悬浮在主悬浮单元的上表面上方；可动悬浮单元，其布置在主悬浮单元的外部，包括沿第一方向设置的开口，并且设计成将气体喷射到基板的下表面上；以及保持机构，其布置在开口中，并设计成保持基板，并且输送方法包括步骤(b1)：通过第一移动机构使保持机构和可动悬浮单元沿第一方向移动。
7、根据实施方式，半导体装置的制造方法包括以下步骤：(sa1)在基板上形成非晶膜；(sa2)将上面形成有非晶膜的基板装载到输送装置上；以及(sa3)一边使用输送装置输送基板，一边用线状激光照射基板，从而对非晶膜进行退火，使得非晶膜结晶形成结晶膜，输送装置包括：主悬浮单元，其包括布置在激光的照射位置的正下方的照射区域，并且设计成使基板悬浮在主悬浮单元的上表面上方；保持机构，其布置在主悬浮单元的外部，并且设计成将基板保持在主悬浮单元上方；第一移动机构，其设计成使保持机构沿第一方向移动，以改变激光在基板上的照射位置；以及第二移动机构，其设计成使保持机构移动；以及第一移动机构，其设计成使保持机构和悬浮单元沿第一方向移动。
8、根据实施方式，半导体装置的制造方法包括以下步骤：(sb1)在基板上形成非晶膜；(sb2)将上面形成有非晶膜的基板装载到输送装置上；以及(sb3)一边使用输送装置输送基板，一边用线状激光照射基板，从而对非晶膜进行退火，使得非晶膜结晶形成结晶膜，其中，输送装置包括：主悬浮单元，其包括布置在激光的照射位置的正下方的照射区域，并且设计成使基板悬浮在主悬浮单元的上表面上方；悬浮单元，其布置在主悬浮单元的外部，包括沿第一方向设置的开口，并且设计成将气体喷射到基板的下表面上；以及保持机构，其布置在开口中并且设计成保持基板，并且该方法包括通过第一移动机构使保持机构和悬浮单元沿第一方向移动的步骤。
9、根据上述实施方式，可执行适合于激光照射工艺的基板输送。
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1.输送装置，其设计成输送基板，以便用线状激光照射所述基板，所述输送装置包括：
2.根据权利要求1所述的输送装置，其中，所述输送装置还包括可动悬浮单元，所述可动悬浮单元具有沿第一方向形成的开口，并且设计成将气体喷射到所述基板的下表面上，其中，
3.输送装置，其设计成输送基板，以便用线状激光照射所述基板，所述输送装置包括：
4.根据权利要求3所述的输送装置，其中，所述输送装置还包括第二移动机构，所述第二移动机构设计成使所述保持机构和所述悬浮单元沿在俯视图中与所述第一方向倾斜的第二方向移动，其中，
5.根据权利要求1或3所述的输送装置，其中，所述输送装置还包括升降机构，所述升降机构设计成用于使所述保持机构升降，其中，所述第一移动机构使所述升降机构沿所述第一方向移动。
6.根据权利要求1或3所述的输送装置，其中，所述输送装置还包括端部悬浮单元，所述端部悬浮单元设计成将气体喷射到所述基板的端部的下表面上，其中，所述保持机构在所述端部悬浮单元和所述主悬浮单元之间移动。
7.输送方法，用于通过使用输送装置来输送基板以便用
8.根据权利要求7所述的输送方法，其中，
9.输送装置，其设计成输送基板，以便用线状激光照射所述基板，所述输送装置包括：
10.根据权利要求9所述的输送方法，其中，
11.根据权利要求7或9所述的输送方法，其中，
12.根据权利要求7或9所述的输送方法，其中，
13.半导体装置的制造方法，包括以下步骤：
14.根据权利要求13所述的半导体装置的制造方法，其中，
15.半导体装置的制造方法，包括以下步骤：
16.根据权利要求15所述的半导体装置的制造方法，其中，
17.根据权利要求13或15所述的半导体装置的制造方法，其中，
18.根据权利要求13或15所述的半导体装置的制造方法，其中，
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.输送装置，其设计成输送基板，以便用线状激光照射所述基板，所述输送装置包括：
2.根据权利要求1所述的输送装置，其中，所述输送装置还包括可动悬浮单元，所述可动悬浮单元具有沿第一方向形成的开口，并且设计成将气体喷射到所述基板的下表面上，其中，
3.输送装置，其设计成输送基板，以便用线状激光照射所述基板，所述输送装置包括：
4.根据权利要求3所述的输送装置，其中，所述输送装置还包括第二移动机构，所述第二移动机构设计成使所述保持机构和所述悬浮单元沿在俯视图中与所述第一方向倾斜的第二方向移动，其中，
5.根据权利要求1或3所述的输送装置，其中，所述输送装置还包括升降机构，所述升降机构设计成用于使所述保持机构升降，其中，所述第一移动机构使所述升降机构沿所述第一方向移动。
6.根据权利要求1或3所述的输送装置，其中，所述输送装置还包括端部悬浮单元，所述端部悬浮单元设计成将气体喷射到所述基板的端部的下表面上，其中...
【专利技术属性】
技术研发人员：清水良，藤贵洋，山口芳广，小田岛保，
申请(专利权)人：JSW阿克迪纳系统有限公司，
类型：发明
国别省市：
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