【技术实现步骤摘要】
本技术涉及研磨，特别涉及一种研磨支撑设备。
技术介绍
1、研磨机广泛应用于压电晶体、化合物半导体、硅晶体、光学玻璃、陶瓷片、金属材质以及其它硬脆性材料的高精度，进行双面研磨加工，但由于研磨过程中设备的打磨过程中的运动幅度较大，从而导致设备整体容易产生晃动，进而使得设备整体不稳定，可能会导致设备掉落进而损坏，造成损失。
技术实现思路
1、本技术的主要目的是提供一种研磨支撑设备，旨在提高研磨设备的稳定性。
2、为实现上述目的，本技术提出一种研磨支撑设备，包括：
3、一体式底座，所述一体式底座包括支撑部和研磨部，所述一体式底座侧壁围合形成支撑部，所述支撑部间隔设有操作位，所述操作位连通所述一体式底座的内腔，所述一体式底座上端面沿底壁方向延伸有研磨部，所述研磨部连通所述一体式底座的内腔。
4、在本申请的一实施例中，所述支撑部壁面具有散热孔，所述散热孔分布于所述一体式底座壁面。
5、在本申请的一实施例中，所述一体式底座底壁设有加强筋，所述加强筋间隔贴合于所述一体式底座的壁面。
6、在本申请的一实施例中，所述一体式底座底壁还分布有缓冲口，所述缓冲口连通所述一体式底座的内腔。
7、在本申请的一实施例中，所述一体式底座邻近所述支撑部存在固定孔，所述固定孔延伸至所述一体式底座的内腔，用于固定研磨设备。
8、在本申请的一实施例中，所述研磨部端面朝向底壁一侧设有泄压孔。
9、本技术技术方案通过将一体式底座作为
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1.一种研磨支撑设备，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的一种研磨支撑设备，其特征在于，所述支撑部壁面具有散热孔，所述散热孔分布于所述一体式底座壁面。
3.如权利要求2所述的一种研磨支撑设备，其特征在于，所述一体式底座底壁设有加强筋，所述加强筋间隔贴合于所述一体式底座的壁面。
4.如权利要求3所述的一种研磨支撑设备，其特征在于，所述一体式底座底壁还分布有缓冲口，所述缓冲口连通所述一体式底座的内腔。
5.如权利要求4所述的一种研磨支撑设备，其特征在于，所述一体式底座邻近所述支撑部存在固定孔，所述固定孔延伸至所述一体式底座的内腔，用于固定研磨设备。
6.如权利要求1所述的一种研磨支撑设备，其特征在于，所述研磨部端面朝向底壁一侧设有泄压孔。
【技术特征摘要】
1.一种研磨支撑设备，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的一种研磨支撑设备，其特征在于，所述支撑部壁面具有散热孔，所述散热孔分布于所述一体式底座壁面。
3.如权利要求2所述的一种研磨支撑设备，其特征在于，所述一体式底座底壁设有加强筋，所述加强筋间隔贴合于所述一体式底座的壁面。
4.如权利要求3所述的一种研磨支撑...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴坤，吴后榜，张兴祥，
申请(专利权)人：东莞市顺怡隆机械科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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