【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于气体行业中氩气回收，涉及一种带均流器的除co气体炉，用于单晶硅光伏行业氩气回收系统里的脱除一氧化碳设备上。
技术介绍
1、近年来，随着社会经济发展和气体工业技术的进步，市场对高纯氩气的需求也越来越高，如电子工业用氩气要求氧含量小于0.2ppm，一氧化碳小于0.1ppm等。但一些气体行业设备由于种种原因导致分离提纯出来的产品氩气中杂质含量高，导致产品氩气的纯度偏低，无法满足工艺上对高纯氩气的要求，经济效益收到了极大限制。
2、目前，在单晶硅光伏行业氩气回收系统里，普遍采用除co炉来脱除氩气中的co杂质。但存在的问题是，在除co炉脱除杂质的过程中，气体通过脱除co设备时，由于设备进口气体流量大，流速快，导致进入设备的氩气在设备内分布不均匀（一般气体多分布在进口处），停留时间短，不能将氩气中的co杂质进行有效的脱除，严重影响氩气的纯度，大流量的气体对设备内的填料层也造成了很大的冲击，造成填料层的粉化，不仅影响填料层的使用寿命，也给后面其它的工艺设备带来对了运行安全风险，而且，由于上述存在的氩气在设备内分布不均匀（一般气体多分布在进口处）的情况，导致设备内的填料层层一般最靠近进口处的上端使用损耗大，当填料层层需要更换时，往往填料层层的最下端并未损耗多少，极大地造成了资源的浪费。
3、为此，设计一种带均流器的除co气体炉，从而克服上述问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于克服现有技术存在的不足，而提供一种结构简单合理，实用方便的带均流器的除co气
2、本专利技术是通过如下的技术方案予以实现的：一种带均流器的除co气体炉，它包括除co气体炉，所述除co气体炉从上到下的顺序，包括进气段，脱除co段和出气段，其中进气段的顶部开设有进气管和气体均流器，脱除co段内放置有填料层，出气段上开设有出气管以及底部的支撑脚。
3、作为优选：所述气体均流器设置在进气管的底部，且下方正对填料层，所述气体均流器与进气管的底部焊接固定。
4、作为优选：所述气体均流器为圆台状结构，其中上方圆形尺寸与进气管相对应，底部的尺寸大于顶部的尺寸呈敞开状结构。
5、作为优选：所述气体均流器的圆台面上开设有多个圆孔，该圆孔大小不同，且随机排布，可以提高气流分布。
6、作为优选：所述气体均流器的圆台面上开设有多个圆孔，每个圆孔大小相同呈上中下三排结构，且相邻的两排圆孔之间呈交叉排布。
7、作为优选：所述气体均流器的底部开设有多根直通下方填料层的管道，该管道位于填料层的下方位置开设有多个出气孔，使气体直接通入下方的填料层。
8、作为优选：所述填料层为2层结构，分别为吸水层和除co层，其中吸水层内放置有氧化铝或活性炭或3a高效分子层，除co层内放置有铜基的催化剂，其中均流器的管道直通吸水层。
9、作为优选：所述支撑脚上还预留螺栓孔，螺栓孔可安装万向轮，方便移动。
10、本专利技术的有益效果如下：
11、本专利技术设计新颖巧妙，结构简单，成本低，使用稳定可靠，气流通过气体均流器（或通过气体均流器底部的直通管道）后可以最大程度提高气流分布以及最大程度利用填料层，保证气流与填料层进行均匀的充分接触，达到了对杂质co的脱除要求，同时也提高了填料层的利用率，减小了进气气流对填料层的冲击，延长了填料层的使用寿命，具有广阔的应用前景。
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1.一种带均流器的除CO气体炉，它包括除CO气体炉，其特征在于：所述除CO气体炉从上到下的顺序，包括进气段，脱除CO段和出气段，其中进气段的顶部开设有进气管和气体均流器，脱除CO段内放置有填料层，出气段上开设有出气管以及底部的支撑脚。
2.根据权利要求1所述的带均流器的除CO气体炉，其特征在于：所述气体均流器设置在进气管的底部，且下方正对填料层，所述气体均流器与进气管的底部焊接固定。
3.根据权利要求2所述的带均流器的除CO气体炉，其特征在于：所述气体均流器为圆台状结构，其中上方圆形尺寸与进气管相对应，底部的尺寸大于顶部的尺寸呈敞开状结构。
4.根据权利要求3所述的带均流器的除CO气体炉，其特征在于：所述气体均流器的圆台面上开设有多个圆孔，该圆孔大小不同，且随机排布，可以提高气流分布。
5.根据权利要求3所述的带均流器的除CO气体炉，其特征在于：所述气体均流器的圆台面上开设有多个圆孔，每个圆孔大小相同呈上中下三排结构，且相邻的两排圆孔之间呈交叉排布。
6.根据权利要求4或5所述的带均流器的除CO气体炉，其特征在于：所述气
7.根据权利要求6所述的带均流器的除CO气体炉，其特征在于：所述填料层为2层结构，分别为吸水层和除CO层，其中吸水层内放置有氧化铝或活性炭或3A高效分子层，除CO层内放置有铜基的催化剂，其中均流器的管道直通吸水层。
8.根据权利要求1所述的带均流器的除CO气体炉，其特征在于：所述支撑脚上还预留螺栓孔，螺栓孔可安装万向轮，方便移动。
...【技术特征摘要】
1.一种带均流器的除co气体炉，它包括除co气体炉，其特征在于：所述除co气体炉从上到下的顺序，包括进气段，脱除co段和出气段，其中进气段的顶部开设有进气管和气体均流器，脱除co段内放置有填料层，出气段上开设有出气管以及底部的支撑脚。
2.根据权利要求1所述的带均流器的除co气体炉，其特征在于：所述气体均流器设置在进气管的底部，且下方正对填料层，所述气体均流器与进气管的底部焊接固定。
3.根据权利要求2所述的带均流器的除co气体炉，其特征在于：所述气体均流器为圆台状结构，其中上方圆形尺寸与进气管相对应，底部的尺寸大于顶部的尺寸呈敞开状结构。
4.根据权利要求3所述的带均流器的除co气体炉，其特征在于：所述气体均流器的圆台面上开设有多个圆孔，该圆孔大小不同，且随机排布，可以提高气流分布。
【专利技术属性】
技术研发人员：纪民举，代井平，杨代权，胡玖益，李培培，鲁立平，任海江，史彪，
申请(专利权)人：上海亿钶气体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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