【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种包含聚苯并恶唑或聚酰亚胺系聚合物及硅烷系添加剂而制成的半导体装置或显示装置采用的阳性感光性组合物。
技术介绍
1、光刻工艺大体上由以下步骤组成，其依次为：涂层步骤：基板上涂布光致抗蚀剂组合物；曝光步骤：采用透过掩膜的光源或e-beam等，在光致抗蚀剂膜上形成图案；显影步骤：移除刻有图案的光致抗蚀剂膜的特定区域。另外，在各个步骤的中间附加热处理(baking)步骤：该步骤从光致抗蚀剂组合物清除溶剂或者对于膜实施固化。
2、所述光刻工艺大致分为阴性及阳性工艺，在显影步骤，阳性工艺使曝光部与显影液发生化学反应，溶解其反应生成物并予以清除，与此相反，阴性工艺使非曝光部与显影液发生化学反应，溶解其反应生成物并予以清除。其中，阳性工艺在曝光步骤，采用吸收光而增加溶解度的感光剂(photo active compound)，并在显影步骤，精准地仅清除曝光部，因此，可以获得比阴性工艺更精确的图案。
3、传统的半导体装置或显示装置采用阳性感光型树脂组合物，由于高的耐热性、耐化学性、耐气候性等，该阳性感光型树脂组合物利用聚酰亚胺或聚苯并噁唑等树脂，但，在显影步骤，由于高分子树脂的分子量受到限制，该聚合物树脂用于通过碱性水溶液进行显影而实现精准的电路，因此，在可以实现的机械物性上表现出局限性。
4、【先行技术文献】
5、【专利文献】
6、(专利文献1)日本公开专利第2006-526812号
7、(专利文献2)日本公开专利第2007-508582号
>技术实现思路
1、所要解决的课题
2、为了解决传统技术的上述弊端，本专利技术的目的在于，提供一种聚苯并噁唑或聚酰亚胺系聚合物成分中导入可增加机械物性的单体以及可增强与基质之间贴紧力的硅烷系添加剂，以加强贴紧力的感光型组合物。
3、并且，本专利技术的目的在于，提供一种采用所述阳性感光性组合物形成的图案或膜以及利用其制备的半导体装置或显示装置。
4、课题解决方案
5、优选地，本专利技术所述阳性感光性组合物包含(a)聚苯并噁唑或聚酰亚胺系聚合物；(b)感光剂；(c)硅烷系添加剂；以及(d)溶剂。
6、优选地，所述聚合物包括重复单位，该重复单位由化学式1-1；化学式1-2；化学式1-3；化学式1-4；或其组合组成。
7、<化学式1-1>
8、
9、<化学式1-2>
10、
11、<化学式1-3>
12、
13、<化学式1-4>
14、
15、上述化学式1-1至化学式1-4中，
16、1)*是以重复单位使键合相连的部分，
17、2)高分子末端的*是化学式q-1至q-10通过酰胺键或酰亚胺键实现键合的部分，
18、3)x1或x2是以下化学式2，
19、4)y选自由以下成分组成的组：c6～c30的亚芳基(arylene group)；包含o、n、s、si及p中至少一个杂原子(hetero atom)的c2～c30的杂环基(heterocyclyl group)；c6～c30的脂肪族环和芳香族环的稠环基(cyclo group)；c1～c20的亚烷基(alkylene group)；c1～c20的环亚烷基(cycloalkylene group)；c2～c20的亚烯基(alkenylene group)；c3～c20的环亚烯基(cycloalkenylene group)；c2～c20的亚炔基(alkynylene group)；c3～c20的环亚炔基(cycloalkynylene group)；化学式2；以及其组合，
20、5)z选自由以下成分组成的组：c6～c30的亚芳基(arylene group)；包含o、n、s、si及p中至少一个杂原子(hetero atom)的c2～c30的杂环基(heterocyclyl group)；c6～c30的脂肪族环和芳香族环的稠环基(cyclo group)；c1～c20的亚烷基(alkylene group)；c1～c20的环亚烷基(cycloalkylene group)；c2～c20的亚烯基(alkenylene group)；c3～c20的环亚烯基(cycloalkenylene group)；c2～c20的亚炔基(alkynylene group)；c3～c20的环亚炔基(cycloalkynylene group)；化学式3；以及其组合，
21、6)k、l、m、n为1以上的整数，
22、<化学式q1至q10>
23、
24、7)高分子末端通过酰胺或酰亚胺键，键合有选自以上化学式q-1至q-10的一种或由其组合组成的组的化学式，
25、<化学式2>
26、
27、以上化学式2中，
28、8)l1选自由单键、–ch2-、-ch2ch2-、-ch2och2-、-ch(ch3)-、-c(ch3)2-、-c(c2h5)2-、-c(c3h7)2-、-c(c4h9)2-、-c(c5h11)2-、-c(c6h13)2-、-c(c5h10)-、–o-、-ch(cf3)-、-c(cf3)2-、-s-、-so2-、-si(ch3)2-、-c(sich3)2、-c6h4-、-co-、-nhco-、-coo-组成的组，
29、9)r1至r10中两个是与化学式1-1及化学式1-2所示酰胺基的键合位点，
30、10)除了所述键合位点之外，其余的r1至r10相互独立地为：氢；重氢；羟基(hydroxygroup)；c6～c30的芳基(aryl group)；包含o、n、s、si及p中至少一个杂原子(hetero atom)的c2～c30的杂环基(heterocyclyl group)；c6～c30的脂肪族环和芳香族环的稠环基(cyclogroup)；c1～c20的烷基(alkyl group)；c2～c20的烯基(alkenyl group)；c2～c20的炔基(alkinyl group)；c1～c20的烃氧基(alkoxy group)；c6～c30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；羧基(carboxylgroup)；或c1～c20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
31、11)l1为单键时，不是所述键合位点的相邻的r1及r10；与r5及r6可以形成环，
32、<化学式3>
33、
34、以上化学式3中，
35、12)l2选自由单键、–ch2-、-ch2ch2-、-ch2och2-、本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种阳性感光性组合物，其特征在于：包含(A)聚苯并噁唑或聚酰亚胺系聚合物；(B)感光剂；(C)硅烷系添加剂；以及(D)溶剂。
2.根据权利要求1所述的阳性感光性组合物，其特征在于：所述聚苯并噁唑或聚酰亚胺系聚合物包括重复单位，该重复单位选自以下化学式1-1；化学式1-2；化学式1-3；化学式1-4；或其组合组成的组，
3.根据权利要求1所述的阳性感光性组合物，其特征在于：所述硅烷系添加剂包含以下化学式T-1；或化学式T-1及T-2的组合，
4.根据权利要求3所述的硅烷系添加剂，其特征在于：所述化学式T-1包含以下化学式J-1至化学式J-15表示的化合物：
5.根据权利要求3所述的硅烷系添加剂，其特征在于：所述化学式T-2包含以下化学式K-1至化学式K-12表示的化合物：
6.根据权利要求1所述的阳性感光性组合物，其特征在于：组合物总量中，所述硅烷系添加剂的含量为0.1至1重量％。
7.根据权利要求1所述的阳性感光性组合物，其特征在于：组合物总量中，所述聚苯并噁唑或聚酰亚胺系聚合物的含量为5至50重量％。<...
【技术特征摘要】
1.一种阳性感光性组合物，其特征在于：包含(a)聚苯并噁唑或聚酰亚胺系聚合物；(b)感光剂；(c)硅烷系添加剂；以及(d)溶剂。
2.根据权利要求1所述的阳性感光性组合物，其特征在于：所述聚苯并噁唑或聚酰亚胺系聚合物包括重复单位，该重复单位选自以下化学式1-1；化学式1-2；化学式1-3；化学式1-4；或其组合组成的组，
3.根据权利要求1所述的阳性感光性组合物，其特征在于：所述硅烷系添加剂包含以下化学式t-1；或化学式t-1及t-2的组合，
4.根据权利要求3所述的硅烷系添加剂，其特征在于：所述化学式t-1包含以下化学式j-1至化学式j-15表示的化合物：
5.根据权利要求3所述的硅烷系添加剂，其特征在于：所述化学式t-2包含以下化学式k-1至化学式k-12表示的化合物：
6.根据权利要求1所述的阳性感光性组合物，其特征在于：组合物总量中，所述硅烷系添加剂的含量为0.1至1重量％。
7.根据权利要求1所述的阳性感光性组合物，其特征在于：组合物总量中，所述聚苯并噁唑或聚酰亚胺系聚合物...
【专利技术属性】
技术研发人员：金真显，权周哲，李昌珉，金庆洙，
申请(专利权)人：德山新勒克斯有限公司，
类型：发明
国别省市：
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