【技术实现步骤摘要】
本说明书涉及蒸发镀膜，尤其涉及一种蒸发镀膜装置。
技术介绍
1、蒸发镀膜常称真空镀膜，是物理气相沉积的方法之一，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，原理是通过热蒸发或离子束轰击膜料等方式使膜层材料升华或溅射出，在真空环境中射向基片，最终在基片表面沉积形成固体薄膜。薄膜的光谱特性由薄膜的厚度和折射率决定。控制膜层厚度的方式主要有以下两种：石英晶振监控、光学监控。石英晶振监控方式是根据检测晶振片的振动频率，根据厚度与频率的变化关系，计算当前厚度来控制；光学监控方式是直接测量膜系的光学特性，根据测量的方式分为直接光控和间接光控，根据测试波长分为白光光控和激光光控的方式。
2、目前，光学监控方式相对其他方式的控制精度更高。因为直接检测的是产品，直接光控相对间接光控更具直接性。现有的直接光控系统一般只有白光光控或者只有激光光控。在加工制备过程中，监控波长相对单一，在一些特殊的光强走值情况下，用现有的光控算法实现的厚度精度相对较低，从而导致加工误差不断累积，无法实现高精度的膜厚控制。
技术实现思路
1、专利技术人研究发现，蒸发镀膜过程由具有不同折射率的材料依次逐层沉积到基底上构成，比如，第一种折射率的材料在基底上沉积目标厚度（比如100nm）的第一层，第二种折射率的材料在第一层上沉积目标厚度（比如100nm）的第二层，以此类推依次逐层沉积至数百层、甚至上千层。现有技术中的膜厚检测包括由信号接收器采集光信号透过薄膜的光透射率，通过光透射率计算出薄膜的光学厚度。现有技
2、鉴于现有技术的不足，本说明书的一个目的是提供一种蒸发镀膜装置，能提高膜厚测量精度，并实现高精度的膜厚控制。
3、为达到上述目的，本说明书实施方式提供一种蒸发镀膜装置，包括：
4、具有真空腔的反应容器，所述反应容器内设有用于承载基片的支架，所述支架靠近所述真空腔的顶部设置；所述反应容器的顶壁密封设有透光板，所述反应容器的侧壁设有安装孔；
5、安装于所述反应容器上方的光源组件，包括卤素灯和第一透镜；所述卤素灯、第一透镜和透光板在第一方向上自上而下依次设置；所述第一方向垂直于放置于所述支架的所述基片的镀膜表面；
6、安装于所述真空腔内的采光组件，所述采光组件位于所述支架的下方；所述采光组件包括棱镜、第二透镜和光纤，所述棱镜、第二透镜和光纤在第二方向上依次设置，所述光纤靠近所述反应容器的侧壁设置；所述光纤通过所述安装孔伸出所述真空腔外，所述光纤和所述安装孔之间密封相连；所述第二方向平行于所述基片的镀膜表面；所述卤素灯发出的光经所述第一透镜汇聚成平行光后垂直经过所述基片，再通过所述棱镜反射后，经过所述第二透镜聚集至所述光纤中；
7、设置在所述反应容器外的光谱仪，所述光谱仪与所述光纤远离所述第二透镜的一端相连。
8、作为一种优选的实施方式，所述光源组件还包括：
9、水平设置的第一安装板，与所述反应容器的顶壁固定相连；所述第一安装板设有第一通孔；
10、竖直设置的第二安装板，所述第二安装板的底端固定连接于所述第一安装板的上表面；
11、竖直设置的第三安装板，所述第三安装板与所述第二安装板相连，所述卤素灯安装于所述第三安装板；所述第三安装板相对于所述第二安装板在所述第一方向上的位置可调；
12、水平设置的第四安装板，所述第四安装板固定连接于所述第一安装板的上表面，所述第四安装板上固定设有镜筒，所述镜筒的开口朝向所述卤素灯设置；所述第三安装板设有第二通孔；所述第一透镜安装于所述镜筒内，所述卤素灯、第一透镜、第二通孔、第一通孔和透光板在所述第一方向上依次设置；所述第一通孔的尺寸大于所述第二通孔的尺寸。
13、作为一种优选的实施方式，所述卤素灯通过第一安装架固定连接于所述第三安装板，所述第一安装架与所述第三安装板通过多个第一紧固件固定相连；多个所述第一紧固件沿所述第一方向间隔分布；所述第一紧固件用于固定的部分的长度可调。
14、作为一种优选的实施方式，所述卤素灯与所述第二安装板之间的角度调节范围为10°。
15、作为一种优选的实施方式，所述第二安装板相对于所述第一安装板在第三方向上的位置可调，所述第三方向平行于水平面；所述第三安装板相对于所述第一安装板在所述第三方向上的位置可调。
16、作为一种优选的实施方式，所述镜筒的周向上间隔设有多个调节件，所述调节件将所述第一透镜固定于所述镜筒内，所述调节件相对于所述镜筒在所述第一方向上的位置可调。
17、作为一种优选的实施方式，所述蒸发镀膜装置还包括：
18、固定设置于所述反应容器顶壁的风扇组件，所述风扇组件朝向所述卤素灯设置，用于对所述卤素灯进行散热；
19、固定设置于所述反应容器顶壁的挡板，所述挡板围绕在所述光源组件外。
20、作为一种优选的实施方式，所述采光组件还包括：
21、竖直设置的第五安装板，与所述反应容器的侧壁固定相连；
22、位于所述真空腔内的第二安装架，所述第二安装架与所述第五安装板固定相连；所述第二安装架具有相连的工作部和连接部，所述工作部与所述支架相对设置，所述连接部固定连接于所述工作部和第五安装板之间；
23、壳体部，所述壳体部围设在所述棱镜、第二透镜和光纤外且将所述棱镜、第二透镜和光纤集成为一体；
24、将所述壳体部与所述工作部可调节地固定相连的第六安装板，所述第六安装板与所述壳体部固定相连，所述第六安装板与所述工作部通过多个第二紧固件固定相连，所述第二紧固件用于固定的部分的长度可调。
25、作为一种优选的实施方式，所述棱镜相对于所述工作部的角度调节范围为5°。
26、作为一种优选的实施方式，所述蒸发镀膜装置还包括设置在所述反应容器外的探测器、采集卡和电脑；所述探测器与所述光谱仪相连，用于收集光量信号；所述采集卡与所述探测器相连，用于接收所述探测器的光电信号；所述电脑与所述采集卡相连，用于分析所述光纤接受光量变化并计算出具体膜厚。
27、有益效果
28、本实施方式所提供的蒸发镀膜装置，设置有反应容器、光源组件、采光组件和光谱仪，卤素灯发出的光经第一透镜汇聚成平行光后垂直经过基片，再通过棱镜反射后，经过第二透镜聚集至光纤中，光纤收集全反射光量至光谱仪，光谱仪可调节采集波长。本申请的光源为卤素灯，其为全光谱光源，通过光谱仪可以选取任意波长进行采集，对于不同材料或不同厚度的膜层，可以选取不同的波长进行监控，从而提高膜厚测量精度，并实现高精度的膜厚控制，也可以在光学薄膜制备过程中对薄膜成长进行直接监测，即实时监测镀膜膜厚。同时，可以在不同镀膜波长进行调节，得到所期望的薄膜厚度。并且，各个组件的位置布置合理，光源组件发出的平行光直接通过透本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种蒸发镀膜装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述光源组件还包括：
3.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述卤素灯通过第一安装架固定连接于所述第三安装板，所述第一安装架与所述第三安装板通过多个第一紧固件固定相连；多个所述第一紧固件沿所述第一方向间隔分布；所述第一紧固件用于固定的部分的长度可调。
4.根据权利要求3所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述卤素灯与所述第二安装板之间的角度调节范围为10°。
5.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述第二安装板相对于所述第一安装板在第三方向上的位置可调，所述第三方向平行于水平面；所述第三安装板相对于所述第一安装板在所述第三方向上的位置可调。
6.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述镜筒的周向上间隔设有多个调节件，所述调节件将所述第一透镜固定于所述镜筒内，所述调节件相对于所述镜筒在所述第一方向上的位置可调。
7.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述蒸发镀膜装置还包括：>
8.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述采光组件还包括：
9.根据权利要求8所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述棱镜相对于所述工作部的角度调节范围为5°。
10.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述蒸发镀膜装置还包括设置在所述反应容器外的探测器、采集卡和电脑；所述探测器与所述光谱仪相连，用于收集光量信号；所述采集卡与所述探测器相连，用于接收所述探测器的光电信号；所述电脑与所述采集卡相连，用于分析所述光纤接受光量变化并计算出具体膜厚。
...【技术特征摘要】
1.一种蒸发镀膜装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述光源组件还包括：
3.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述卤素灯通过第一安装架固定连接于所述第三安装板，所述第一安装架与所述第三安装板通过多个第一紧固件固定相连；多个所述第一紧固件沿所述第一方向间隔分布；所述第一紧固件用于固定的部分的长度可调。
4.根据权利要求3所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述卤素灯与所述第二安装板之间的角度调节范围为10°。
5.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述第二安装板相对于所述第一安装板在第三方向上的位置可调，所述第三方向平行于水平面；所述第三安装板相对于所述第一安装板在所述第三方向上的位置可调。
6.根据权利要求2所述的蒸...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜友松，郑炳蔚，裴永康，常兴旺，
申请(专利权)人：安徽其芒光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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