一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板制造技术

本技术公开了一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，包括玻璃盖板基材，所述玻璃盖板基材的顶部设置有氧化钛底层，所述氧化钛底层的顶部分别设置有镀膜层一与镀膜层二，所述镀膜层一包括有氮化硅层一、氮化硅层二、氮化硅层三以及氮化硅层四，所述镀膜层二包括有氧化铝层一、氧化铝层二、氧化铝层三以及氧化铝层四；本申请采用多层镀膜技术，将不同材料以特定顺序和厚度镀于玻璃盖板基材的表面，能显著提高玻璃盖板基材的抗划伤能力，延长产品的使用寿命，超强的附着力确保了膜层在日常使用中的耐久性，通过整体膜层厚度的优化设计，使得玻璃盖板基材保持了高透过率，不影响触控屏的使用体验。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜玻璃盖板，具体为一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板。

技术介绍

1、随着现代科技的发展，对于电子产品如智能手机、平板电脑等的触控屏玻璃盖板的功能性要求越来越高。这些设备在使用过程中经常会遭受摩擦和划伤，因此对盖板玻璃的表面硬度和抗划伤能力提出了更高的要求。同时，为了不影响触摸屏的灵敏度，盖板玻璃需要保持高透过率，这对膜层结构的设计提出了挑战。

2、现有的镀膜技术往往难以同时满足高硬度、强附着力和高透过率的要求，因此，开发一种新型的膜层结构，以提高盖板玻璃的性能，成为行业内亟待解决的问题。

技术实现思路

1、本技术为克服上述情况不足，旨在提供一种能解决上述问题的技术方案。

2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，包括玻璃盖板基材，所述玻璃盖板基材的顶部设置有氧化钛底层，所述氧化钛底层的顶部分别设置有镀膜层一与镀膜层二；所述镀膜层一包括有氮化硅层一、氮化硅层二、氮化硅层三以及氮化硅层四；所述镀膜层二包括有氧化铝层一、氧化铝层二、氧化铝层三以及氧化铝层四；所述氮化硅层一、氮化硅层二、氮化硅层三、氮化硅层四、氧化铝层一、氧化铝层二、氧化铝层三以及氧化铝层四间隔设置在氧化钛底层上。

3、作为本技术进一步方案：所述氧化钛底层通过物理气相沉积技术镀在玻璃盖板基材的顶部，所述氧化钛底层的厚度为50纳米至60纳米。

4、作为本技术进一步方案：所述氮化硅层一通过磁控溅射技术镀在氧化钛底层的顶部，所述氧化铝层一通过磁控溅射技术镀在氮化硅层一的顶部。

5、作为本技术进一步方案：所述氮化硅层二通过磁控溅射技术镀在氧化铝层一的顶部，所述氧化铝层二通过磁控溅射技术镀在氮化硅层二的顶部。

6、作为本技术进一步方案：所述氮化硅层三通过磁控溅射技术镀在氧化铝层二的顶部，所述氧化铝层三通过磁控溅射技术镀在氮化硅层三的顶部。

7、作为本技术进一步方案：所述氮化硅层四通过磁控溅射技术镀在氮化硅层四的顶部，所述氧化铝层四通过磁控溅射技术镀在氮化硅层四的顶部。

8、作为本技术进一步方案：所述氧化铝层一、氧化铝层二、氧化铝层三以及氧化铝层四的厚度为30纳米至40纳米。

9、作为本技术进一步方案：所述氮化硅层一、氮化硅层二、氮化硅层三以及氮化硅层四的厚度为30纳米至50纳米。

10、作为本技术进一步方案：所述玻璃盖板基材顶部靠近边缘的位置处还一体成型有微凸起，所述微凸起与玻璃盖板基材的形状相同。

11、作为本技术进一步方案：所述镀膜层一、镀膜层二以及氧化钛底层的宽度长度均与玻璃盖板基材的宽度长度相同。

12、与现有技术相比，本技术的有益效果如下：

13、在本申请中，通过设计的氧化钛底层、镀膜层一以及镀膜层二，而镀膜层一与镀膜层二分别还包含了四层结构，且镀膜层一、镀膜层二的层与层之间间隔设置，采用多层镀膜技术，将不同材料以特定顺序和厚度镀于玻璃盖板基材的表面，多层纳米膜层结构利用了氧化钛、氮化硅和氧化铝的优异物理性质，包括高硬度和良好的光学特性，通过控制每一层的厚度，实现了超强的附着力和表面硬度，同时保证了高透过率，本设计能显著提高玻璃盖板基材的抗划伤能力，延长产品的使用寿命，超强的附着力确保了膜层在日常使用中的耐久性，通过整体膜层厚度的优化设计，使得玻璃盖板基材保持了高透过率，不影响触控屏的使用体验。

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【技术保护点】

1.一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，包括玻璃盖板基材(1)，所述玻璃盖板基材(1)的顶部设置有氧化钛底层(2)，所述氧化钛底层(2)的顶部分别设置有镀膜层一(3)与镀膜层二(4)；

2.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氧化钛底层(2)通过物理气相沉积技术镀在玻璃盖板基材(1)的顶部，所述氧化钛底层(2)的厚度为50纳米至60纳米。

3.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氮化硅层一(301)通过磁控溅射技术镀在氧化钛底层(2)的顶部，所述氧化铝层一(401)通过磁控溅射技术镀在氮化硅层一(301)的顶部。

4.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氮化硅层二(302)通过磁控溅射技术镀在氧化铝层一(401)的顶部，所述氧化铝层二(402)通过磁控溅射技术镀在氮化硅层二(302)的顶部。

5.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氮化硅层三(303)通过磁控溅射技术镀在氧化铝层二(402)的顶部，所述氧化铝层三(403)通过磁控溅射技术镀在氮化硅层三(303)的顶部。

6.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氮化硅层四(304)通过磁控溅射技术镀在氮化硅层四(304)的顶部，所述氧化铝层四(404)通过磁控溅射技术镀在氮化硅层四(304)的顶部。

7.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氧化铝层一(401)、氧化铝层二(402)、氧化铝层三(403)以及氧化铝层四(404)的厚度为30纳米至40纳米。

8.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氮化硅层一(301)、氮化硅层二(302)、氮化硅层三(303)以及氮化硅层四(304)的厚度为30纳米至50纳米。

9.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板基材(1)顶部靠近边缘的位置处还一体成型有微凸起(101)，所述微凸起(101)与玻璃盖板基材(1)的形状相同。

10.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述镀膜层一(3)、镀膜层二(4)以及氧化钛底层(2)的宽度长度均与玻璃盖板基材(1)的宽度长度相同。

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【技术特征摘要】

1.一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，包括玻璃盖板基材(1)，所述玻璃盖板基材(1)的顶部设置有氧化钛底层(2)，所述氧化钛底层(2)的顶部分别设置有镀膜层一(3)与镀膜层二(4)；

2.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氧化钛底层(2)通过物理气相沉积技术镀在玻璃盖板基材(1)的顶部，所述氧化钛底层(2)的厚度为50纳米至60纳米。

3.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氮化硅层一(301)通过磁控溅射技术镀在氧化钛底层(2)的顶部，所述氧化铝层一(401)通过磁控溅射技术镀在氮化硅层一(301)的顶部。

4.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氮化硅层二(302)通过磁控溅射技术镀在氧化铝层一(401)的顶部，所述氧化铝层二(402)通过磁控溅射技术镀在氮化硅层二(302)的顶部。

5.根据权利要求1所述的一种具有超强附着力和表面硬度的新型多层镀膜玻璃盖板，其特征在于，所述氮化硅层三(303)通过磁控溅射技术镀在氧化铝层二(402)的顶部，所述氧化铝层三(403)通过磁控溅射技术镀在氮化硅...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄盛谋，林焕力，陈泽松，刘俊帆，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：