【技术实现步骤摘要】
本技术属于硅片生产设备，具体涉及一种扩散炉用可拆卸式扰流装置。
技术介绍
1、硅片在扩散炉内进行扩散操作时，扩散炉内的气体的流量大小及流速流向等参数对硅片扩散的均匀性起着至关重要的作用。
2、目前，扩散炉的气流均匀性难以实现较为精确的控制，则对硅片扩散后的浓度数造成不良影响，难以满足对硅片的扩散操作后的工艺参数的一致性，并且现有的多半扰流装置中的多个扰流板之间通常需要使用连接杆连接固定，但是由于扩散炉中温度较高，多个扰流板通过连接件连接形成的整体通常会由于高温导致变形，如此会导致扰流均风效果变差，影响浓度的一致性。
技术实现思路
1、本技术要解决的技术问题在于克服现有技术的不足，提供一种扩散炉用可拆卸式扰流装置，用于解决多片扰流板形成整体容易受热变形的问题。
2、本技术解决上述技术问题的技术方案如下：一种扩散炉用可拆卸式扰流装置，其包括：
3、底座，所述底座上间隔开设有若干插槽；
4、若干扰流板，匹配插入所述插槽中。
5、相较于现有技术，以上技术方案具有如下有益效果：
6、将以往多块扰流板之间通过连接件固定连接之后直接放在硅桨上这种方式，改为通过底座上插槽与扰流板形成可拆卸式连接方式，将扰流板立在硅桨上，由于扰流板彼此之间和底座之间不是固定连接，在受到高温之后，并不会因为受力不均牵扯形变。
7、进一步地，若干所述扰流板上分别贯穿开设有若干气孔，所述气孔周向均匀间隔布置有若干圈。
8、通过
9、进一步地，任一所述扰流板上气孔的轴心线异于另一所述扰流板上气孔的轴心线。
10、进一步地，若干所述扰流板上气孔的孔径逐步变小。
11、进一步地，所述底座包括顶板及连接于所述顶板两侧的立板，两所述立板及顶板形成冂型底座。
12、进一步地，所述立板外侧底部斜切形成有用于贴合硅桨内壁的斜坡。
13、进一步地，所述插槽的底面设置有为与所述扰流板外周面接触的弧形面。
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1.一种扩散炉用可拆卸式扰流装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的可拆卸式扰流装置，其特征在于，任一所述扰流板上所述气孔的轴心线异于另一所述扰流板上所述气孔的轴心线。
3.根据权利要求1所述的可拆卸式扰流装置，其特征在于，若干所述扰流板上气孔的孔径逐步变小。
4.根据权利要求1所述的可拆卸式扰流装置，其特征在于，所述底座包括顶板及连接于所述顶板两侧的立板，两所述立板及顶板形成冂型底座。
5.根据权利要求4所述的可拆卸式扰流装置，其特征在于，所述立板外侧底部斜切形成有用于贴合硅桨内壁的斜坡。
6.根据权利要求4所述的可拆卸式扰流装置，其特征在于，所述插槽的底面设置有为与所述扰流板外周面接触的弧形面。
【技术特征摘要】
1.一种扩散炉用可拆卸式扰流装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的可拆卸式扰流装置，其特征在于，任一所述扰流板上所述气孔的轴心线异于另一所述扰流板上所述气孔的轴心线。
3.根据权利要求1所述的可拆卸式扰流装置，其特征在于，若干所述扰流板上气孔的孔径逐步变小。
4.根据权利要求1所述的可拆卸...
【专利技术属性】
技术研发人员：顾标琴，徐爱民，杨松儒，
申请(专利权)人：江苏扬杰润奥半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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