【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及核电，尤其涉及一种(量化孔洞散射影响的)核电隔间辐射屏蔽控制方法及系统及屏蔽设计方法。
技术介绍
1、核电厂的放射性厂房内布置有辐射源(本技术书指布置了γ辐射源的厂房)。辐射源持续出射γ射线粒子，使得空间产生有危害性的辐射场。为保障工作人员免受辐射源辐射危害，核电厂将高辐射源设备布置在独立隔间，依托生物墙(即混凝土墙，在核电厂控制区称为生物墙)屏蔽，降低源隔间对周边隔间的辐射，使得被削弱的贯穿辐射剂量率满足隔间剂量率接受要求。
2、但是隔间不仅受到相邻隔间的贯穿辐射影响，若墙体存在孔洞，还受到相邻隔间经由孔洞的散射辐射影响；此外，隔间若内部本身布置了辐射源，则还受到隔间内设备的辐射影响。根据法规标准要求，应通过辐射屏蔽设计，确保这三类辐射的共同影响，即总辐射剂量率，满足隔间所在的辐射分区的剂量率接受要求。若定义隔间剂量率接受要求为dwac，隔间内设备贡献剂量率为din，相邻隔间贯穿辐射贡献总剂量率为相邻隔间孔洞的初始散射总剂量率为
3、当前行业采用了“半定量+半经验”的设计方法。具体而言，隔间内设备贡献剂量率din和相邻隔间贯穿辐射贡献剂量率做了量化分析，并且确保两者加和低于隔间剂量率接受要求为dwac，即保留了一定裕量，裕量因子视具体情形取值，一般取值0.5左右。在孔洞散射影响缺失量化分析的背景下，裕量因子仅是基于设计经验确立，存在不确定性，存在较大的辐射风险，对进入隔间作业人员产生辐射危害。
技术实现思路
1、鉴于以上现有技术的部分缺点，本
2、为实现上述目的及其它相关目的，本专利技术包括一种核电隔间辐射屏蔽控制方法，包括以下步骤：
3、获得隔间墙体上所有孔洞的类型，并基于敞口孔洞的散射剂量率，计算得到其它类型孔洞的散射剂量率；
4、基于孔洞的散射剂量率调整孔洞管道布置，以使隔间墙体上所有孔洞的散射剂量率之和满足隔间的辐射剂量率控制要求。
5、作为本专利技术其中一种实施例，孔洞管道布置包括：
6、筛选隔间墙体上所有孔洞的类型和各类型孔洞的数量，并调整孔洞的屏蔽设置；
7、基于孔洞的屏蔽设置情况，计算得到所有孔洞的散射剂量率之和，并与相邻隔间的贯穿剂量率、隔间内设备的设备剂量率进行加和得到隔间的辐射剂量率，使得辐射剂量率不大于辐射剂量率预设值；
8、其中,辐射剂量率预设值由隔间所处的辐射分区得到。
9、作为本专利技术其中一种实施例，孔洞还包括中空管道孔洞，中空管道孔洞包括第一孔隙分区和中空管道分区；中空管道孔洞的屏蔽设置情况包括未封堵和封堵；
10、当中空管道孔洞未封堵时，其散射剂量率为第一孔隙分区和中空管道分区的初始散射剂量率之和；
11、中空管道孔洞封堵时，其散射剂量率为第一孔隙分区的散射剂量率与中空管道分区的初始散射剂量率之和；
12、其中，第一孔隙分区的散射剂量率由其初始散射剂量率计算得到。
13、作为本专利技术其中一种实施例，孔洞还包括填实管道孔洞，填实管道孔洞包括第二孔隙分区和填实管道分区；填实管道孔洞的屏蔽设置情况包括未封堵和封堵；
14、当填实管道未封堵时，其散射剂量率为填实管道分区的散射剂量率与第二孔隙分区的初始散射剂量率之和；
15、当填实管道封堵时，其散射剂量率为填实管道分区的散射剂量率与第二孔隙分区的散射剂量率之和；
16、其中，填实管道分区的散射剂量率由其初始散射剂量率计算得到，第二孔隙分区的散射剂量率由其初始散射剂量率计算得到。
17、作为本专利技术其中一种实施例，第一孔隙分区、中空管道分区、第二孔隙分区和填实管道分区的初始散射剂量率均为其等价计算为敞口孔洞时的敞口孔洞的散射剂量率。
18、作为本专利技术其中一种实施例，填实管道分区或第一孔隙分区或第二孔隙分区的散射剂量率的计算包括：
19、获得填实管道分区的平均密度或第一孔隙分区的封堵填料密度或第二孔隙分区的封堵填料密度；
20、基于平均密度或封堵填料密度，得到其与初始剂量率之间的减弱倍数；
21、结合填实管道分区或第一孔隙分区或第二孔隙分区的初始散射剂量率，计算得到其散射剂量率。
22、作为本专利技术其中一种实施例，当敞口孔洞或中空管道孔洞或填实管道孔洞为全屏蔽设置的孔洞时，其散射剂量率均为0。
23、作为本专利技术其中一种实施例，本专利技术还包括一种核电隔间辐射屏蔽控制系统，包括：
24、数据获取模块，获得隔间墙体上所有孔洞的类型，并基于敞口孔洞的散射剂量率，计算得到其它类型孔洞的散射剂量率；
25、动态调节模块，基于孔洞的散射剂量率调整孔洞管道布置，以使隔间墙体上所有孔洞的散射剂量率之和满足隔间的辐射剂量率控制要求。
26、作为本专利技术其中一种实施例，本专利技术还包括一种核电隔间辐射屏蔽设计方法，包括以下步骤：
27、根据隔间的辐射分区得到隔间的辐射剂量率控制要求，并制定隔间的墙体厚度初始值；
28、基于墙体厚度初始值得到相邻隔间的贯穿剂量率初始值；
29、并获得隔间墙体上所有孔洞的散射剂量率初始值和隔间设备的设备剂量率，判定是否符合隔间的辐射剂量率控制要求；
30、如不符合，则采取下面两种调整方式中的任一种、或者两种进行重复调节，直至符合辐射剂量率控制要求：
31、方式一：对隔间墙体的孔洞按类型进行屏蔽设置以降低孔洞的散射剂量率；
32、方式二：调整隔间墙体的厚度以降低相邻隔间的贯穿剂量率。
33、作为本专利技术其中一种实施例，剂量率控制要求包括：隔间墙体的所有孔洞的散射剂量率、贯穿剂量率、以及设备辐射剂量率之和不大于隔间的辐射剂量率预设值，辐射剂量率预设值由隔间所处的辐射分区得到。
34、作为本专利技术其中一种实施例，孔洞按类型进行屏蔽设置包括：
35、依次对中空管道孔洞、填实管道孔洞进行封堵，并分别获得封堵后的中空管道孔洞的散射剂量率、填实管道孔洞的散射剂量率；结合其它类型孔洞的散射剂量率、贯穿剂量率初始值、设备剂量率，依次判定是否符合隔间的辐射剂量率控制要求；
36、当判定不符合要求时，在敞口孔洞、中空管道孔洞以及填实管道孔洞的孔洞周围对应的墙体上安装屏蔽挡板，使得所有孔洞的散射剂量率为0，并判定是否符合剂量率控制要求。
37、作为本专利技术其中一种实施例，调整隔间墙体的厚度包括：
38、获得隔间的六面墙体分别对应的贯穿剂量率；
39、按照贯穿剂量率的大小依次调整对应的墙体厚度以降低其贯穿剂量率；
40、获得六面墙体的贯穿剂量率之和，以及设备剂量率和散射剂量率，基于隔间的辐射分区，依次判定是否符合本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，所述孔洞管道布置包括：
3.根据权利要求2所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，所述孔洞还包括中空管道孔洞，所述中空管道孔洞包括第一孔隙分区和中空管道分区；所述中空管道孔洞的屏蔽设置情况包括未封堵和封堵；
4.根据权利要求3所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，所述孔洞还包括填实管道孔洞，所述填实管道孔洞包括第二孔隙分区和填实管道分区；所述填实管道孔洞的屏蔽设置情况包括未封堵和封堵；
5.根据权利要求4所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，所述第一孔隙分区、所述中空管道分区、所述第二孔隙分区和所述填实管道分区的初始散射剂量率均为其等价计算为敞口孔洞时的所述敞口孔洞的散射剂量率。
6.根据权利要求5所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，所述填实管道分区或所述第一孔隙分区或所述第二孔隙分区的散射剂量率的计算包括：
7.根据权利要求6所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特
8.一种核电隔间辐射屏蔽控制系统，其特征在于，包括：
9.一种核电隔间辐射屏蔽设计方法，其特征在于，包括以下步骤：
10.根据权利要求9所述的核电隔间辐射屏蔽设计方法，其特征在于，所述剂量率控制要求包括：所述隔间墙体的所有所述孔洞的散射剂量率、所述贯穿剂量率、以及所述设备辐射剂量率之和不大于所述隔间的辐射剂量率预设值，所述辐射剂量率预设值由所述隔间所处的辐射分区得到。
11.根据权利要求10所述的核电隔间辐射屏蔽设计方法，其特征在于，所述孔洞按类型进行屏蔽设置包括：
12.根据权利要求11所述的核电隔间辐射屏蔽设计方法，其特征在于，调整所述隔间墙体的厚度包括：
...【技术特征摘要】
1.一种核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，所述孔洞管道布置包括：
3.根据权利要求2所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，所述孔洞还包括中空管道孔洞，所述中空管道孔洞包括第一孔隙分区和中空管道分区；所述中空管道孔洞的屏蔽设置情况包括未封堵和封堵；
4.根据权利要求3所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，所述孔洞还包括填实管道孔洞，所述填实管道孔洞包括第二孔隙分区和填实管道分区；所述填实管道孔洞的屏蔽设置情况包括未封堵和封堵；
5.根据权利要求4所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，所述第一孔隙分区、所述中空管道分区、所述第二孔隙分区和所述填实管道分区的初始散射剂量率均为其等价计算为敞口孔洞时的所述敞口孔洞的散射剂量率。
6.根据权利要求5所述的核电隔间辐射屏蔽控制方法，其特征在于，所述填实管道...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋振宇，陈宇佳，林少炜，刘杰，熊军，陈城臻，
申请(专利权)人：中广核工程有限公司，
类型：发明
国别省市：
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