【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及聚酯薄膜，具体涉及一种用于光学类聚酯薄膜uv型增穿透降反射材料及制备方法。
技术介绍
1、目前聚酯薄膜的增穿透降反射一般采用溅射镀，通过沉积一层或多层特定折射率的材料，使得入射光与反射光之间发生干涉，从而减少反射率。通过控制每层膜厚和材料折射率的设计，可以使得特定波长的光线在光学器件表面的反射率接近零。溅射镀设备复杂，成膜速度较低，容易受到杂质气体影响，且对能源消耗较大。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于为了达到现有高透型聚脂薄膜的穿透率低反射率的同时，增加产能与降低能耗，提供一种适用于涂布设备的用于光学类聚酯薄膜uv型增穿透降反射材料及制备方法。
2、本专利技术的技术方案如下：
3、一种用于光学类聚酯薄膜uv型增穿透降反射材料，由以下组分组成：uv型硅氟改性丙烯酸树脂20-40重量份、uv型环氧改性丙烯酸树脂20-35重量份、纳米级空心氧化硅球10-70重量份、自由基光引发剂2-5重量份、聚醚改性含羟基官能团的聚二甲硅氧烷溶液1-3重量份。
4、一种用于光学类聚酯薄膜uv型增穿透降反射材料的制备方法，包括以下步骤：
5、a.在常温条件下，向搅拌机中加入20-40重量份的uv型硅氟改性丙烯酸树脂；
6、b.向搅拌机中加入20-35重量份的uv型环氧改性丙烯酸树脂，搅拌分散；
7、c.向搅拌机中加入1-3重量份的聚醚改性羟基官能团的聚二甲硅氧烷溶液，搅拌分散；
8、d.向搅拌机中加
9、e.向搅拌机中加入2-5重量份的自由基光引发剂，搅拌分散。
10、步骤b中，将搅拌机的转速升至400-600r/min，再加入uv环氧改性丙烯酸树脂，搅拌时间为5-10min。
11、步骤c中，搅拌机的转速为400-600r/min，搅拌时间为5min。
12、步骤d中，将搅拌机的转速升至1200-1500r/min，再加入纳米级空心氧化硅球，搅拌时间为15-20min。
13、步骤e中，将搅拌机的转速降至400-600r/min，再加入自由基光引发剂，搅拌时间为5-8min。
14、相对于现有技术，本专利技术的有益效果在于：本专利技术所提供的一种用于光学类聚酯薄膜uv型增穿透降反射材料由uv型硅氟改性丙烯酸树脂、uv型环氧改性丙烯酸树脂、纳米级空心氧化硅球、自由基光引发剂、聚醚改性含羟基官能团的聚二甲硅氧烷溶液组成，使材料在聚酯薄膜上能够有效提升穿透率及降低反射率；其中，uv型硅氟改性丙烯酸树脂是一种低折射率且与聚酯薄膜附着力优异的树脂；uv型环氧改性丙烯酸树脂硬度高，抗刮伤，耐磨性能优异；纳米级空心氧化硅球为材料中增透减反射的主要材料；自由基光引发剂在汞灯或led光照下，材料快速反应形成均匀且致密的涂层；聚醚改性含羟基官能团的聚二甲硅烷能够有效增加材料涂布后流平与锁孔等外观效果，有效增加水滴角。
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1.一种用于光学类聚酯薄膜UV型增穿透降反射材料，其特征在于，由以下组分组成：UV型硅氟改性丙烯酸树脂20-40重量份、UV型环氧改性丙烯酸树脂20-35重量份、纳米级空心氧化硅球10-70重量份、自由基光引发剂2-5重量份、聚醚改性含羟基官能团的聚二甲硅氧烷溶液1-3重量份。
2.一种根据权利要求1所述的用于光学类聚酯薄膜UV型增穿透降反射材料的制备方法，包括以下步骤：
3.根据权利要求1所述的用于光学类聚酯薄膜UV型增穿透降反射材料的制备方法，其特征在于：步骤b中，将搅拌机的转速升至400-600r/min，再加入UV环氧改性丙烯酸树脂，搅拌时间为5-10min。
4.根据权利要求1所述的用于光学类聚酯薄膜UV型增穿透降反射材料的制备方法，其特征在于：步骤c中，搅拌机的转速为400-600r/min，搅拌时间为5min。
5.根据权利要求1所述的用于光学类聚酯薄膜UV型增穿透降反射材料的制备方法，其特征在于：步骤d中，将搅拌机的转速升至1200-1500r/min，再加入纳米级空心氧化硅球，搅拌时间为15-20min。
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1.一种用于光学类聚酯薄膜uv型增穿透降反射材料，其特征在于，由以下组分组成：uv型硅氟改性丙烯酸树脂20-40重量份、uv型环氧改性丙烯酸树脂20-35重量份、纳米级空心氧化硅球10-70重量份、自由基光引发剂2-5重量份、聚醚改性含羟基官能团的聚二甲硅氧烷溶液1-3重量份。
2.一种根据权利要求1所述的用于光学类聚酯薄膜uv型增穿透降反射材料的制备方法，包括以下步骤：
3.根据权利要求1所述的用于光学类聚酯薄膜uv型增穿透降反射材料的制备方法，其特征在于：步骤b中，将搅拌机的转速升至400-600r/min，再加入uv环氧改性丙烯酸树脂，搅拌时间为5-10mi...
【专利技术属性】
技术研发人员：田正，曾致尧，许纶，
申请(专利权)人：东莞市光志光电有限公司，
类型：发明
国别省市：
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