【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光栅制造，尤其涉及一种内反射式浸没光栅及其制作方法。
技术介绍
1、浸没式光栅由光栅和棱镜组成，光栅位于棱镜底面，入射光入射到棱镜表面，折射进入棱镜，并在光栅上发生衍射，衍射光经棱镜折射后离开棱镜表面，由于衍射发生在高折射率的介质内部（棱镜内部），因此，光程差和角色散成比例地增加，将浸没式光栅应用在光谱仪中时，不仅能够实现高光谱分辨率，还能减小准直系统的焦距，从而大幅减小光谱仪的体积，随着光谱分辨率的逐渐提高以及光栅型成像光谱仪器体积小型化的需求，浸没式光栅逐渐被应用于高精度遥感大气监测成像光谱仪中。
2、相关技术报道了采用离子束刻蚀石英基板制备梯形光栅，再将梯形光栅与石英棱镜粘合形成浸没式光栅，以及报道了采用湿法腐蚀<100>晶向的平面单晶硅制备阶梯光栅，再与硅棱镜粘合，并在光栅上镀制反射膜。上述涉及的浸没式光栅，均通过原刻光栅与棱镜粘合而成，原刻光栅制作周期长、成本高且无法重复性的批量化制作，为了进一步降低浸没式光栅的制作难度和成本，并保障浸没式光栅的性能不发生退化，亟需开发出一种浸没式光栅的快速制备且实现光栅保护的方法。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术创造旨在提供一种内反射式浸没光栅及其制作方法，至少有利于降低内反射式浸没光栅的制作工艺难度且实现对光栅的保护。
2、为达到上述目的，本专利技术创造的技术方案是这样实现的：
3、本专利技术创造一方面提供一种内反射式浸没光栅制作方法，包括：提供光栅母版，光栅母版的
4、进一步的，提供光栅母版包括：提供母版基板，在母版基板的一侧表面上形成微结构；形成微结构的方式包括机械刻划、离子束刻蚀、电子束曝光、激光直写或湿法刻蚀中的至少一种。
5、进一步的，第一初始固化层的材料和第二初始固化层的材料均包括环氧树脂。
6、进一步的，形成第一固化层的步骤包括：利用压印面对第一初始固化层远离第一浸没介质体的一侧进行对准压印，以在第一初始固化层上形成光栅，去除光栅母版前对第一初始固化层进行固化操作，以形成具有光栅的第一固化层，再去除光栅母版；形成第二固化层的步骤包括：将第二浸没介质体形成有第二初始固化层的一侧对准第一固化层具有高反射膜的一侧并进行压印，完成压印后进行固化操作，以使第二初始固化层转换为第二固化层。
7、进一步的，利用压印面对第一初始固化层进行对准压印前还包括：在压印面上形成抗粘膜层。
8、进一步的，抗粘膜层包括沿远离光栅母版的方向依次堆叠的硅油膜和铝膜。
9、进一步的，高反射膜包括金膜、银膜和铝膜中的至少一者。
10、进一步的，高反射膜的形成方法包括离子束溅射、电子束蒸发或者磁控溅射中的至少一种。
11、进一步的，内反射式浸没光栅制作方法还包括：在棱镜的入射面镀制增透膜。
12、本专利技术创造另一方面提供一种内反射式浸没光栅，包括：第一浸没介质体，第一浸没介质体具有第一光栅面；在第一光栅面上依次堆叠设置的第一固化层、高反射膜、第二固化层和第二浸没介质体；其中，第一固化层远离第一浸没介质体的一侧具有光栅，第二固化层远离第二浸没介质体的一侧与光栅对应；第一浸没介质体和第二浸没介质体中的一者为棱镜，另一者为平面基板。
13、与现有技术相比，本专利技术创造能够取得如下有益效果：本专利技术实施例先提供光栅母版，将光栅母版的微结构转移压印到涂覆在第一浸没介质体的第一初始固化层上，以获得形成有光栅的第一固化层，再在光栅上形成高反射率薄膜，即高反射膜，将形成有高反射膜的光栅与涂覆有第二初始固化层的第二浸没介质体对准压印，形成内反射式浸没光栅，该制作方法工艺难度较低、工艺成本较低且制备步骤简单，有利于降低批量制备内反射式浸没光栅的工艺难度，且形成的光栅被第一浸没介质体、第一固化层、第二浸没介质体以及第二固化层所密封，有利于提升光栅的使用寿命。
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1.一种内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，提供所述光栅母版包括：
3.根据权利要求1所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，所述第一初始固化层的材料和所述第二初始固化层的材料均包括环氧树脂。
4.根据权利要求1所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，形成所述第一固化层的步骤包括：利用所述压印面对所述第一初始固化层远离所述第一浸没介质体的一侧进行对准压印，以在所述第一初始固化层上形成所述光栅，去除所述光栅母版前对所述第一初始固化层进行固化操作，以形成具有所述光栅的所述第一固化层，再去除所述光栅母版；
5.根据权利要求1所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，利用所述压印面对所述第一初始固化层进行对准压印前还包括：
6.根据权利要求5所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，所述抗粘膜层包括沿远离所述光栅母版的方向依次堆叠的硅油膜和铝膜。
7.根据权利要求1所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，所述高反射膜包括金膜、银膜
8.根据权利要求1所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，所述高反射膜的形成方法包括离子束溅射、电子束蒸发或者磁控溅射中的至少一种。
9.根据权利要求1所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，所述内反射式浸没光栅制作方法还包括：
10.一种内反射式浸没光栅，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，提供所述光栅母版包括：
3.根据权利要求1所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，所述第一初始固化层的材料和所述第二初始固化层的材料均包括环氧树脂。
4.根据权利要求1所述的内反射式浸没光栅制作方法，其特征在于，形成所述第一固化层的步骤包括：利用所述压印面对所述第一初始固化层远离所述第一浸没介质体的一侧进行对准压印，以在所述第一初始固化层上形成所述光栅，去除所述光栅母版前对所述第一初始固化层进行固化操作，以形成具有所述光栅的所述第一固化层，再去除所述光栅母版；
5.根据权利要求1所述的内反射式浸...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑钟铭，李文昊，姜岩秀，吉日嘎兰图，于硕，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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