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【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学检测,尤其涉及一种光学测量方法、一种光学测量装置、一种光学测量系统和一种计算机可读介质。
技术介绍
1、光学测量具有快速、非接触和无损伤等优点,因此是一种使用较为广泛的工件测量方法。但是目前对tsv(through silicon via,硅通孔)的测量技术仍然不够成熟,当测量一个tvs后再对另一个tsv进行测量时往往需要对光学测量系统的组件和参数进行重新确定,tsv的深度、宽度或深宽比发生变化时通常需要对光学测量系统上的光阑、镜组等组件进行更换或参数转换等不同程度的调整,这种调整过程通常依赖于操作人员的操作经验。同时,不同组件的参数调整对测量结果造成不同影响,因此即使是经验丰富的操作员也需要多次尝试调整才能找到合适参数组合。因此现有光学测量系统存在测量难度大、效率低且难以兼容不同深宽比的tsv的测量的缺陷。
2、因此,亟需提供一种简单、高效、能兼容不同深宽比的tsv的测量方案。
技术实现思路
1、因此,为克服现有技术中的至少部分缺陷和问题,本专利技术实施例提供了一种光学测量方法、一种光学测量装置、一种光学测量系统和一种计算机可读介质,能兼容不同深宽比的tsv的测量,降低测量难度,提高测量效率。
2、具体地,一方面,本专利技术一个实施例提供的一种光学测量方法,包括:参数确定步骤,根据待测物的尺寸参数确定参数信息;其中,所述参数信息包括目标干涉模式和目标光阑直径;所述目标干涉模式选自测量倍率互不相同的多种干涉模式;测量结果获取步骤,获取所述待
3、在一个实施例中,所述多种干涉模式包括米劳型干涉模式、迈克尔逊型干涉模式和林尼克型干涉模式。
4、在一个实施例中,所述参数确定步骤具体包括:根据所述尺寸参数确定检测模式,所述检测模式为所述多种干涉模式中的至少一种;若所述检测为所述干涉模式中的一种,则确定所述目标干涉模式为所述检测模式;若所述检测模式包括所述干涉模式中的至少两种,则确定所述目标干涉模式为所述检测模式中倍率最大的检测模式。
5、在一个实施例中,所述根据所述尺寸参数确定检测模式,包括:将与多组备选参数信息一一对应的所述多组测量阈值信息分别与所述尺寸参数进行比较;根据比较结果确定所述多组备选参数信息中的可选参数信息;所述多组备选参数信息中的每组备选参数信息包括干涉模式信息;根据所述可选参数信息的干涉模式信息确定所述检测模式。
6、在一个实施例中,所述尺寸参数包括所述待测物的深宽比信息,所述多组测量阈值信息中的每组测量阈值信息包括可测量最大深宽比;所述将与多组备选参数信息一一对应的所述多组测量阈值信息分别与所述尺寸参数进行比较,根据比较结果确定所述多组备选参数信息中的可选参数信息,包括:根据所述多组测量阈值信息中被比较阈值信息的所述可测量最大深宽比大于等于所述深宽比信息,确定所述多组备选参数信息中与所述被比较阈值信息对应的备选参数信息为所述可选参数信息。
7、在一个实施例中,所述尺寸参数包括所述待测物的深宽比信息和深度信息,所述多组测量阈值信息中的每组测量阈值信息包括可测量最大深宽比和可测量最大深度;所述将与多组备选参数信息一一对应的所述多组测量阈值信息分别与所述尺寸参数进行比较,根据比较结果确定所述多组备选参数信息中的可选参数信息,包括:根据所述多组测量阈值信息中被比较阈值信息的所述可测量最大深宽比大于等于所述深宽比信息且所述可测量最大深度大于等于所述深度信息,确定所述多组备选参数信息中与所述被比较阈值信息对应的备选参数信息为所述可选参数信息。
8、在一个实施例中,所述目标光阑直径包括目标孔径光阑直径,所述步骤参数确定步骤具体包括:将所述目标干涉模式一一对应于多种孔径光阑直径的多组测量阈值信息分别与所述尺寸参数进行比较,根据比较结果从所述多种孔径光阑直径中选择所述目标孔径光阑直径。
9、在一个实施例中,所述重新确定所述目标测量信息包括:缩小所述目标孔径光阑直径。
10、在一个实施例中,所述目标光阑直径参数还包括目标视场光阑直径,所述重新确定所述目标光阑直径包括:当目标孔径光阑直径为所述多种孔径光阑直径中的最小值时,缩小所述目标视场光阑直径。
11、在一个实施例中,所述测量结果信息包括干涉信号强度,所述测量效果判断步骤具体为:将所述干涉信号强度与强度阈值进行比较,所述干涉信号强度大于等于所述强度阈值时所述判断结果为所述测量结果有效。
12、本专利技术另一个实施例提供一种光学测量装置,包括:参数确定模块,用于执行参数确定步骤,根据待测物的尺寸参数确定参数信息;其中,所述参数信息包括目标干涉模式和目标光阑直径;所述目标干涉模式选自测量倍率互不相同的多种干涉模式;测量结果获取模块,用于执行测量结果获取步骤,获取所述待测物根据所述参数信息进行测量得到的测量结果信息;测量效果判断模块,用于执行测量效果判断步骤,根据所述测量结果信息对所述测量的效果进行判断,得到判断结果;判断结果处理模块,用于执行判断结果处理步骤,当所述判断结果为测量结果有效时,根据所述测量结果信息确定所述待测物的实际尺寸参数;否则,重新确定所述目标光阑直径返回至测量结果获取步骤。
13、本专利技术另一个实施例提供一种光学测量,包括:处理器和连接所述处理器的存储器,所述存储器存储有所述处理器执行的指令,所述指令使得所述处理器执行操作以进行前述任意一项实施例所述的光学测量方法。
14、本专利技术另一个实施例提供一种计算机可读介质,所述计算机可读介质存储有计算机可读指令,所述计算机可读指令包括用于执行前述任意一项实施例所述的光学测量方法。
15、由上可知,本专利技术上述实施例可以达成以下一个或多个有益效果:通过待测物的参数尺寸首先对目标干涉模式进行确定以及对目标光阑直径进行初步确定,再对测量效果进行判断,判断测量结果有效时则可以根据测量结果确定待测物的实际尺寸参数,否则重新确定目标光阑直径重复之前的测量步骤,直至测量结果有效。首先确定了较为合适的目标干涉模式后以此目标干涉模式为基准,通过调整目标光阑直径来调整到合适参数组合,测量流程简单明了。不同深宽比的tsv测量均可使用上述方法。并且上述方法可自动化执行,因此可实现兼容不同深宽比tsv的自动化测量方案,从而达到高效测量的效果。
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1.一种光学测量方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的光学测量方法,其特征在于,所述多种干涉模式包括米劳型干涉模式、迈克尔逊型干涉模式和林尼克型干涉模式。
3.如权利要求1所述的光学测量方法,其特征在于,所述参数确定步骤具体包括:
4.如权利要求3所述的光学测量方法,其特征在于,所述根据所述尺寸参数确定检测模式,包括:
5.如权利要求4所述的光学测量方法,其特征在于,所述尺寸参数包括所述待测物的深宽比信息,所述多组测量阈值信息中的每组测量阈值信息包括可测量最大深宽比;所述将与多组备选参数信息一一对应的所述多组测量阈值信息分别与所述尺寸参数进行比较,根据比较结果确定所述多组备选参数信息中的可选参数信息,包括:
6.如权利要求4所述的光学测量方法,其特征在于,所述尺寸参数包括所述待测物的深宽比信息和深度信息,所述多组测量阈值信息中的每组测量阈值信息包括可测量最大深宽比和可测量最大深度;所述将与多组备选参数信息一一对应的所述多组测量阈值信息分别与所述尺寸参数进行比较,根据比较结果确定所述多组备选参数信息中的可选参数信
7.如权利要求1所述的光学测量方法,其特征在于,所述目标光阑直径包括目标孔径光阑直径,所述步骤参数确定步骤具体包括:
8.如权利要求7所述的光学测量方法,其特征在于,所述重新确定所述目标测量信息包括:缩小所述目标孔径光阑直径。
9.如权利要求7所述光学测量方法,其特征在于,所述目标光阑直径还包括目标视场光阑直径,所述重新确定所述光阑直径包括:
10.如权利要求1所述的光学测量方法,其特征在于,所述测量结果信息包括干涉信号强度,所述测量效果判断步骤具体为:将所述干涉信号强度与强度阈值进行比较,所述干涉信号强度大于等于所述强度阈值时所述判断结果为所述测量结果有效。
11.一种光学测量装置,其特征在于,包括:
12.一种光学测量系统,其特征在于,包括:处理器和连接所述处理器的存储器,所述存储器存储有所述处理器执行的指令,所述指令使得所述处理器执行操作以进行如权利要求1~10中任意一项所述的光学测量方法。
13.一种计算机可读介质,其特征在于,所述计算机可读介质存储有计算机可读指令,所述计算机可读指令包括用于执行如权利要求1~10中任意一项所述的光学测量方法。
...【技术特征摘要】
1.一种光学测量方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的光学测量方法,其特征在于,所述多种干涉模式包括米劳型干涉模式、迈克尔逊型干涉模式和林尼克型干涉模式。
3.如权利要求1所述的光学测量方法,其特征在于,所述参数确定步骤具体包括:
4.如权利要求3所述的光学测量方法,其特征在于,所述根据所述尺寸参数确定检测模式,包括:
5.如权利要求4所述的光学测量方法,其特征在于,所述尺寸参数包括所述待测物的深宽比信息,所述多组测量阈值信息中的每组测量阈值信息包括可测量最大深宽比;所述将与多组备选参数信息一一对应的所述多组测量阈值信息分别与所述尺寸参数进行比较,根据比较结果确定所述多组备选参数信息中的可选参数信息,包括:
6.如权利要求4所述的光学测量方法,其特征在于,所述尺寸参数包括所述待测物的深宽比信息和深度信息,所述多组测量阈值信息中的每组测量阈值信息包括可测量最大深宽比和可测量最大深度;所述将与多组备选参数信息一一对应的所述多组测量阈值信息分别与所述尺寸参数进行比较,根据比较结果确定所述多组备选参数信息中的可选参数信息,包括:
7.如权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈鲁,李希希,马砚忠,皮林立,陈驰,曹博,张嵩,
申请(专利权)人:深圳中科飞测科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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