【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，特别是涉及一种基于聚类的测试图形绘制优化方法、系统及终端。
技术介绍
1、在半导体制造领域，光学邻近效应校正（optical proximity correction, opc）的模型构建依赖于绘制测试图形并收集相应的量测数据。测试图形是为验证和校准光刻模型而设计的，通过绘制这些图形并收集量测数据，可以建立和优化光刻模型。然而，现行的测试图形绘制方法往往只关注关键尺寸（cd）和光刻工艺可实现的最小周期（pitch），这可能导致产生违反设计规范的图形。尽管某些现有工具能够避免绘制违规的测试图形，但它们仍然保留了这些图形的绘制空间和标签，未能有效利用版图面积，从而造成了版图面积的不必要浪费。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种基于聚类的测试图形绘制优化方法、系统及终端，用于解决现有的测试图形绘制方法导致版图面积浪费等技术问题。
2、为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种基于聚类的测试图形绘制优化方法，所述方法包括：根据规划的测试图形绘制面积以及单个测试图形面积，确定可放置的测试图形数量；枚举所有测试图形设计参数的组合，并过滤违反设计规则的组合；基于过滤后剩余的组合获得测试图形数量的目标设计参数组合；基于测试图形种类，对各目标设计参数组合进行聚类分析，并根据聚类结果将各目标设计参数组合按照类别进行顺序排列，生成整个测试图形版图。
3、于本专利技术的一实施例中，所述枚举所有测试图形设计参数的组合
4、于本专利技术的一实施例中，所述设定每个测试图形种类的测试图形设计参数的范围以及步长，枚举每个测试图形种类的所有测试图形设计参数的组合包括：定义各测试图形设计参数；设定每个测试图形种类的测试图形设计参数的范围以及步长；基于设定的范围以及步长，生成每个测试图形种类的设计参数向量；其中，所述设计参数向量包括：对应测试图形种类的所有测试图形设计参数的组合。
5、于本专利技术的一实施例中，所述基于过滤后剩余的组合获得所述测试图形数量的目标设计参数组合包括：对比过滤后剩余的组合数量以及确定的可放置的测试图形数量； 若剩余的组合数量大于所述测试图形数量，则通过减少测试图形种类、缩小测试图形设计参数的范围以及增大测试图形设计参数的步长中的一种或多种方式，减少枚举的测试图形设计参数的组合数量，直至获得所述测试图形数量的目标设计参数组合；若剩余的组合数量小于所述测试图形数量，则通过增加测试图形种类、扩大测试图形设计参数的范围以及减小测试图形设计参数的步长中的一种或多种方式，增加枚举的测试图形设计参数的组合数量，直至获得所述测试图形数量的目标设计参数组合；若剩余的组合数量等于所述测试图形数量，则将剩余的组合作为目标设计参数组合。
6、于本专利技术的一实施例中，所述基于测试图形种类，对各目标设计参数组合进行聚类分析，并根据聚类结果将各目标设计参数组合按照类别进行顺序排列，生成整个测试图形版图包括：基于测试图形种类确定聚类类别数量以及初步聚类中心，并通过迭代进行聚类和聚类中心调整确定聚类类别数量的设计参数组合分类；将各设计参数组合分类的目标设计参数组合按照类别进行顺序排列，并按排列顺序依次放置于测试图形版图内，获得整个测试图形版图。
7、于本专利技术的一实施例中，所述基于测试图形种类确定聚类类别数量以及初步聚类中心包括：根据已有的测试图形种类确定聚类类别数量；随机从每个测试图形种类的各目标设计参数组合中选取一目标设计参数组合作为对对应分类的初步的聚类中心。
8、于本专利技术的一实施例中，所述通过迭代进行聚类和聚类中心调整确定聚类类别数量的设计参数组合分类包括：基于初步的聚类中心，对非聚类中心的各目标设计参数组合进行聚类与操作聚类中心调整操作，获得各设计参数组合分类以及新的聚类中心；检测聚类中心是否稳定；若稳定，则将获得的各设计参数组合分类作为最终的设计参数组合分类；若不稳定，则基于新的聚类中心，对非聚类中心的各目标设计参数组合进行聚类与操作聚类中心调整操作，直至检测到稳定的聚类中心获得最终的设计参数组合分类。
9、于本专利技术的一实施例中，所述聚类与操作聚类中心调整操作包括：对非聚类中心的各目标设计参数组合分别计算其到各聚类中心的距离，并将该目标设计参数组合与与其距离最小的聚类中心分在同一类，以获得各设计参数组合分类；计算每个设计参数组合分类中各测试图形设计参数的平均值，并组合获得对应设计参数组合分类的设计参数平均值组合；计算每个设计参数组合分类中的各目标设计参数组合分别到其对应的设计参数平均值组合的距离，将距离最小的目标设计参数组合作为该设计参数组合分类的新的聚类中心。
10、为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种基于聚类的测试图形绘制优化系统，所述系统包括：配置测试图形数量确定模块，用于根据规划的测试图形绘制面积以及单个测试图形面积，确定可放置的测试图形数量；组合枚举及过滤模块，连接所述配置测试图形数量确定模块，用于枚举所有测试图形设计参数的组合，并过滤违反设计规则的组合；组合确定模块，连接所述组合枚举及过滤模块，用于基于过滤后剩余的组合获得所述测试图形数量的目标设计参数组合； 测试图形生成模块，连接所述组合枚举及过滤模块以及组合确定模块，用于基于测试图形种类，对各目标设计参数组合进行聚类分析，并根据聚类结果将各目标设计参数组合按照类别进行顺序排列，生成整个测试图形版图。
11、为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种电子终端，包括：一或多个存储器及一或多个处理器；所述一或多个存储器，用于存储计算机程序；所述一或多个处理器，连接所述存储器，用于运行所述计算机程序以执行所述基于聚类的测试图形绘制优化方法。
12、如上所述，本专利技术是一种基于聚类的测试图形绘制优化方法、系统及终端，具有以下有益效果：首先根据预设的版图面积和单个测试图形的面积，计算出可放置的测试图形数量。接着枚举所有可能的设计参数组合，并通过筛选排除那些违反设计规则的组合。然后从剩余的有效组合中确定目标设计参数组合。进一步根据测试图形的种类，对这些目标设计参数组合进行聚类分析，并按类别顺序排列，以生成整个测试图形版图。本专利技术不仅通过过滤无效的设计参数组合减少了版图面积的浪费，还通过聚类分析简化了测试图形的检查和浏览过程。生成的测试图形版图在创建时就排除了无效图案，省去了后续处理步骤，提高了效率。此外，生成的脚本保留了高版图利用率的框架，使得在需要时可以快速替换特定测试图形，实现版图的快速迭代。
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1.一种基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述枚举所有测试图形设计参数的组合，并过滤违反设计规则的组合包括：
3.根据权利要求2中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述设定每个测试图形种类的测试图形设计参数的范围以及步长，枚举每个测试图形种类的所有测试图形设计参数的组合包括：
4.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述基于过滤后剩余的组合获得所述测试图形数量的目标设计参数组合包括：
5.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述基于测试图形种类，对各目标设计参数组合进行聚类分析，并根据聚类结果将各目标设计参数组合按照类别进行顺序排列，生成整个测试图形版图包括：
6.根据权利要求5中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述基于测试图形种类确定聚类类别数量以及初步聚类中心包括：
7.根据权利要求5中所述的基于聚类的测试图形绘制优化
8.根据权利要求7中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述聚类与操作聚类中心调整操作包括：
9.一种基于聚类的测试图形绘制优化系统，其特征在于，所述系统包括：
10.一种电子终端，其特征在于，包括：一或多个存储器及一或多个处理器；
...【技术特征摘要】
1.一种基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述枚举所有测试图形设计参数的组合，并过滤违反设计规则的组合包括：
3.根据权利要求2中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述设定每个测试图形种类的测试图形设计参数的范围以及步长，枚举每个测试图形种类的所有测试图形设计参数的组合包括：
4.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述基于过滤后剩余的组合获得所述测试图形数量的目标设计参数组合包括：
5.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述基于测试图形种类，对各目标设计参数...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄光遥，杨博文，姚军，
申请(专利权)人：华芯程杭州科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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