【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体制造,特别涉及一种侦测装置和离子注入设备。
技术介绍
1、离子注入是一种将杂元素的离子掺杂至晶圆表面的工艺。在对晶圆进行离子注入时,需要先通过机械手将晶圆放置至定向台,通过定向台将晶圆表面的凹槽转动至设定位置后,再由机械手将晶圆从定向台转移至离子注入设备的工艺腔室。
2、通常,定向台的高度是通过设置编码器中定向台从起始位置移动的步数来确定的。然而,当驱动定向台上下移动的驱动装置发生故障,比如驱动装置传动丝的杆间隙变大,使定向台在移动设定的步数后并未到达设定高度,当定向台将晶圆表面的凹槽转动至设定位置后,机械手仍根据定向台的设定高度从定向台抓取晶圆,从而对晶圆表面造成划伤。
3、因此,需要一种侦测装置,在定向台开启工作前对定向台的工作位置的高度进行侦测,以避免在晶圆抓取过程中由于定向台的高度异常导致晶圆表面被机械手划伤。
技术实现思路
1、本申请的目的是提供一种侦测装置和离子注入设备,以在定向台开启工作前对定向台的工作位置的高度进行侦测。
2、本申请第一方面提供一种侦测装置,用于侦测离子注入设备的定向台的位置变化,包括传感器、反射镜和控制系统,所述传感器和反射镜设置在所述定向台上方,所述传感器被配置为向所述定向台表面发出入射光,所述入射光经所述定向台表面反射,垂直射向所述反射镜表面,并依次经所述反射镜和所述定向台的再次反射,形成反射光,所述传感器还被配置为获取所述反射光的光信号,并在获取到所述反射光的光信号时发送正常信号至所述控制系
3、在一些实施例中,所述定向台设置在腔室中,所述腔室顶部设置有透光区,所述传感器和所述反射镜分别设置在所述透光区上方。
4、在一些实施例中,所述传感器和所述反射镜都固定连接在所述腔室上,且所述传感器发射的入射光与所述腔室顶部的第一夹角与所述反射镜和所述腔室顶部的第二夹角互补。
5、在一些实施例中,所述第二夹角为65~75°。
6、在一些实施例中,所述反射镜的宽度为0.28~0.32mm,所述宽度为所述反射镜靠近所述腔室顶部的一端至远离所述腔室顶部的一端之间的距离。
7、在一些实施例中,所述反射镜朝向所述透光区的一面设置有沿所述反射镜的宽度方向可伸缩的遮光件。
8、在一些实施例中,所述遮光件包括光学狭缝片。
9、在一些实施例中,所述反射镜为平面反射镜,所述反射镜朝向所述透光区的一面为反射面。
10、在一些实施例中,所述平面反射镜包括激光反射镜。
11、本申请第二方面提供一种离子注入设备,包括:本申请第一方面所述的侦测装置;腔室;定向台,设置在所述腔室内,用于承托晶圆,所述定向台被配置为能够沿垂直方向升降;以及机械手,用于从所述定向台抓取晶圆或放置所述晶圆至所述定向台。
12、本申请实施例提供的侦测装置和离子注入设备的有益效果包括但不限于:
13、本申请提供一种侦测装置,包括传感器、反射镜和控制系统,所述传感器可向处在工作位置的定向台发射入射光,所述入射光经所述定向台表面反射,垂直射向所述反射镜表面,并依次经所述反射镜和所述定向台的再次反射,形成反射光,所述传感器被配置为所述反射光的光信号,当所述定向台的工作位置的高度不在预设高度时,所述传感器因不能获取到反射光的信号,向所述控制系统发送异常信号,以使所述控制系统发出警示,从而在离子注入设备开始工作前及时向工作人员提示所述定向台的工作位置的高度异常,避免在晶圆传送过程中,因所述定向台的高度异常对晶圆表面造成划伤。
14、此外,所述反射镜朝向所述透光区的一面设置有可沿所述反射镜的宽度方向伸缩的遮光件,以调整所述反射镜可反光区域的宽度,从而调整所述定向台工作位置高度的可容许误差范围。
15、本申请提供的离子注入设备通过设置可侦测定向台的位置变化的侦测机构,当所述定向台的工作位置的高度不在预设高度时,所述侦测机构可向控制系统发送异常信号,以使所述控制系统发出警示,从而在所述离子注入设备开始工作前及时向工作人员提示所述定向台的工作位置的高度异常,避免在晶圆传送过程中,因所述定向台的高度异常对晶圆表面造成划伤。
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1.一种侦测装置,用于侦测离子注入设备的定向台的位置变化,其特征在于,包括传感器、反射镜和控制系统,所述传感器和反射镜设置在所述定向台上方,
2.根据权利要求1所述的侦测装置,其特征在于,所述定向台设置在腔室中,所述腔室顶部设置有透光区,所述传感器和所述反射镜分别设置在所述透光区上方。
3.根据权利要求2所述的侦测装置,其特征在于,所述传感器和所述反射镜都固定连接在所述腔室上,且所述传感器发射的入射光与所述腔室顶部的第一夹角与所述反射镜和所述腔室顶部的第二夹角互补。
4.根据权利要求3所述的侦测装置,其特征在于,所述第二夹角为65~75°。
5.根据权利要求2所述的侦测装置,其特征在于,所述反射镜的宽度为0.28~0.32mm,所述宽度为所述反射镜靠近所述腔室顶部的一端至远离所述腔室顶部的一端之间的距离。
6.根据权利要求5所述的侦测装置,其特征在于,所述反射镜朝向所述透光区的一面设置有沿所述反射镜的宽度方向可伸缩的遮光件。
7.根据权利要求6所述的侦测装置,其特征在于,所述遮光件包括光学狭缝片。
9.根据权利要求8所述的侦测装置,其特征在于,所述平面反射镜包括激光反射镜。
10.一种离子注入设备,其特征在于,包括:
...【技术特征摘要】
1.一种侦测装置,用于侦测离子注入设备的定向台的位置变化,其特征在于,包括传感器、反射镜和控制系统,所述传感器和反射镜设置在所述定向台上方,
2.根据权利要求1所述的侦测装置,其特征在于,所述定向台设置在腔室中,所述腔室顶部设置有透光区,所述传感器和所述反射镜分别设置在所述透光区上方。
3.根据权利要求2所述的侦测装置,其特征在于,所述传感器和所述反射镜都固定连接在所述腔室上,且所述传感器发射的入射光与所述腔室顶部的第一夹角与所述反射镜和所述腔室顶部的第二夹角互补。
4.根据权利要求3所述的侦测装置,其特征在于,所述第二夹角为65~75°。
5.根据权利要求2所述的侦测装...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙海龙,王亿尧,贾方,任世交,
申请(专利权)人:北方集成电路技术创新中心北京有限公司,
类型:新型
国别省市:
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