System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种蒸镀均匀的真空蒸镀器制造技术_技高网

一种蒸镀均匀的真空蒸镀器制造技术

技术编号:44167159 阅读:7 留言:0更新日期:2025-01-29 10:40
本发明专利技术涉及真空蒸镀器技术领域,尤其涉及一种蒸镀均匀的真空蒸镀器。其技术方案包括蒸镀器、转动结构、存放结构、联动结构一和联动结构二,所述蒸镀器包括机壳、位于机壳一侧的开合门;所述转动结构包括环座、安装环;所述存放结构包括支撑角板、支撑杆、存放框;所述联动结构一包括支撑条一、滑套一、导杆一、连接筋一、限位环一、弹簧一、导流板一;所述联动结构二包括支撑条二、滑套二、导杆二、连接筋二、限位环二、弹簧二、导流板二。本发明专利技术通过联动结构一和联动结构之间的配合。本发明专利技术具有均匀蒸镀基地材料的功能,解决了基底材料蒸镀时需要支撑或夹持,导致夹持或支撑基底材料的接触面无法得到均匀的沉积加工的情况。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空蒸镀器,尤其涉及一种蒸镀均匀的真空蒸镀器


技术介绍

1、气相沉积是一种薄膜制备技术,利用先进的真空技术在真空环境中将材料从固体源蒸发、溅射或其他方法制备成气体、离子或原子等状态,通过沉积到基底表面上形成薄膜。

2、五金件蒸镀加工的过程中,靶材蒸发产生的原子穿过真空腔到达基底表面凝结形成薄膜,但是基底材料需要支撑或夹持,夹持或支撑基底材料的接触面无法得到均匀的沉积加工。因此,本领域技术人员提供了一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是针对
技术介绍
中存在的问题,提出一种蒸镀均匀的真空蒸镀器。

2、为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,包括蒸镀器、转动结构、存放结构、联动结构一和联动结构二,所述蒸镀器包括机壳、位于机壳一侧的开合门;

3、所述转动结构包括位于开合门一侧呈等距分布的环座、位于环座上端内部的安装环;

4、所述存放结构包括固置于安装环上端呈对称分布的支撑角板、位于支撑角板上端的支撑杆、位于支撑杆一端的存放框;

5、所述联动结构一包括多组等距分布的支撑条一、嵌入安装于支撑角板内部的滑套一、滑动插接于滑套一内部的导杆一、贯穿支撑条一且下端一侧与导杆一上端相连接的连接筋一、套接于导杆一外壁的限位环一、固置于限位环一和支撑角板之间的弹簧一、位于机壳内部且呈等距纵向等距分布的导流板一;

6、所述联动结构二包括多组等距分布的支撑条二、嵌入安装于支撑角板内部的滑套二、滑动插接于滑套二内部的导杆二、贯穿支撑条二且下端一侧与导杆二上端相连接的连接筋二、套接于导杆二外壁的限位环二、固置于限位环二和支撑角板之间的弹簧二、位于机壳内部且呈等距纵向等距分布的导流板二。

7、所述机壳一端设置有存取口,所述存取口与开合门对应,所述存取口内壁设置有挡边。存取口用于与开合连接的结构件,以及存放结构的有效使用设置的开口,用于蒸镀后零件的存取。

8、所述机壳下端内壁内部设置有开合结构,所述开合结构包括位于机壳下端内壁的电机二,所述电机二输出端设置有螺杆,所述机壳下端内壁设置有轴承支架二,所述螺杆一端转动插接于轴承支架二内部。电机二驱动螺杆转动时,螺杆的一端通过轴承支架二得到转动支撑,螺杆转动时的稳定性提升。

9、所述机壳下端内壁设置有导轨,所述导轨外壁滑动安装有滑块,所述滑块上端设置有与螺杆螺纹套接的螺母,所述螺母上端设置有与开合门固置连接的连接板。螺母与螺杆螺纹安装,且下端通过滑块在导轨外壁滑动,进而使得转动的螺杆推动螺母内部的螺纹滚道,带动螺母以滑块的导向方向进行移动,通过连接板将施加到螺母上的推动力作用到开合门上。

10、所述开合门一端设置有电机一,所述电机一输出端设置有转轴,所述开合门一端设置有轴承支架一,所述转轴上端转动安装于轴承支架一内部。电机一驱动转轴转动时,转轴的一端在轴承支架一内部转动,进而对转轴进行转动支撑,转轴转动时稳定性提升。

11、所述环座一端均设置有对称分布且与开合门固置连接的固定杆,所述转轴外壁套接有呈纵向等距分布的齿轮,所述安装环外壁套接有与齿轮啮合的齿圈。悬置于开合门一侧的多个环座,通过固定杆与开合门连接,进而对环座进行支撑。

12、所述环座两侧内壁和下端内部均开设有呈环形的滚槽,所述安装环两端和下端内部均转动安装有呈环形阵列分布并滑动安装于滚槽内部的钢球。环座通过钢珠得到多点多面支撑,转动时在滚槽内部得到转动导向,钢珠自身转动使得安装环转动稳定性提升。

13、所述导流板一两端均设置有导流面一,所述导流面一朝向导流板一中心段厚度逐渐递增,所述导杆一下端转动安装有滚珠一。导杆一进入到导流板二上时,通过导流面一对导杆一导向,同时通过滚珠一与导流板一滚动接触,降低通过时的摩擦阻力。

14、所述导流板二两端均设置有导流面二,所述导流面二朝向导流板二中心段厚度逐渐递增,所述导杆二下端转动安装有滚珠二,所述导流板一和导流板二外壁均设置有对称分布且与机壳内壁固置连接的侧板。导杆二进入到导流板二上时,通过导流面二对导杆二导向,同时通过滚珠二与导流板二滚动接触,降低通过时的摩擦阻力,导流板一和导流板二均通过侧板固定在机壳内部。

15、所述导流板一和导流板二均呈半圆形,所述导流板一和导流板二之间设置有行程槽,所述支撑条一上端设置有橡胶头一,所述支撑条二上端设置有橡胶头二。行程槽保障了存放结构通过,存放结构有效的横向通过导流板一和导流板二,进而在存放结构进入到机壳内部时不会受到阻碍,支撑条一和支撑条二通过橡胶头一和橡胶头二对零件进行底部支撑时,避免划伤零件,对零件起到防护作用。

16、与现有技术相比,本专利技术的有益效果如下:

17、本专利技术真空蒸镀器的进料口通过自动开合的开合门进行开合控制,开合门下端一侧设置有转动结构,带动基底材料旋转,基底材料通过多组阵列分布的支撑条一和支撑条二支撑,支撑条一与支撑条二通过导流板一和导流板二时相联动,基底材料转动的过程中根据所处位置的不同进行不同点位的支撑,基底材料位于机壳内部进行蒸镀加工时,避免始终夹持或支撑同一位置,接触面无法均匀蒸镀的情况,基底材料实现均匀蒸镀。

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【技术保护点】

1.一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,包括蒸镀器(100)、转动结构(200)、存放结构(300)、联动结构一(400)和联动结构二(500),其特征在于:所述蒸镀器(100)包括机壳(101)、位于机壳(101)一侧的开合门(102);

2.根据权利要求1所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述机壳(101)一端设置有存取口(103),所述存取口(103)与开合门(102)对应,所述存取口(103)内壁设置有挡边(104)。

3.根据权利要求1所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述机壳(101)下端内壁内部设置有开合结构(600),所述开合结构(600)包括位于机壳(101)下端内壁的电机二(601),所述电机二(601)输出端设置有螺杆(602),所述机壳(101)下端内壁设置有轴承支架二(605),所述螺杆(602)一端转动插接于轴承支架二(605)内部。

4.根据权利要求3所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述机壳(101)下端内壁设置有导轨(604),所述导轨(604)外壁滑动安装有滑块(603),所述滑块(603)上端设置有与螺杆(602)螺纹套接的螺母(606),所述螺母(606)上端设置有与开合门(102)固置连接的连接板(607)。

5.根据权利要求1所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述开合门(102)一端设置有电机一(201),所述电机一(201)输出端设置有转轴(203),所述开合门(102)一端设置有轴承支架一(205),所述转轴(203)上端转动安装于轴承支架一(205)内部。

6.根据权利要求5所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述环座(207)一端均设置有对称分布且与开合门(102)固置连接的固定杆(202),所述转轴(203)外壁套接有呈纵向等距分布的齿轮(204),所述安装环(208)外壁套接有与齿轮(204)啮合的齿圈(206)。

7.根据权利要求1所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述环座(207)两侧内壁和下端内部均开设有呈环形的滚槽(209),所述安装环(208)两端和下端内部均转动安装有呈环形阵列分布并滑动安装于滚槽(209)内部的钢球(210)。

8.根据权利要求1所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述导流板一(409)两端均设置有导流面一(410),所述导流面一(410)朝向导流板一(409)中心段厚度逐渐递增,所述导杆一(404)下端转动安装有滚珠一(406)。

9.根据权利要求1所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述导流板二(509)两端均设置有导流面二(510),所述导流面二(510)朝向导流板二(509)中心段厚度逐渐递增,所述导杆二(508)下端转动安装有滚珠二(504),所述导流板一(409)和导流板二(509)外壁均设置有对称分布且与机壳(101)内壁固置连接的侧板(511)。

10.根据权利要求1所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述导流板一(409)和导流板二(509)均呈半圆形,所述导流板一(409)和导流板二(509)之间设置有行程槽(304),所述支撑条一(402)上端设置有橡胶头一(401),所述支撑条二(503)上端设置有橡胶头二(501)。

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【技术特征摘要】

1.一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,包括蒸镀器(100)、转动结构(200)、存放结构(300)、联动结构一(400)和联动结构二(500),其特征在于:所述蒸镀器(100)包括机壳(101)、位于机壳(101)一侧的开合门(102);

2.根据权利要求1所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述机壳(101)一端设置有存取口(103),所述存取口(103)与开合门(102)对应,所述存取口(103)内壁设置有挡边(104)。

3.根据权利要求1所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述机壳(101)下端内壁内部设置有开合结构(600),所述开合结构(600)包括位于机壳(101)下端内壁的电机二(601),所述电机二(601)输出端设置有螺杆(602),所述机壳(101)下端内壁设置有轴承支架二(605),所述螺杆(602)一端转动插接于轴承支架二(605)内部。

4.根据权利要求3所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述机壳(101)下端内壁设置有导轨(604),所述导轨(604)外壁滑动安装有滑块(603),所述滑块(603)上端设置有与螺杆(602)螺纹套接的螺母(606),所述螺母(606)上端设置有与开合门(102)固置连接的连接板(607)。

5.根据权利要求1所述的一种蒸镀均匀的真空蒸镀器,其特征在于:所述开合门(102)一端设置有电机一(201),所述电机一(201)输出端设置有转轴(203),所述开合门(102)一端设置有轴承支架一(205),所述转轴(203)上端转动安装于轴承支架一(205)内部。

6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:桑春峰
申请(专利权)人:兆默半导体设备上海有限公司
类型:发明
国别省市:

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