【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及红外隐身薄膜材料成型，尤其涉及一种具备低发射率的红外隐身薄膜的成膜方法。
技术介绍
1、目前红外侦察技术的飞速发展使得军事目标面临新的威胁，而红外隐身的作用则是改变或降低目标的红外特性或热辐射特性，降低被探测目标与复杂环境之间的红外辐射特性差异，使探测系统难以发现或者使探测系统探测效果降低，从而提高军事目标的生存能力。为使军用武器装备免受红外制导武器的打击，提高在战场环境下的生存力，需要其具备一定的红外隐身能力。因此，以对抗敌方红外侦察与打击为目的的红外隐身材料和红外隐身技术受到高度关注并得以迅速发展。
2、要防止热红外侦察，就要设法使目标的红外特征尽量接近于背景的红外特征。因此，实现红外伪装最有效的途径有两个：一是控制目标的表面温度，使得被探测目标表面的温度与周围环境尽可能的接近；二是另外利用低发射率材料来调节物体表面的发射率，使目标与背景间的红外辐射反差尽可能小，而低发射率涂料是最常用和最基本的材料形式。针对目前红外隐身材料发射率偏高且与可见光伪装兼容性较差的问题，主要原因不仅在于材料的选择，同时材料成膜过程中的工艺控制也是对隐身材料的发射率具有较大的影响。
技术实现思路
1、针对上述存在的问题，本专利技术旨在提供一种具备低发射率的红外隐身薄膜的成膜方法，其能实现液膜厚度的一致性，同时解决喷口及风帽处易形成的堵塞情况，能有效的提高喷涂均匀性及喷涂质量，并最终成型具有低反射率的红外隐身薄膜材料。
2、为了实现上述目的，本专利技术所采用的技术方
3、s1、将基布置于制备好的光学伪装涂层的颜料溶胶中，后将基布提拉并在基布表面形成光学伪装涂层的液膜，待液膜干燥后形成光学伪装涂层的凝胶膜；
4、s2、将凝胶膜浸入至保护层配置的溶胶中，后将基布提拉，在凝胶膜表面形成保护层膜；
5、s3、将低发射率纳米功能涂层溶液喷涂在保护层膜上，成型低发射率纳米功能涂层膜；
6、s4、将保护层配置的溶液喷涂在低发射率纳米功能涂层膜上，成型红外隐身薄膜。
7、优选的，在步骤s1-s2中，基布的下降速度为2mm/s，提拉上升速度为1mm/s，浸渍时间为30s，停止时间为60s。
8、优选的，在步骤s1-s2中，液膜和保护层膜的干燥温度为30℃，干燥时间8-12h。
9、优选的，在步骤s3-s4中，喷涂间距为150～200mm；运行速度为300-400mm/s。
10、优选的，所述喷涂包括喷枪，在喷枪的喷口处设置有将堵塞物驱动清理的第一防堵塞结构。
11、优选的，所述第一防堵塞机构为在所述喷口内部且原理其端口处设置的过滤网，并且该过滤网在喷口内倾斜设置。
12、优选的，所述喷枪具有装配在其喷口处的风帽，所述风帽具有与喷口直线对应的中孔，在中孔的内侧端口处设置有将喷射形成的堵塞物驱动清理的第二防堵塞结构。
13、优选的，所述第二防堵塞结构为在所述中孔内侧端口处外部开设的储藏槽。
14、本专利技术的有益效果是：本申请在提拉操作过程中，通过提拉板等组件，在提拉基布尤其是上提基布时，对基布产生的溶胶液面的翻滚能进行有效的阻挡限制，保持液面的稳定性，从而避免液面波动而对提拉出液面的基布表面造成溶胶再次粘附的问题，进而保证液膜厚度的一致性，并最终保证成型的薄膜材料的多层结构的一致性及低发射率指标。
15、而进一步通过过滤网和储藏槽结构，使得喷液能连续的喷涂，解决喷口及风帽处易形成的堵塞情况，能有效的提高喷涂均匀性及喷涂质量，并最终成型具有低反射率的红外隐身薄膜材料。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种具备低发射率的红外隐身薄膜的成膜方法，所述红外隐身薄膜为层状结构，包括保护层、低发射率纳米功能涂层、光学伪装涂层及基布；其特征在于，所述成膜方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的成膜方法，其特征在于：在步骤S1-S2中，基布的下降速度为2mm/s，提拉上升速度为1mm/s，浸渍时间为30s，停止时间为60s。
3.根据权利要求2所述的成膜方法，其特征在于：在步骤S1-S2中，液膜和保护层膜的干燥温度为30℃，干燥时间8-12h。
4.根据权利要求3所述的成膜方法，其特征在于：在步骤S3-S4中，喷涂间距为150～200mm；运行速度为300-400mm/s。
5.根据权利要求4所述的成膜方法，其特征在于：所述喷涂包括喷枪，在喷枪的喷口处设置有将堵塞物驱动清理的第一防堵塞结构。
6.根据权利要求5所述的成膜方法，其特征在于：所述第一防堵塞机构为在所述喷口内部且原理其端口处设置的过滤网，并且该过滤网在喷口内倾斜设置。
7.根据权利要求6所述的成膜方法，其特征在于：所述喷枪具有装配在其喷口处的风帽，所
8.根据权利要求7所述的成膜方法，其特征在于：所述第二防堵塞结构为在所述中孔内侧端口处外部开设的储藏槽。
...【技术特征摘要】
1.一种具备低发射率的红外隐身薄膜的成膜方法，所述红外隐身薄膜为层状结构，包括保护层、低发射率纳米功能涂层、光学伪装涂层及基布；其特征在于，所述成膜方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的成膜方法，其特征在于：在步骤s1-s2中，基布的下降速度为2mm/s，提拉上升速度为1mm/s，浸渍时间为30s，停止时间为60s。
3.根据权利要求2所述的成膜方法，其特征在于：在步骤s1-s2中，液膜和保护层膜的干燥温度为30℃，干燥时间8-12h。
4.根据权利要求3所述的成膜方法，其特征在于：在步骤s3-s4中，喷涂间距为150～200mm；运行速度为300-400m...
【专利技术属性】
技术研发人员：李炳臻，王吉军，陈玉华，李芳媛，李岩，吴晴晴，
申请(专利权)人：中国人民解放军军事科学院国防工程研究院，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。