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【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及医药,具体涉及一种化合物晶型及其制备方法和应用。
技术介绍
1、核酸药物作为继小分子化药和抗体药物后的第三大类型药物,在全球已经形成燎原之势,发展势头迅猛,成为生物医药企业研发的重点和热点。目前全球获批上市的小核酸药物已有14款。亚磷酰胺单体作为合成核酸药物的关键物料,纯度控制非常重要,符合质量要求的核苷单体供应是核酸药物商业化的关键因素。亚磷酰胺单体的纯度要求一般≥99.0%,质控难度甚至高于一般小分子api(active pharmaceutical ingredient),需要企业长时间的技术积累才能达到亚磷酰胺单体的质控要求。亚磷酰胺单体的合成路线通常包括:(1)将核苷经过酰氯或酸酐处理在碱基上加上保护基团;(2)然后使用dmtrcl试剂,在5'加上dmtr保护基团,成为保护性核苷;(3)再使用磷试剂亚磷酰化合成亚磷酰胺单体。其中,保护性核苷的品质直接影响了亚磷酰胺单体的纯度,而且,亚磷酰化反应需要再无水的环境中进行,水分会直接影响亚磷酰胺单体产物的纯度和产量,而现有的保护性核苷多为无定型态的固体粉末,在保存过程中极易吸水,因此研究一种能够稳定保存的保护性核苷对于提高亚磷酰胺单体产物的纯度和产量具有重大的意义。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了克服现有技术存在的上述技术问题,提供了一种化合物晶型及其制备方法和应用。
2、为了实现上述目的,本专利技术第一方面提供了一种式(1)所示化合物的晶型,所述晶型的x-射线粉末衍射图谱的特征峰2θ包括10
3、
4、本专利技术第二方面提供了一种上述所述的晶型的制备方法,该方法包括:将式(1)所示化合物与乙腈混合,再加热使式(1)所示化合物溶解,然后降温析晶得到式(1)所示化合物的晶型。
5、本专利技术第三方面提供了上述所述的式(1)所示化合物的晶型在提高亚磷酰胺单体的纯度中应用;优选地,所述应用包括采用具有上述所述晶型的式(1)所示化合物作为合成亚磷酰胺单体的原料。
6、通过上述技术方案,本专利技术取得了以下有益效果:
7、本专利技术的具有特定晶型的核苷随着放置时间的延长,产品的纯度变化较小,说明本专利技术的方法制备的晶型不易发生变质,容易保存。
8、本专利技术的具有特定晶型的核苷具有更高的熔点,且水含量和引湿性较低。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种式(1)所示化合物的晶型,其特征在于,所述晶型的X-射线粉末衍射图谱的特征峰2θ包括10.00°±0.2°、12.08°±0.2°、14.76°±0.2°、16.90°±0.2°、18.90°±0.2°、19.30°±0.2°、20.16°±0.2°、21.38°±0.2°、23.96°±0.2°、24.36°±0.2°;
2.根据权利要求1所述的晶型,其中,所述晶型的X-射线粉末衍射图谱的特征峰2θ还包括8.98°±0.2°、13.6°±0.2°、17.8°±0.2°、22.80°±0.2°、25.22°±0.2°、27.30°±0.2°、28.20°±0.2°、29.26°±0.2°、30.10°±0.2°、30.72°±0.2°、31.30°±0.2°、32.40°±0.2°、34.26°±0.2°、35.92°±0.2°、36.90°±0.2°、38.76°±0.2°;
3.根据权利要求1所述的晶型,其中,所述的晶型的X射线粉末衍射图如图1所示。
4.根据权利要求1所述的晶型,其中,所述晶型的熔点为137-148℃。
6.根据权利要求5所述的方法,其中,相对于每克的式(1)所示化合物,所述乙腈的用量为6-12mL;
7.根据权利要求5所述的方法,其中,所述式(1)所示化合物的制备方法包括:在碱和溶剂存在下,将式(Ⅱ)所示化合物与二甲氧基三苯基氯甲烷混合,然后进行反应,得到式(1)所示化合物;
8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述溶剂为吡啶、二氯甲烷和二甲基甲酰胺中的至少一种;
9.根据权利要求7所述的方法,其中,所述反应的条件包括:温度为15-20℃,时间为10-16h;
10.权利要求1-4中任意一项所述的式(1)所示化合物的晶型在提高亚磷酰胺单体的纯度中应用;优选地,所述应用包括采用具有权利要求1-4中任意一项所述晶型的式(1)所示化合物作为合成亚磷酰胺单体的原料。
...【技术特征摘要】
1.一种式(1)所示化合物的晶型,其特征在于,所述晶型的x-射线粉末衍射图谱的特征峰2θ包括10.00°±0.2°、12.08°±0.2°、14.76°±0.2°、16.90°±0.2°、18.90°±0.2°、19.30°±0.2°、20.16°±0.2°、21.38°±0.2°、23.96°±0.2°、24.36°±0.2°;
2.根据权利要求1所述的晶型,其中,所述晶型的x-射线粉末衍射图谱的特征峰2θ还包括8.98°±0.2°、13.6°±0.2°、17.8°±0.2°、22.80°±0.2°、25.22°±0.2°、27.30°±0.2°、28.20°±0.2°、29.26°±0.2°、30.10°±0.2°、30.72°±0.2°、31.30°±0.2°、32.40°±0.2°、34.26°±0.2°、35.92°±0.2°、36.90°±0.2°、38.76°±0.2°;
3.根据权利要求1所述的晶型,其中,所述的晶型的x射线粉末衍射图如图1所示。
4.根据权利要求1所述的晶型,其中,所述晶型...
【专利技术属性】
技术研发人员:韩世启,周经经,李静简,宋艳民,胡文州,宋佳丽,詹润,郭一琼,
申请(专利权)人:天津全和诚科技有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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