【技术实现步骤摘要】
本技术关于一种清洗装置。
技术介绍
1、在清洗基板的技术中，通过化学溶液或溶剂溶液来去除基板的表面，例如通过酸性溶液来清洗基板的表面。然而，酸性溶液的处理效应可能会导致基板表面粗糙化。有鉴于此，如何于通过酸性溶液清洗基板的表面后，减弱或阻断酸性溶液对基板表面的影响，成为业界关注的议题之一。
技术实现思路
1、本技术提供一种清洗装置，包括传送装置、多个第一喷嘴、回收部、第二喷嘴及气刀。传送装置配置以乘载基板并将该基板由第一处理区传送至第二处理区及第三处理区。第一喷嘴设置于第一处理区中且位于传送装置的上方，以对基板提供第一处理液。回收部设置第一处理区中且位于传送装置的下方，配置以回收第一处理液。第二喷嘴设置于第二处理区中且位传送装置的上方，倾斜配置以对基板提供朝向下游方向的第二处理液。气刀设置于第三处理区中位于传送装置的上方，且位于第二喷嘴的下游处，配置以对覆盖在基板上的第二处理液提供物理力。
2、在一些实施例中，清洗装置进一步包括第三喷嘴。第三喷嘴设置于第三处理区中且位于气刀的下游处，并提供清洁液于基板上。
3、在一些实施例中，清洗装置进一步包括第一储存装置及第二储存装置。第一储存装置配置以储存第一处理液，第一储存装置连通第一喷嘴及回收部，并将第一处理液提供至第一喷嘴，且容纳由回收部所回收的第一处理液。第二储存装置与第二喷嘴相连通，配置以储存第二处理液，并将第二处理液提供至第二喷嘴。
4、在一些实施例中，清洗装置进一步包括第三储存装置。第三储存装置
5、在一些实施例中，第二喷嘴提供第二处理液的供给流量为30公升/分钟至40公升/分钟；及第三喷嘴提供清洁液的供给流量为30公升/分钟至40公升/分钟。
6、在一些实施例中，清洗装置进一步包括第一阀门及第二阀门。第一阀门设置于第二储存装置及第三储存装置之间。第二阀门设置于第二储存装置及第三储存装置之间。当第一阀门开启且第二阀门关闭时，第三喷嘴提供第二处理液至基板上，及当第一阀门关闭且第二阀门开启时，第二喷嘴提供清洁液至基板上。
7、在一些实施例中，第二喷嘴的出口部与气刀的出口部之间的距离为100毫米至200毫米。
8、在一些实施例中，第二喷嘴的出口部与第三喷嘴的出口部之间的距离为250毫米至350毫米。
9、在一些实施例中，清洗装置进一步包括调整器。调整器设置于第三喷嘴上，配置以调整第三喷嘴相对于基板的角度及高度。
10、在一些实施例中，角度以基板的法线方向为基准呈正负0度至30度。
11、在一些实施例中，传送装置的传送速度为3米/分钟至6米/分钟。
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1.一种清洗装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，进一步包括：
3.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，进一步包括：
4.如权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，进一步包括：
5.如权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，
6.如权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，进一步包括：
7.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，该第二喷嘴的一出口部与该气刀的一出口部之间的距离为100毫米至200毫米。
8.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，该第二喷嘴的一出口部与该第三喷嘴的一出口部之间的距离为250毫米至350毫米。
9.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，进一步包括：
10.如权利要求9所述的清洗装置，其特征在于，该角度以该基板的法线方向为基准呈正负0度至30度。
11.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，该传送装置的传送速度为3米/分钟至6米/分钟。
【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，进一步包括：
3.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，进一步包括：
4.如权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，进一步包括：
5.如权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，
6.如权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，进一步包括：
7.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，该第二喷嘴的一出口部与该气刀的一...
【专利技术属性】
技术研发人员：李天立，林仕华，王志文，林骏青，
申请(专利权)人：均豪精密工业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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