【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体设备，尤其涉及一种抗蚀剂清洗设备。
技术介绍
1、电路板在生产过程中需要经过蚀刻，蚀刻从电路板上去除不需要的铜过程；在蚀刻之前需要在电路板上相应的位置涂上一层抗腐蚀膜，来保护铜线路；蚀刻完成置换需要将抗腐蚀膜去除，采用碱洗的方式来除去抗腐蚀膜，一般采用的氢氧化钠/碳酸钠溶液进行去除。
2、在现有技术中，冲洗下来的抗腐蚀膜和溶液会进入滚筒内进行过滤。滚筒内设有过滤网，滤渣（抗腐蚀膜和铜渣等）会被拦截在过滤网上，逐渐结团，附着在过滤孔的内壁；由于滤渣不断积累，滤网可能会发生堵塞，不易清理，导致过滤效率下降，甚至可能造成生产线停机。
3、因此，有必要提供一种新的抗蚀剂清洗设备及清洗方法，以解决现有技术中存在的上述问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种抗蚀剂清洗设备及清洗方法，用以对电路板进行清洗，能改善在清洗过程中，清洗设备中的过滤网堵塞，且不易清理的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：
3、一种抗蚀剂清洗设备，包括设备主体；
4、水槽，设置于所述设备主体，用于放置清洗电路板的清洗液；
5、输送单元，设置于所述设备主体，用于传送电路板至所述水槽。
6、过滤单元，设置于所述设备主体，与所述水槽连接；
7、所述过滤单元包括对称设置的支撑环，对称设置的所述支撑环活动设置于所述设备主体；
8、过滤网，固定设置于所述支撑环的外壁，在对称设
9、在工作状态中，所述输送单元带动所述电路板在所述水槽中清洗，清洗液经过所述过滤单元在所述水槽中循环，使所述电路板上的抗腐蚀膜被所述过滤网拦截；过滤结束后，其中一所述支撑环转动，使所述闭环结构呈平行四边形，以使所述抗腐蚀膜脱离所述过滤网。
10、可选的，两个所述支撑环在竖直方向上具有不同高度，使所述过滤网倾斜设置；
11、两个所述支撑环之间设置多个支撑杆，所述支撑杆的一端活动设置于其中一所述支撑环，另一端活动设置于另一所述支撑环，且所述支撑杆与所述过滤网连接；
12、其中，其中所述支撑环转动，使所述支撑杆倾斜，同时所述过滤网的所述闭环结构形变，以清理沾附在所述过滤网的抗腐蚀膜。
13、可选的，还包括二级过滤系统，所述二级过滤系统包括：
14、转移件，具有过滤端和收集端，所述收集端在竖直方向的高度高于所述过滤端在竖直方向的高度；
15、传送组件，设置于所述转移件，用于传送抗腐蚀膜至所述收集端；
16、二级滤网，呈竖直设置并可拆卸设置于所述过滤端，以进行二次过滤。
17、可选的，所述传送组件包括：
18、带动件，转动设置于所述过滤端，与所述过滤端具有高度落差，所述带动件的侧壁具有转板；
19、传送带，设置于所述转移件，所述传送带的转轴与所述带动件通过齿轮连接；
20、所述带动件和所述传送带置于所述二级滤网两侧；
21、其中，清洗液经过所述二级滤网后与所述转板接触，使所述带动件转动，以带动传送带运动，使抗腐蚀膜运动至所述收集端。
22、可选的，所述过滤端固定设置有第一拦截件，所述第一拦截件呈倾斜设置，与所述传送带端面形成凹形结构，所述第一拦截件的端部固定设置第一拦截板，所述第一拦截板的一端与所述传送带端面贴合；
23、所述收集端固定设置有第二拦截件，所述第二拦截件呈倾斜设置，与所述传送带端面形成凸形结构，所述第二拦截件的端部固定设置第二拦截板，所述第二拦截板的一端与所述传送带端面贴合，以转移所述传送带上的抗腐蚀膜。
24、可选的，所述设备主体上设置有接收件，所述接收件呈“l”形，以接收被过滤的抗腐蚀膜。
25、可选的，所述过滤单元底部设置有接水桶，所述水槽包括第一清洗槽和第二清洗槽，所述第一清洗槽和所述第二清洗槽均与所述接水桶连通，同时所述第一清洗槽和所述第二清洗槽的侧壁均设置排水口；
26、所述输送单元包括输送件，所述输送件上开设有第一输送通道，所述第一输送通道具有分岔口，以将所述电路板输送至所述第一清洗槽和或所述第二清洗槽。
27、可选的，所述输送件上开设有两第二输送通道，两个所述第二输送通道均与所述第一输送通道连通，以形成所述分岔口，并分别延伸至所述第一清洗槽和所述第二清洗槽；
28、所述第一输送通道内设置有转向件，所述转向件与所述电路板接触后改变方向，以使所述电路板被输送至所述第一清洗槽和或所述第二清洗槽。
29、一种清洗方法，适用于抗蚀剂清洗设备，包括以下步骤：
30、所述电路板放置在所述输送单元；
31、所述输送单元将所述电路板转移至所述水槽，使所述电路板被所述清洗液清洗；
32、所述电路板转移至所述水槽外部；
33、所述水槽中的清洗液转移至所述过滤单元进行过滤；
34、过滤完成的清洗液重新转移回所述水槽中；
35、依照上述步骤循环清洗所述电路板。
36、可选的，所述水槽包括第一清洗槽和第二清洗槽，所述输送件上开设有两第二输送通道；
37、所述输送单元将所述电路板转移至所述水槽时，所述电路板进入对应的所述第二输送通道，以进入所述第一清洗槽或所述第二清洗槽。
38、本专利技术提供的抗蚀剂清洗设备及清洗方法的有益效果至少包括：
39、1.过滤网的过滤孔设置为矩形，支撑环可转动，支撑环转动带动过滤孔变形，当过滤孔变形时，沾附在过滤孔内的抗腐蚀膜结构被破坏，从而从过滤孔脱离，减小了过滤孔被堵塞的可能，同时便于清理；
40、2.设置二级过滤系统，对清洗液进行两次过滤，提升过滤效果；
41、3.设置第一清洗槽和第二清洗槽，保证始终有一个清洗槽在工作状态，从而提升清洗效率。
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1.一种抗蚀剂清洗设备，其特征在于，包括设备主体(100)；
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，两个所述支撑环(410)在竖直方向上具有不同高度，使所述过滤网(420)倾斜设置；
3.根据权利要求1所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，还包括二级过滤系统(500)，所述二级过滤系统(500)包括：
4.根据权利要求3所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，所述传送组件(520)包括：
5.根据权利要求4所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，所述过滤端(511)固定设置有第一拦截件(541)，所述第一拦截件(541)呈倾斜设置，与所述传送带(522)端面形成凹形结构，所述第一拦截件(541)的端部固定设置第一拦截板(542)，所述第一拦截板(542)的一端与所述传送带(522)端面贴合；
6.根据权利要求1-5任一所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，所述设备主体(100)上设置有接收件(600)，所述接收件(600)呈“L”形，以接收被过滤的抗腐蚀膜。
7.根据权利要求1所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，所述
8.根据权利要求7所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，所述输送件(310)上开设有两第二输送通道(312)，两个所述第二输送通道(312)均与所述第一输送通道(311)连通，以形成所述分岔口，并分别延伸至所述第一清洗槽(210)和所述第二清洗槽(220)；
9.一种清洗方法，其特征在于，适用于权利要求8所述的抗蚀剂清洗设备，包括以下步骤：
10.根据权利要求9所述的清洗方法，其特征在于，所述水槽(200)包括第一清洗槽(210)和第二清洗槽(220)，所述输送件(310)上开设有两第二输送通道(312)；
...【技术特征摘要】
1.一种抗蚀剂清洗设备，其特征在于，包括设备主体(100)；
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，两个所述支撑环(410)在竖直方向上具有不同高度，使所述过滤网(420)倾斜设置；
3.根据权利要求1所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，还包括二级过滤系统(500)，所述二级过滤系统(500)包括：
4.根据权利要求3所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，所述传送组件(520)包括：
5.根据权利要求4所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，所述过滤端(511)固定设置有第一拦截件(541)，所述第一拦截件(541)呈倾斜设置，与所述传送带(522)端面形成凹形结构，所述第一拦截件(541)的端部固定设置第一拦截板(542)，所述第一拦截板(542)的一端与所述传送带(522)端面贴合；
6.根据权利要求1-5任一所述的抗蚀剂清洗设备，其特征在于，所述设备主体(100)上设置有接收件(600)，所述接收件(600)呈“l”形，以接收被...
【专利技术属性】
技术研发人员：金大刚，王钢，陈益生，
申请(专利权)人：杭州临安三品电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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