【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光机系统洁净性能检测，特别是涉及一种用于光机系统使役过程产生粒子检测装置及方法。
技术介绍
1、在光机系统的使役过程中，由于材料磨损、润滑剂挥发、环境尘埃侵入等因素，系统内部可能会产生各种微小的粒子。这些粒子不仅可能影响光学元件的透射率和反射率，降低成像质量，还可能对精密机械部件造成磨损，缩短设备寿命。
2、目前各研究单位根据自己的特点执行了相应的洁净控制方法，如动态洁净置换、风刀/层流、激光清洗、等离子体清洗等在线控制措施，但目前仍缺乏系统的光机系统使役状态下的动态洁净测量方法，导致无法准确评估光机系统洁净性能，从而无法及时对光机系统进行清洁。
3、因此设计一种用于光机系统使役过程产生粒子在线检测的装置及方法，成为目前光机系统洁净性能评估急需解决的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种用于光机系统使役过程产生粒子检测装置及方法，以解决上述现有技术存在的问题，能够检测光机系统使役过程中产生的沉降粒子，便于评估光机系统洁净性能。
2、为实现上述目的，本专利技术提供了如下方案：
3、本专利技术提供一种用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，包括：
4、采样承载部，其设置于光机系统正下方，用于承载光机系统使役过程沉降的粒子；
5、检测部，用于对所述采样承载部上的粒子数量和尺寸进行检测。
6、可选的，所述采样承载部包括首尾相接且均倾斜布置的多个采样玻璃板，相邻两个所述采样玻璃板的倾
7、可选的，所述检测部包括显微成像系统，所述显微成像系统能够将承载有粒子的采样玻璃板显微成像，并将成像数据传输至控制电脑。
8、可选的，所述检测部还包括光源系统，所述光源系统包括侧照明光源，所述侧照明光源设置于相邻两个所述采样玻璃板在最低端的连接位置处。
9、可选的，所述检测部还包括光束陷阱，所述光束陷阱包括设置于所述采样承载部一侧的黑玻璃基板，所述黑玻璃基板内侧设有多个三角形黑玻璃基板。
10、可选的，所述三角形黑玻璃基板的顶角的角度为45°。
11、可选的，还包括支撑板，所述支撑板上表面涂覆有支撑板防护涂层，所述支撑板防护涂层为阳极化发黑涂层，390nm～760nm波段区间反射率低于2％；所述支撑板上依次固定设有多个v形结构的采样玻璃板卡槽，所述采样玻璃板卡槽内对称设有两个倾斜布置的所述采样玻璃板，所述采样玻璃板卡槽底部中心位置处设有所述侧照明光源。
12、可选的，所述侧照明光源包括能够发出532nm绿光的led灯珠。
13、可选的，所述显微成像系统包括水平布置的一维运动平台，所述一维运动平台上滑动设有支杆，所述支杆顶部设有成像模块，所述成像模块与所述控制电脑连接；一维运动平台可以控制成像模块对采样玻璃板断面进行成像，通过移动等景深距离后，多幅成像的方式实现对所有采样玻璃板表面粒子检测。
14、本专利技术还提供一种用于光机系统使役过程产生粒子检测方法，包括如下步骤：
15、步骤一，将采样玻璃板放置于采样玻璃板卡槽内，将检测装置整体放在使役运行的光机系统正下方，采样玻璃板收集光机系统产生沉积的粒子；
16、步骤二，通过水平移动支杆，调整显微成像系统至靠近光束陷阱位置附近，对附近的采样玻璃板进行成像，使其对采样玻璃板的成像最清晰；
17、步骤三，通过控制电脑控制显微成像系统，拍照获取该采样玻璃板的图像信息；
18、步骤四，移动支杆至下一个采样玻璃板的成像位置，重复步骤三，获取系列图像；
19、步骤五，利用控制电脑，采用图像处理方法合成图像，剔除重复点，统计沉降颗粒数量和尺寸信息。
20、本专利技术相对于现有技术取得了以下技术效果：
21、本专利技术利用采样玻璃板在光机系统下方收集沉降的粒子，并通过一维运动平台结合高分辨率ccd对沉降在采样玻璃板表面的粒子进行成像，形成图像传送至控制电脑中，通过软件即可分析出沉降粒子的数量、粒径分布及粒子浓度等检测结果。通过图像处理的方式剔除重叠粒子，得到沉积粒子的特征信息。本检测方法为无损非接触检测，无二次污染残生，检测精度高。
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1.一种用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：包括：
2.根据权利要求1所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述采样承载部包括首尾相接且均倾斜布置的多个采样玻璃板，相邻两个所述采样玻璃板的倾斜方向相反。
3.根据权利要求2所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述检测部包括显微成像系统，所述显微成像系统能够将承载有粒子的采样玻璃板显微成像，并将成像数据传输至控制电脑。
4.根据权利要求3所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述检测部还包括光源系统，所述光源系统包括侧照明光源，所述侧照明光源设置于相邻两个所述采样玻璃板在最低端的连接位置处。
5.根据权利要求3所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述检测部还包括光束陷阱，所述光束陷阱包括竖直设置于所述采样承载部一侧的黑玻璃基板，所述黑玻璃基板内侧设有多个三角形黑玻璃基板。
6.根据权利要求5所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述三角形黑玻璃基板的顶角的角度为45°
7.根据权利要求4所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：还包括支撑板，所述支撑板上表面涂覆有支撑板防护涂层，所述支撑板防护涂层为阳极化发黑涂层，390nm～760nm波段区间反射率低于2％；所述支撑板上依次固定设有多个V形结构的采样玻璃板卡槽，所述采样玻璃板卡槽内对称设有两个倾斜布置的所述采样玻璃板，所述采样玻璃板卡槽底部中心位置处设有所述侧照明光源。
8.根据权利要求4所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述侧照明光源包括能够发出532nm绿光的LED灯珠。
9.根据权利要求3所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述显微成像系统包括水平布置的一维运动平台，所述一维运动平台上滑动设有支杆，所述支杆顶部设有成像模块，所述成像模块与所述控制电脑连接。
10.一种用于光机系统使役过程产生粒子检测方法，其特征在于：包括如下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：包括：
2.根据权利要求1所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述采样承载部包括首尾相接且均倾斜布置的多个采样玻璃板，相邻两个所述采样玻璃板的倾斜方向相反。
3.根据权利要求2所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述检测部包括显微成像系统，所述显微成像系统能够将承载有粒子的采样玻璃板显微成像，并将成像数据传输至控制电脑。
4.根据权利要求3所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述检测部还包括光源系统，所述光源系统包括侧照明光源，所述侧照明光源设置于相邻两个所述采样玻璃板在最低端的连接位置处。
5.根据权利要求3所述的用于光机系统使役过程产生粒子检测装置，其特征在于：所述检测部还包括光束陷阱，所述光束陷阱包括竖直设置于所述采样承载部一侧的黑玻璃基板，所述黑玻璃基板内侧设有多个三角形黑玻璃基板。
6.根据权利要求5所述的用于光机系统使...
【专利技术属性】
技术研发人员：苗心向，牛龙飞，贾宝申，蒋一岚，周国瑞，尤辉，姚彩珍，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：
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