【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术大体上涉及用于在印刷检查晶片上进行中继器缺陷检测以检测例如极紫外(euv)单裸片及多裸片倍缩光罩的倍缩光罩上的缺陷的系统及方法。
技术介绍
1、以下描述及实例并未凭借其包含于此章节中而被承认是现有技术。
2、在半导体造过程期间的各个步骤使用检验过程来检测晶片上的缺陷以促进制造中的更高产量及因此更高利润。一些当前检验方法检测晶片上的中继器缺陷以借此检测倍缩光罩上的缺陷。例如，如果在对应于倍缩光罩上的相同位置的晶片上的多个位置处重复地检测缺陷(“中继器缺陷”)，那么所述缺陷可由所述倍缩光罩自身引起。因此，可分析中继器缺陷以确定其是否由倍缩光罩缺陷而非某一其它原因引起。
3、一般来说，中继器缺陷检测(rdd)是作为晶片后处理(pp)操作来执行。例如，检验工具可在多裸片倍缩光罩情况下执行正常的裸片到裸片缺陷检测(dd)，且在报告所有晶片缺陷之后，可在后处理步骤中执行rdd。中继器缺陷在此归档中被定义为定位于若干倍缩光罩中的相同位置处(在特定公差内)的缺陷。
4、然而，当前使用的rdd方法及系统存在若干缺点。例如，已产生许多当前使用的rdd方法及系统以试图减少噪声，使得可更准确地、以更少检测到的扰乱点及以更高敏感度检测中继器缺陷。然而，晶片噪声减少的许多尝试无法检测下一代设计规则所需的较小尺寸的euv中继器缺陷。例如，一些当前使用的rdd方法使用设定晶片进行如图像对准的步骤。所述设定晶片及测试晶片可具有由(例如)过程条件变动引起的相对较小差异。晶片中的那些差异可足以引起图像对准中的误差，此可借
5、因此，开发不具有上述缺点中的一或多者的用于检测晶片上的中继器缺陷且借此检测倍缩光罩上的缺陷的系统及方法将为有利的。
技术实现思路
1、各个实施例的以下描述绝不应理解为限制所附权利要求书的目标物。
2、一个实施例涉及一种经配置以检测倍缩光罩上的缺陷的系统。所述系统包含经配置以产生晶片的图像的检验子系统。倍缩光罩是用于在光刻过程中将经图案化区域印刷于所述晶片上。所述经图案化区域包含对应于所述倍缩光罩上的相同区域且印刷于所述晶片上的不同行中的第一经图案化区域。所述系统还包含计算机子系统，所述计算机子系统经配置用于基于通过所述检验系统针对所述不同行中的所述第一经图案化区域产生的所述图像来产生所述不同行中的所述第一经图案化区域的多个例子的不同经堆叠差异图像。所述计算机子系统还经配置用于通过对所述不同经堆叠差异图像应用缺陷检测方法来检测所述晶片上的所述第一经图案化区域的所述多个例子中的缺陷候选者。仅当所述缺陷检测方法在所述不同经堆叠差异图像中的位置处检测到缺陷候选者时，所述缺陷检测方法才确定所述缺陷候选者存在于所述第一经图案化区域的所述多个例子中的每一者中的所述位置处。所述计算机子系统进一步经配置用于基于所述检测到的缺陷候选者来识别所述倍缩光罩上的缺陷。所述系统可如本文中所描述般进一步配置。
3、另一实施例涉及一种用于检测倍缩光罩上的缺陷的计算机实施方法。所述方法包含获取通过检验子系统针对晶片产生的图像。倍缩光罩是用于在光刻过程中将经图案化区域印刷于所述晶片上。所述经图案化区域包含对应于所述倍缩光罩上的相同区域且印刷于所述晶片上的不同行中的第一经图案化区域。所述方法还包含上文所描述的所述产生、检测及识别步骤，所述步骤通过耦合到所述检验子系统的计算机子系统执行。
4、所述方法的每一步骤可如本文中进一步描述般进一步执行。所述方法可包含本文中描述的任何其它方法的任何其它步骤。所述方法可由本文中描述的系统中的任一者执行。
5、另一实施例涉及一种存储程序指令的非暂时性计算机可读媒体，所述程序指令可在计算机系统上执行用于执行用于检测倍缩光罩上的缺陷的计算机实施方法。所述计算机实施方法包含上文描述的方法的步骤。所述计算机可读媒体可如本文中描述般进一步配置。所述计算机实施方法的步骤可如本文中进一步描述般执行。另外，可针对其执行程序指令的计算机实施方法可包含本文中描述的任何其它方法的任何其它步骤。
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1.一种经配置以检测倍缩光罩上的缺陷的系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验子系统进一步经配置以通过将所述晶片上的所述不同行中的所述第一经图案化区域的扫描与所述晶片上的所述不同行中的所述经图案化区域中的第二者的扫描交错来产生所述图像。
3.根据权利要求2所述的系统，其中所述第一经图案化区域及所述经图案化区域的所述第二者对应于所述倍缩光罩上的裸片的不同部分。
4.根据权利要求2所述的系统，其中所述第一经图案化区域及所述经图案化区域中的所述第二者对应于印刷于所述晶片上的所述倍缩光罩上的裸片的不同例子。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述倍缩光罩是多裸片倍缩光罩，且其中所述第一经图案化区域包括印刷于所述晶片上的所述多裸片倍缩光罩的仅第一裸片的至少一部分。
6.根据权利要求1所述的系统，其中产生所述不同经堆叠差异图像中的第一者包括产生第一及第二差异图像且组合所述第一及第二差异图像的至少一部分以产生所述不同经堆叠差异图像中的所述第一者，且其中产生所述不同经堆叠差异图像中的第二者包括产生第三及第四差异图像且组
7.根据权利要求6所述的系统，其中产生所述第一差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的第一者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第一计算参考，且产生所述第二差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的第二者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去所述第一计算参考。
8.根据权利要求7所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于从所述晶片上的所述不同行中的所述经图案化区域中的第二者的多个例子的所述图像产生所述第一计算参考。
9.根据权利要求7所述的系统，其中产生所述第三差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第二计算参考且产生所述第四差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的所述第二者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去所述第二计算参考。
10.根据权利要求9所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于从所述晶片上的所述不同行中的所述经图案化区域中的第三者的多个例子的所述图像产生所述第二计算参考。
11.根据权利要求6所述的系统，其中产生所述第一差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的第一者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第一计算参考且产生所述第二差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的第二者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第二计算参考。
12.根据权利要求11所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于从所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述经图案化区域中的第二者的多个例子的所述图像产生所述第一计算参考且从所述晶片上的所述不同行中的所述第二者中的所述经图案化区域中的所述第二者的多个例子的所述图像产生所述第二计算参考。
13.根据权利要求11所述的系统，其中产生所述第三差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述第一经图案化区域产生的所述图像的所述多个例子单独减去第三计算参考且产生所述第四差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的所述第二者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第四计算参考。
14.根据权利要求13所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于从所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述经图案化区域中的第三者的多个例子的所述图像产生所述第三计算参考且从所述晶片上的所述不同行中的所述第二者中的所述经图案化区域中的所述第三者的多个例子的所述图像产生所述第四计算参考。
15.根据权利要求6所述的系统，其中产生所述第一差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的第一者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第一计算参考且产生所述第二差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第二计算参考。
16.根据权利要求15所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于从所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述经图案化区域中的第二者的多个例子的所述图像产生所述第一计算参考且从所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述经图案化区域中的第三者的多个例子的所述图像产生所述第二计算参考。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种经配置以检测倍缩光罩上的缺陷的系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验子系统进一步经配置以通过将所述晶片上的所述不同行中的所述第一经图案化区域的扫描与所述晶片上的所述不同行中的所述经图案化区域中的第二者的扫描交错来产生所述图像。
3.根据权利要求2所述的系统，其中所述第一经图案化区域及所述经图案化区域的所述第二者对应于所述倍缩光罩上的裸片的不同部分。
4.根据权利要求2所述的系统，其中所述第一经图案化区域及所述经图案化区域中的所述第二者对应于印刷于所述晶片上的所述倍缩光罩上的裸片的不同例子。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述倍缩光罩是多裸片倍缩光罩，且其中所述第一经图案化区域包括印刷于所述晶片上的所述多裸片倍缩光罩的仅第一裸片的至少一部分。
6.根据权利要求1所述的系统，其中产生所述不同经堆叠差异图像中的第一者包括产生第一及第二差异图像且组合所述第一及第二差异图像的至少一部分以产生所述不同经堆叠差异图像中的所述第一者，且其中产生所述不同经堆叠差异图像中的第二者包括产生第三及第四差异图像且组合所述第三及第四差异图像的至少一部分以产生所述不同经堆叠差异图像中的所述第二者。
7.根据权利要求6所述的系统，其中产生所述第一差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的第一者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第一计算参考，且产生所述第二差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的第二者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去所述第一计算参考。
8.根据权利要求7所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于从所述晶片上的所述不同行中的所述经图案化区域中的第二者的多个例子的所述图像产生所述第一计算参考。
9.根据权利要求7所述的系统，其中产生所述第三差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第二计算参考且产生所述第四差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的所述第二者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去所述第二计算参考。
10.根据权利要求9所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于从所述晶片上的所述不同行中的所述经图案化区域中的第三者的多个例子的所述图像产生所述第二计算参考。
11.根据权利要求6所述的系统，其中产生所述第一差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的第一者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第一计算参考且产生所述第二差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的第二者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第二计算参考。
12.根据权利要求11所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于从所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述经图案化区域中的第二者的多个例子的所述图像产生所述第一计算参考且从所述晶片上的所述不同行中的所述第二者中的所述经图案化区域中的所述第二者的多个例子的所述图像产生所述第二计算参考。
13.根据权利要求11所述的系统，其中产生所述第三差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述第一经图案化区域产生的所述图像的所述多个例子单独减去第三计算参考且产生所述第四差异图像包括从针对所述晶片上的所述不同行中的所述第二者中的所述第一经图案化区域的所述多个例子产生的所述图像单独减去第四计算参考。
14.根据权利要求13所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于从所述晶片上的所述不同行中的所述第一者中的所述经图案化区域中的第三者的多个例子的所述图像产生所述第三计算参考且从所述晶片上的所述不同行中的所述第二者中的所述经图案化区域中的所述第三者的多个例子的所述图像产生所述第四计算参考。
15.根据权利要求6所述的系统，其中产生所述第一差异图像包括从针对...
【专利技术属性】
技术研发人员：N·帕特威瑞，J·A·史密斯，申宪周，孟柱相，K·吴，李晓春，李胡成，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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