【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及包含氧化钇、氧氟化钇的钇系皮膜及其制造方法。
技术介绍
1、作为这种钇系皮膜，已知通过对包含斜方晶系的yf3晶相、不含斜方晶系以外的yf3晶相的喷镀粉进行等离子体喷镀而得到氟化钇系喷镀膜的皮膜(参照专利文献1)。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本专利第7306490号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、但是，上述现有的氟化钇系喷镀膜的维氏硬度最高为560hv，因此要求进一步改善硬度。
3、本专利技术所要解决的课题在于提供硬度优异的钇系皮膜及其制造方法。
4、用于解决课题的手段
5、本专利技术通过皮膜的维氏硬度为900hv以上的氧化钇皮膜来解决上述课题。
6、上述专利技术中，更优选的是，氧化钇晶体的(222)面的基于x射线衍射的半值宽度为0.7°以上。
7、上述专利技术中，更优选的是，在氧化钇的晶体结构中，(222)面优先取向。
8、上述专利技术中，更优选的是，x射线衍射中的(222)面的衍射强度为其他晶面的2倍以上。
9、上述专利技术中，更优选的是，皮膜形成于要求耐腐蚀性、耐磨性、耐粉尘产生性等的部件的表面。
10、上述专利技术中，能够通过pvd法、cvd法、ald法中的任一种形成上述皮膜。特别是更优选通过离子束辅助蒸镀法形成上述皮膜。
11、另外，本专利技术通过皮膜的维氏硬度为
12、上述专利技术中，更优选的是，通过sem进行表面分析的情况下，对于氧氟化钇晶体的表面而言，形成有粒径50nm～300nm的颗粒的形状占主导地位。
13、上述专利技术中，更优选的是，通过sem进行表面分析的情况下，对于氧氟化钇晶体的表面而言，双重地形成有粒径50nm～300nm的颗粒和进一步位于在该颗粒上的5nm～20nm的颗粒的形状占主导地位。
14、上述专利技术中，更优选的是，通过sem进行截面分析的情况下，对于氧氟化钇晶体的截面而言，横向宽度为20nm～50nm且厚度方向的长度为200nm以上的纤维状的截面结构不占主导地位，是观察到粒径100nm以上的块状的柱的结构。
15、上述专利技术中，更优选的是，氧氟化钇晶体的(151)面的基于x射线衍射的半值宽度为0.5°以上。
16、上述专利技术中，更优选的是，在氧氟化钇的晶体结构中，(151)面优先取向。
17、上述专利技术中，更优选的是，x射线衍射中的(151)面的衍射强度为其他晶面的2倍以上。
18、上述专利技术中，更优选的是，皮膜形成于至少要求耐腐蚀性、耐磨性、耐粉尘产生性的部件的表面。作为这些部件的材质，可示例出铝、石英、蓝宝石、陶瓷等。
19、上述专利技术中，能够通过pvd法、cvd法、ald法中的任一种形成上述皮膜。特别是更优选通过离子束辅助蒸镀法形成上述皮膜。
20、上述专利技术中，在形成上述皮膜时，可以间歇地重复进行成膜的时间和不进行成膜的时间。
21、专利技术的效果
22、根据本专利技术，能够得到硬度优异的皮膜。
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1.一种氧化钇皮膜，其皮膜的维氏硬度为900HV以上。
2.一种氧化钇皮膜，其中，氧化钇晶体的(222)面的基于X射线衍射的半值宽度为0.7°以上。
3.一种氧化钇皮膜，其中，在氧化钇的晶体结构中，(222)面优先取向。
4.如权利要求3所述的氧化钇皮膜，其中，X射线衍射中的(222)面的衍射强度为其他晶面的2倍以上。
5.如权利要求1～4中任一项所述的氧化钇皮膜，其形成于至少要求耐腐蚀性、耐磨性或耐粉尘产生性的部件的表面。
6.一种氧化钇皮膜的制造方法，其通过PVD法、CVD法或ALD法中的任一种形成权利要求1～5中任一项所述的皮膜。
7.一种氧化钇皮膜的制造方法，其通过离子束辅助蒸镀法形成权利要求1～5中任一项所述的皮膜。
8.一种氧氟化钇皮膜，其皮膜的维氏硬度为900HV以上。
9.一种氧氟化钇皮膜，其中，通过SEM进行表面分析的情况下，对于氧氟化钇晶体的表面而言，形成有粒径50nm～300nm的颗粒的形状占主导地位。
10.一种氧氟化钇皮膜，其中，通过SEM进行表面
11.一种氧氟化钇皮膜，其中，通过SEM进行截面分析的情况下，对于氧氟化钇晶体的截面而言，横向宽度为20nm～50nm且厚度方向的长度为200nm以上的纤维状的截面结构不占主导地位，是观察到粒径100nm以上的块状的柱的结构。
12.一种氧氟化钇皮膜，其中，氧氟化钇晶体的(151)面的基于X射线衍射的半值宽度为0.5°以上。
13.一种氧氟化钇皮膜，其中，在氧氟化钇的晶体结构中，(151)面优先取向。
14.如权利要求13所述的氧氟化钇皮膜，其中，X射线衍射中的(151)面的衍射强度为其他晶面的2倍以上。
15.如权利要求8～14中任一项所述的氧氟化钇皮膜，其形成于至少要求耐腐蚀性、耐磨性或耐粉尘产生性的部件的表面。
16.一种氧氟化钇皮膜的制造方法，其通过PVD法、CVD法、ALD法中的任一种形成权利要求8～14中任一项所述的皮膜。
17.一种氧氟化钇皮膜的制造方法，其通过离子束辅助蒸镀法形成权利要求8～14中任一项所述的皮膜。
18.如权利要求16或17所述的氧氟化钇皮膜的制造方法，其中，在形成所述皮膜时，间歇地重复进行成膜的时间和不进行成膜的时间。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种氧化钇皮膜，其皮膜的维氏硬度为900hv以上。
2.一种氧化钇皮膜，其中，氧化钇晶体的(222)面的基于x射线衍射的半值宽度为0.7°以上。
3.一种氧化钇皮膜，其中，在氧化钇的晶体结构中，(222)面优先取向。
4.如权利要求3所述的氧化钇皮膜，其中，x射线衍射中的(222)面的衍射强度为其他晶面的2倍以上。
5.如权利要求1～4中任一项所述的氧化钇皮膜，其形成于至少要求耐腐蚀性、耐磨性或耐粉尘产生性的部件的表面。
6.一种氧化钇皮膜的制造方法，其通过pvd法、cvd法或ald法中的任一种形成权利要求1～5中任一项所述的皮膜。
7.一种氧化钇皮膜的制造方法，其通过离子束辅助蒸镀法形成权利要求1～5中任一项所述的皮膜。
8.一种氧氟化钇皮膜，其皮膜的维氏硬度为900hv以上。
9.一种氧氟化钇皮膜，其中，通过sem进行表面分析的情况下，对于氧氟化钇晶体的表面而言，形成有粒径50nm～300nm的颗粒的形状占主导地位。
10.一种氧氟化钇皮膜，其中，通过sem进行表面分析的情况下，对于氧氟化钇晶体的表面而言，双重地形成有粒径50nm～300nm的颗粒和进一步位于在该颗粒上的5...
【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤和裕，田边健一，德野圭哉，
申请(专利权)人：株式会社新柯隆，
类型：发明
国别省市：
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