【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及原子层沉积，特别是涉及一种用于原子层沉积的喷头组件。
技术介绍
1、原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面的方法，其中喷头组件是原子层沉积设备中的关键部分，一般喷头组件内部有精细设计的气体通道，这些通道用于输送反应气体和载气；
2、现有的沉积方式一般就是先将反应气体喷至基底进行化学反应，再将载气喷出对反应后的反应气体进行冲洗，其中由于不同材质的沉积操作，反应气体中的有机前驱体和氧化剂可单通道输送或者双通道输送，这样在需要不同状态使用时，需要对每组通道连同控制件进行使用，这样就造成喷头组件的结构太过于复杂，需要复杂的程序进行控制使用，且由于控制件较多故障率和能耗也相对提高，为此，我们提出一种用于原子层沉积的喷头组件。
技术实现思路
1、为了克服上述现有技术所存在的技术问题，本专利技术提供一种用于原子层沉积的喷头组件。
2、为解决上述技术问题，本专利技术提供如下技术方案：包括集成板，集成板的上侧固定安装有安装罩，集成板的侧面等距交错设置有引流机构，安装罩的侧面等距交错设置有驱动机构；
3、引流机构包括第一通道、第二通道和第三通道，第一通道、第二通道和第三通道的上侧设置有联动块，联动块的内部设置有第一导流腔和第二导流腔，联动块的下侧设置有底芯块和中芯块，联动块的上侧设置有顶芯块，底芯块、中芯块和顶芯块的侧面设置有约束块，顶芯块的上侧设置有第一连接管、第二连接管和第三连接管；
4、驱动机构包括微型电机，微
5、进一步的，所述引流机构包括开设在集成板底侧的四组第一通道，第二通道开设在集成板的底侧，第三通道开设在集成板的底侧。
6、进一步的，所述引流机构还包括开设在集成板内部的工作腔，联动块固定安装在工作腔的内壁，第一导流腔开设在联动块的内部靠上位置，第二导流腔开设在联动块的内部靠下位置，第一导流腔的底壁开设有第一出气槽，第二导流腔的底壁开设有第二出气槽。
7、进一步的，所述引流机构还包括活动安装在工作腔底壁的底芯块，底芯块的侧面开设有第一配合槽，底芯块的侧面开设有第二配合槽，中芯块活动安装在工作腔的内部，中芯块的侧面开设有第三配合槽，中芯块的侧面开设有第四配合槽。
8、进一步的，所述引流机构还包括设置在联动块上侧的顶芯块，顶芯块的侧面开设有两组避让槽，顶芯块的内侧固定安装有活动块，联动块的内侧固定安装有固定块，工作腔的内壁开设有约束槽，约束块活动安装在约束槽的内部，第一连接管设置在顶芯块的内侧，第二连接管固定安装在第一导流腔的顶壁，第三连接管固定安装在第二导流腔的顶壁。
9、进一步的，所述第一通道、第二通道和第三通道大小比例为三比二比一，工作腔覆盖第一通道和其周边位置的第二通道和第三通道，第四配合槽数量是第三配合槽数量的一半，约束块分别固定套接在底芯块、中芯块和顶芯块侧面位置。
10、进一步的，所述驱动机构包括开设在集成板上侧的连接腔，安装罩的上侧开设有开槽，微型电机活动安装在开槽的内部，安装块固定套接在微型电机的侧面，微型电推杆固定安装在微型电机的输出端，驱动块固定安装在微型电推杆的输出端。
11、进一步的，所述连接腔对应四组第一通道之间中心位置，微型电机贴合在集成板上侧位置，安装块通过螺丝固定安装在安装罩侧面位置，微型电推杆活动设置在连接腔内部。
12、与现有技术相比，本专利技术能达到的有益效果是：
13、1、本专利技术通过设置引流机构和驱动机构，可实现根据不同形状的基底进行喷涂操作，使喷头喷出的气体呈不同阵列状态适配不同形状的基底使用，且在喷涂时，可根据不同沉积方式切换对应不同气体通道引导流动，产生不同的沉积操作，且驱动控制操作较为单一无需复杂程序逻辑即可进行控制使用，使得该喷头组件的适配性和功能性较强，无需进行更换即可进行多状态使用操作，提高了沉积工作效率。
14、2、本专利技术通过设置驱动机构，单安装块可螺纹拆卸对应位置的微型电机、微型电推杆和驱动块进行更换和维护，方便后续检修维护，另外单驱动块可对应四组第一通道及其周边第二通道和第三通道的控制切换，减小了控制阀和控制电机等控制件的数量设置，降低能耗和减少故障率。
15、3、本专利技术通过设置底芯块和中芯块及其周边部件，旋转中芯块一定角度时，第四配合槽对应第一配合槽或者第二配合槽任意位置，中芯块对另外第二配合槽或者第一配合槽起到封闭操作，这样保证只有第一配合槽或者第二配合槽进行连通操作，可实现第二通道和第三通道的单独切换连通操作；
16、旋转顶芯块一定角度时，使得第一配合槽和第二配合槽与对应第一出气槽和第二出气槽位置交错，配合中芯块使第一配合槽和第二配合槽全部闭合操作，可实现第二通道和第三通道的全部闭合和连通操作，保证了切换的效率。
17、4、本专利技术通过设置顶芯块及其周边部件，顶芯块旋转一定角度时，活动块和固定块侧面扇形槽位置交错使其在一起对联动块中心位置闭合，反之可对联动块内部连通，这样使得第一通道可进行单独闭合和连通，这样通过对应位置的第一通道、第二通道和第三通道闭合连通可模块化实现对应气流路径的连通，实现对应不同形状基底配合使用，另外第一通道、第二通道和第三通道的闭合和连通皆可受单组切换，使气流可切换引导适配不同的沉积方式使用。
18、5、本专利技术通过设置约束块及其周边部件，约束块在约束槽内部旋转时，可实现配合驱动块对底芯块、中芯块和顶芯块驱动旋转操作，另外约束块设置在约束槽内部可对底芯块、中芯块和顶芯块起到约束稳定，保证了部件之间的气密性和切换时的稳定。
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1.一种用于原子层沉积的喷头组件，包括集成板（1），集成板（1）的上侧固定安装有安装罩（2），集成板（1）的侧面等距交错设置有引流机构（3），安装罩（2）的侧面等距交错设置有驱动机构（4）；
2.根据权利要求1所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述引流机构（3）包括开设在集成板（1）底侧的四组第一通道（31），第二通道（32）开设在集成板（1）的底侧，第三通道（33）开设在集成板（1）的底侧。
3.根据权利要求2所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述引流机构（3）还包括开设在集成板（1）内部的工作腔（34），联动块（341）固定安装在工作腔（34）的内壁，第一导流腔（342）开设在联动块（341）的内部靠上位置，第二导流腔（343）开设在联动块（341）的内部靠下位置，第一导流腔（342）的底壁开设有第一出气槽（344），第二导流腔（343）的底壁开设有第二出气槽（345）。
4.根据权利要求3所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述引流机构（3）还包括活动安装在工作腔（34）底壁的底芯块（35），底芯块
5.根据权利要求4所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述引流机构（3）还包括设置在联动块（341）上侧的顶芯块（37），顶芯块（37）的侧面开设有两组避让槽（371），顶芯块（37）的内侧固定安装有活动块（372），联动块（341）的内侧固定安装有固定块（373），工作腔（34）的内壁开设有约束槽（38），约束块（381）活动安装在约束槽（38）的内部，第一连接管（39）设置在顶芯块（37）的内侧，第二连接管（391）固定安装在第一导流腔（342）的顶壁，第三连接管（392）固定安装在第二导流腔（343）的顶壁。
6.根据权利要求5所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述第一通道（31）、第二通道（32）和第三通道（33）断面直径比例为三比二比一，工作腔（34）覆盖第一通道（31）和其周边位置的第二通道（32）和第三通道（33），第四配合槽（362）数量是第三配合槽（361）数量的一半，约束块（381）分别固定套接在底芯块（35）、中芯块（36）和顶芯块（37）侧面位置。
7.根据权利要求6所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述驱动机构（4）包括开设在集成板（1）上侧的连接腔（41），安装罩（2）的上侧开设有开槽（42），微型电机（43）活动安装在开槽（42）的内部，安装块（44）固定套接在微型电机（43）的侧面，微型电推杆（45）固定安装在微型电机（43）的输出端，驱动块（46）固定安装在微型电推杆（45）的输出端。
8.根据权利要求7所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述连接腔（41）对应四组第一通道（31）之间中心位置，微型电机（43）贴合在集成板（1）上侧位置，安装块（44）通过螺丝固定安装在安装罩（2）侧面位置，微型电推杆（45）活动设置在连接腔（41）内部。
...【技术特征摘要】
1.一种用于原子层沉积的喷头组件，包括集成板（1），集成板（1）的上侧固定安装有安装罩（2），集成板（1）的侧面等距交错设置有引流机构（3），安装罩（2）的侧面等距交错设置有驱动机构（4）；
2.根据权利要求1所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述引流机构（3）包括开设在集成板（1）底侧的四组第一通道（31），第二通道（32）开设在集成板（1）的底侧，第三通道（33）开设在集成板（1）的底侧。
3.根据权利要求2所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述引流机构（3）还包括开设在集成板（1）内部的工作腔（34），联动块（341）固定安装在工作腔（34）的内壁，第一导流腔（342）开设在联动块（341）的内部靠上位置，第二导流腔（343）开设在联动块（341）的内部靠下位置，第一导流腔（342）的底壁开设有第一出气槽（344），第二导流腔（343）的底壁开设有第二出气槽（345）。
4.根据权利要求3所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述引流机构（3）还包括活动安装在工作腔（34）底壁的底芯块（35），底芯块（35）的侧面开设有第一配合槽（351），底芯块（35）的侧面开设有第二配合槽（352），中芯块（36）活动安装在工作腔（34）的内部，中芯块（36）的侧面开设有第三配合槽（361），中芯块（36）的侧面开设有第四配合槽（362）。
5.根据权利要求4所述的一种用于原子层沉积的喷头组件，其特征在于：所述引流机构（3）还包括设置在联动块（341）上侧的顶芯块（37），顶芯块（37）的侧面开设有两组避让槽（...
【专利技术属性】
技术研发人员：张小强，张远昊，
申请(专利权)人：东领科技装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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