【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及辅助处理装置，特别涉及一种表面处理辅助装置。
技术介绍
1、金属或非金属材料在各类精密零件中的应用越来越广泛，特别是在微小盲孔内表面的处理上，如pogo pin、探针类小零件等。这些零件在制造过程中，往往需要使用各类溶剂进行表面处理，以提高产品的性能和使用寿命。
2、为了提高处理质量，通常采用在溶剂表面处理前后对待处理件辅助抽真空的方法，从而对待处理件的表面进行清洁，以减少脏污、气泡、水蒸气、杂质等因素的影响。但是，这种在溶剂表面处理中或溶剂表面处理后辅助抽真空的方式，无法完全预防相关表面处理质量缺陷的发生，却会造成大量溶剂表面处理液(尤其是易挥发溶剂)的挥发，影响溶剂浓度、改变配比，容易造成质量缺陷，并可能损害环境。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的是提出一种表面处理辅助装置，旨在解决现有的目标件在进行溶剂表面处理时溶剂挥发量较多的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提出的表面处理辅助装置，所述表面处理辅助装置包括：
3、储存箱，内部形成具有敞口的空腔，所述空腔用于存储处理液；
4、表面处理组件，安装于所述敞口处，所述表面处理组件设有处理槽，所述处理槽用于对待处理的目标件进行表面处理，且所述处理槽浸没在所述处理液的液面以下；及
5、真空罐，安装于所述敞口处且与所述表面处理组件间隔设置，所述真空罐的下方浸没在所述处理液的液面以下，所述真空罐用于放置所述目标件，且所述目标件经所述真空罐抽真空后再转移至所
6、在一实施方式中，所述表面处理辅助装置还包括导料件，所述导料件浸没于所述处理液中，且所述导料件的一端设于所述真空罐的下方，所述导料件的另一端延伸至所述处理槽内，以将所述目标件由所述真空罐转移至所述处理槽内。
7、在一实施方式中，所述导料件包括导料板，所述导料板朝所述敞口的方向弯曲以形成滑槽，且所述滑槽的两端分别连通所述真空罐和所述处理槽。
8、在一实施方式中，所述滑槽的槽宽自靠近所述真空罐的一端至靠近所述处理槽的一端呈递减变化状态。
9、在一实施方式中，所述导料板倾斜设置，且所述导料板自靠近所述真空罐的一端至靠近所述处理槽的一端朝远离所述敞口的方向倾斜。
10、在一实施方式中，所述表面处理辅助装置还包括导通管，所述导通管的一端与所述真空罐连通，所述导通管的另一端延伸至所述空腔内，且所述导通管用于输送所述处理液。
11、在一实施方式中，所述表面处理辅助装置还包括升降组件，所述升降组件安装于所述储存箱上，且与所述真空罐驱动连接，以驱动所述真空罐的上升或下降。
12、在一实施方式中，所述真空罐包括：
13、罐体，安装于所述储存箱上，所述罐体设有与其内部连通的上开口和下开口，且所述下开口浸没于所述处理液中；
14、上盖，安装于所述上开口处，以打开或关闭所述上开口；及
15、下盖，安装于所述下开口处，以打开或关闭所述下开口。
16、在一实施方式中，所述真空罐还设有真空接口，所述真空接口设于所述上盖，所述真空接口用于与外部的真空设备连接，并与所述罐体的内部连通。
17、在一实施方式中，所述真空罐还包括气压表，所述气压表安装于所述上盖，用于测量所述罐体的内部气压。
18、在一实施方式中，所述表面处理辅助装置还包括泄压组件，所述泄压组件安装于所述上盖，且与所述罐体的内部连通。
19、在一实施方式中，所述表面处理辅助装置还包括安全阀，所述安全阀安装于所述上盖，且与所述罐体的内部连通。
20、在一实施方式中，所述表面处理组件为振镀机，所述振镀机包括振动源和振料筛，所述振动源安装于所述储存箱的上方且与所述振料筛驱动连接，所述振料筛的内部形成有所述处理槽。
21、本专利技术的技术方案中，该储存箱的内部形成空腔，空腔内用于存储溶剂处理液，还在储存箱的上方间隔地架设有表面处理组件和真空罐，并将真空罐的下方和表面处理组件中的处理槽都浸没在处理液的液面以下。如此，首先将目标件放置于真空罐内进行抽真空处理，从而将目标件表面的脏污、气泡或其他杂质清理，进而提高后续对目标件的表面处理质量。由于目标件从真空罐下方流出后是在处理液中转移到处理槽内的，这个过程中没有接触空气，而是一直浸没在处理液的状态，确保了处理液可以很好地渗入目标件的盲孔内。整个处理过程中降低了溶剂浓度配比的变化，有效提升了溶剂表面处理质量。
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1.一种表面处理辅助装置，其特征在于，所述表面处理辅助装置包括：
2.如权利要求1所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述表面处理辅助装置还包括导料件，所述导料件浸没于所述处理液中，且所述导料件的一端设于所述真空罐的下方，所述导料件的另一端延伸至所述处理槽内，以将所述目标件由所述真空罐转移至所述处理槽内。
3.如权利要求2所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述导料件包括导料板，所述导料板朝所述敞口的方向弯曲以形成滑槽，且所述滑槽的两端分别连通所述真空罐和所述处理槽。
4.如权利要求3所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述滑槽的槽宽自靠近所述真空罐的一端至靠近所述处理槽的一端呈递减变化状态。
5.如权利要求3所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述导料板倾斜设置，且所述导料板自靠近所述真空罐的一端至靠近所述处理槽的一端朝远离所述敞口的方向倾斜。
6.如权利要求1所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述表面处理辅助装置还包括导通管，所述导通管的一端与所述真空罐连通，所述导通管的另一端延伸至所述空腔内，且所述导通管用于输送
7.如权利要求1所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述真空罐包括：
8.如权利要求7所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述真空罐还设有真空接口，所述真空接口设于所述上盖，所述真空接口用于与外部的真空设备连接，并与所述罐体的内部连通；
9.如权利要求8所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述表面处理辅助装置还包括泄压组件，所述泄压组件安装于所述上盖，且与所述罐体的内部连通；
10.如权利要求1至9中任一项所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述表面处理组件为振镀机，所述振镀机包括振动源和振料筛，所述振动源安装于所述储存箱的上方且与所述振料筛驱动连接，所述振料筛的内部形成有所述处理槽。
...【技术特征摘要】
1.一种表面处理辅助装置，其特征在于，所述表面处理辅助装置包括：
2.如权利要求1所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述表面处理辅助装置还包括导料件，所述导料件浸没于所述处理液中，且所述导料件的一端设于所述真空罐的下方，所述导料件的另一端延伸至所述处理槽内，以将所述目标件由所述真空罐转移至所述处理槽内。
3.如权利要求2所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述导料件包括导料板，所述导料板朝所述敞口的方向弯曲以形成滑槽，且所述滑槽的两端分别连通所述真空罐和所述处理槽。
4.如权利要求3所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述滑槽的槽宽自靠近所述真空罐的一端至靠近所述处理槽的一端呈递减变化状态。
5.如权利要求3所述的表面处理辅助装置，其特征在于，所述导料板倾斜设置，且所述导料板自靠近所述真空罐的一端至靠近所述处理槽的一端朝远离所述敞口的方向倾斜。
6.如...
【专利技术属性】
技术研发人员：周延河，吕梁，孙伯羽，
申请(专利权)人：深圳市拓普联科技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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