System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种半导体设备的加热装置及半导体设备制造方法及图纸_技高网

一种半导体设备的加热装置及半导体设备制造方法及图纸

技术编号:44070378 阅读:9 留言:0更新日期:2025-01-17 16:07
本发明专利技术提供了一种半导体设备的加热装置,半导体设备包括工艺腔室,加热装置包括灯箱和加热灯,加热灯设置在灯箱内,灯箱以能够转动的方式设置在工艺腔室的上方,用于对工艺腔室内的晶圆进行加热;灯箱连接有驱动机构,驱动机构用于驱动灯箱转动。通过将灯箱以能够转动的方式设置在工艺腔室的上方,通过驱动机构驱动灯箱转动。本发明专利技术在工艺过程中利用灯箱带动加热灯转动对工艺腔室内的晶圆进行加热,无需转动晶圆,解决了现有磁悬浮系统存在结构复杂和稳定性差,且成本高昂的问题,在保持现有晶圆工艺均匀性的同时,可提高机台稳定性,降低机台成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体设备,更具体涉及一种半导体设备的加热装置及半导体设备


技术介绍

1、在半导体设备中,对于快速加热工艺(rtp),通常会用到数百个卤素灯来对晶圆(wafer)进行加热,而为了实现工艺的均匀性,工艺过程中晶圆通常是以每分钟几百转的转速进行匀速旋转,同时数百个卤素灯位于晶圆的上端并覆盖晶圆的整个区域,在工艺过程中对晶圆实时加热,当工艺停止时,数百个卤素灯同步停止加热。目前,晶圆的旋转通常是通过磁悬浮系统实现,磁悬浮系统中的转子位于工艺腔室内部,磁悬浮系统中的定子位于工艺腔室外部,但是磁悬浮系统存在结构复杂,稳定性较差,影响工艺均匀性,且成本高昂的问题。


技术实现思路

1、基于现有技术存在的技术问题,本专利技术提出了一种半导体设备的加热装置及半导体设备,旨在解决半导体设备中磁悬浮系统存在结构复杂,稳定性较差,影响工艺均匀性,且成本高昂的技术问题。

2、为实现上述目的,根据本专利技术的一个方面,提供了一种半导体设备的加热装置,半导体设备包括工艺腔室,加热装置包括灯箱和加热灯,加热灯设置在灯箱内,灯箱以能够转动的方式设置在工艺腔室的上方,用于对工艺腔室内的晶圆进行加热;灯箱连接有驱动机构,驱动机构用于驱动灯箱转动。

3、可选地,驱动机构包括驱动电机和传动组件,传动组件的动力输入端与驱动电机的动力输出端连接,传动组件的动力输出端与灯箱连接,传动组件能够通过驱动电机的转动带动灯箱转动。

4、可选地,传动组件包括同步带轮和同步带,同步带轮设置在驱动电机的输出轴上,同步带轮与灯箱之间通过同步带连接。

5、可选地,驱动机构还包括联轴器,驱动电机与同步带轮通过联轴器连接。

6、可选地,灯箱的内部具有冷却通道。

7、可选地,冷却通道沿灯箱周向延伸。

8、可选地,加热灯水平或竖直设置于灯箱内。

9、可选地,加热灯的数量为多个,多个加热灯分为多个加热灯组,多个加热灯组沿竖直方向或水平方向分布。

10、可选地,各加热灯组包括多个加热灯,各加热灯组内的多个加热灯沿水平方向分布。

11、根据本专利技术的另一个方面,提供出了一种半导体设备,包括上述加热装置。

12、本专利技术提供的一种半导体设备的加热装置及半导体设备,通过将灯箱以能够转动的方式设置在工艺腔室的上方,通过驱动机构驱动灯箱转动,在工艺过程中,利用灯箱带动加热灯转动对工艺腔室内的晶圆进行加热,因此,无需转动晶圆,解决了现有磁悬浮系统存在结构复杂和稳定性差,且成本高昂的问题,在保持现有晶圆工艺均匀性的同时,可提高机台稳定性,降低机台成本。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体设备的加热装置,其特征在于,所述半导体设备包括工艺腔室,所述加热装置包括灯箱和加热灯,所述加热灯设置在所述灯箱内,所述灯箱以能够转动的方式设置在所述工艺腔室的上方,用于对所述工艺腔室内的晶圆进行加热;

2.根据权利要求1所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,所述驱动机构包括驱动电机和传动组件,所述传动组件的动力输入端与所述驱动电机的动力输出端连接,所述传动组件的动力输出端与所述灯箱连接,所述传动组件能够通过所述驱动电机的转动带动所述灯箱转动。

3.根据权利要求2所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,所述传动组件包括同步带轮和同步带,所述同步带轮设置在所述驱动电机的输出轴上,所述同步带轮与所述灯箱之间通过所述同步带连接。

4.根据权利要求3所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,所述驱动机构还包括联轴器,所述驱动电机与所述同步带轮通过所述联轴器连接。

5.根据权利要求1所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,所述灯箱的内部具有冷却通道。

6.根据权利要求5所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,所述冷却通道沿所述灯箱周向延伸。

7.根据权利要求1所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,所述加热灯水平或竖直设置于灯箱内。

8.根据权利要求7所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,所述加热灯的数量为多个,多个所述加热灯分为多个加热灯组,多个所述加热灯组沿竖直方向或水平方向分布。

9.根据权利要求8所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,各所述加热灯组包括多个所述加热灯,各所述加热灯组内的多个所述加热灯沿水平方向分布。

10.一种半导体设备,其特征在于,包括如权利要求1至9任一项所述的加热装置。

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【技术特征摘要】

1.一种半导体设备的加热装置,其特征在于,所述半导体设备包括工艺腔室,所述加热装置包括灯箱和加热灯,所述加热灯设置在所述灯箱内,所述灯箱以能够转动的方式设置在所述工艺腔室的上方,用于对所述工艺腔室内的晶圆进行加热;

2.根据权利要求1所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,所述驱动机构包括驱动电机和传动组件,所述传动组件的动力输入端与所述驱动电机的动力输出端连接,所述传动组件的动力输出端与所述灯箱连接,所述传动组件能够通过所述驱动电机的转动带动所述灯箱转动。

3.根据权利要求2所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,所述传动组件包括同步带轮和同步带,所述同步带轮设置在所述驱动电机的输出轴上,所述同步带轮与所述灯箱之间通过所述同步带连接。

4.根据权利要求3所述的半导体设备的加热装置,其特征在于,所述驱动机构还包括联轴器,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:何金群刘闻敏祁广杰
申请(专利权)人:盛吉盛半导体科技北京有限公司
类型:发明
国别省市:

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