System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种CCGA锡柱制备工艺制造技术_技高网

一种CCGA锡柱制备工艺制造技术

技术编号:44068688 阅读:6 留言:0更新日期:2025-01-17 16:06
本发明专利技术公开了一种CCGA锡柱制备工艺,步骤包括:将制备的成品锡丝绷直后固定,将绷直后的锡丝放置在容纳槽中,往容纳槽中浇入熔化后的石蜡,待石蜡淹没锡丝后停止浇入,将冷却固化后的石蜡体取出,采用刀片将石蜡体切割成短节,将所得短节加热,待短节熔化后取出锡柱。采用本发明专利技术锡柱制备工艺,不仅能够提高CCGA锡柱的精度和合格率,所制得的CCGA锡柱端面与其轴线几乎垂直,而且能够大幅降低CCGA锡柱的生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微电子元器件,具体涉及一种ccga锡柱制备工艺。


技术介绍

1、随着封装i/o端口总数及密度的增大,cbga和ccga的封装形式在航空航天等科技领域得到越来越多的应用。由于陶瓷基板与pcb板cte的差异,导致热循环可靠性问题成为制约高密度cbga封装发展的瓶颈,而ccga结构由于增大了陶瓷基板和pcb板的间距,可以有效地缓解热失配效应,从而表现出更高的热可靠性。

2、随着航空航天等高精尖技术的发展,军用微电子组件的高端产品则是用ccga/lga封装。ccga是cbga尺寸大于在32*32mm时的另一种形式,不同之处在于采用焊料柱代替焊料球,焊料柱采用共晶焊料连接或直接浇注式固定在陶瓷底部。传统的陶瓷四方扁平封装(cqfp)或陶瓷引脚网格阵列封装(cpga)不再适用于当今的高i/o技术fpga器件,更高引脚数目的陶瓷柱栅阵列封装(ccga)在可靠水平内能够实现高性能要求fpga器件的高密度封装,从而能够满足航天卫星的要求。ccga封装是采用钎料圆柱(高铅锡柱pb90sn10、pb80sn20等,简称ccga锡柱)阵列来替代cbga的钎料球(高铅锡球pb90sn10)阵列,其主要优点有:优异的抗疲劳性和散热性,同时具备耐高温、耐高压和良好的抗潮湿性能等。

3、


技术实现思路

1、本专利技术目的在于提供一种ccga锡柱制备工艺,至少用于解决现有ccga锡柱端面总会存在倾斜的问题,并提高生产的ccga锡柱合格率。

2、为了实现上述目的,本专利技术采用如下技术方案。

3、一种ccga锡柱制备工艺,其特征在于,步骤包括:

4、步骤1,将制备的成品锡丝绷直;

5、步骤2,将绷直后的锡丝放置并固定在容纳槽中;

6、步骤3,往容纳槽中浇入熔化后的石蜡,待石蜡淹没锡丝后停止浇入;

7、步骤4,将冷却固化后的石蜡体取出,石蜡体是石蜡与其内置锡丝的总称;

8、步骤5,采用刀片将石蜡体切割成短节;

9、步骤6,将所得短节加热,待短节熔化后取出锡柱。

10、作为优选方案,步骤3中,熔化后的石蜡温度不高于150℃。

11、作为优选方案,步骤6中,短节加热后的温度不高于100℃。

12、作为优选方案,步骤5中,将石蜡体切割成短节在温度为0-20℃的氛围中进行。

13、为进一步提高生产的ccga锡柱合格率,步骤1和步骤2中,绷直后的锡丝直线度不低于0.01mm。

14、作为优选方案,步骤5中,切割石蜡体的刀片与绷直后的锡丝轴线垂直。

15、为更进一步提高生产的ccga锡柱合格率,同时方便操作,容纳槽至少应具备一平整面,该平整面的粗糙度为it6~it9级。

16、作为优选方案,容纳槽采用梯形槽、弧槽、矩形槽或u形槽。

17、作为优选方案,容纳槽采用不锈钢槽,容纳槽内壁具有自润滑涂层。

18、作为优选方案,绷直后的锡丝内置于石蜡体中部。

19、有益效果:采用本专利技术锡柱制备工艺,不仅能够提高ccga锡柱的精度和合格率,所制得的ccga锡柱端面与其轴线几乎垂直,而且能够大幅降低ccga锡柱的生产成本;本专利技术以极简的工序开创了制备高精密锡柱的新方法,适用于规模化工业生产。

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【技术保护点】

1.一种CCGA锡柱制备工艺,其特征在于,步骤包括:

2.根据权利要求1所述的锡柱制备工艺,其特征在于:步骤3中,熔化后的石蜡温度不高于150℃。

3.根据权利要求2所述的锡柱制备工艺,其特征在于:步骤6中,短节加热后的温度不高于100℃。

4.根据权利要求1所述的锡柱制备工艺,其特征在于:步骤5中,将石蜡体切割成短节在温度为0-20℃的氛围中进行。

5.根据权利要求1所述的锡柱制备工艺,其特征在于:步骤1和步骤2中,绷直后的锡丝直线度不低于0.01mm。

6.根据权利要求5所述的锡柱制备工艺,其特征在于:步骤5中,切割石蜡体的刀片与绷直后的锡丝轴线垂直。

7.根据权利要求1-6任一项所述的锡柱制备工艺,其特征在于:容纳槽至少应具备一平整面,该平整面的粗糙度为IT6~IT9级。

8.根据权利要求7所述的锡柱制备工艺,其特征在于:容纳槽采用梯形槽、弧槽、矩形槽或U形槽。

9.根据权利要求8所述的锡柱制备工艺,其特征在于:容纳槽采用不锈钢槽,容纳槽内壁具有自润滑涂层。

10.根据权利要求8所述的锡柱制备工艺,其特征在于:绷直后的锡丝内置于石蜡体中部。

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【技术特征摘要】

1.一种ccga锡柱制备工艺,其特征在于,步骤包括:

2.根据权利要求1所述的锡柱制备工艺,其特征在于:步骤3中,熔化后的石蜡温度不高于150℃。

3.根据权利要求2所述的锡柱制备工艺,其特征在于:步骤6中,短节加热后的温度不高于100℃。

4.根据权利要求1所述的锡柱制备工艺,其特征在于:步骤5中,将石蜡体切割成短节在温度为0-20℃的氛围中进行。

5.根据权利要求1所述的锡柱制备工艺,其特征在于:步骤1和步骤2中,绷直后的锡丝直线度不低于0.01mm。

6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:李永贺琼瑶赵方超李茜胡涛吴遥金一鸣王玲梅华生王辉
申请(专利权)人:中国兵器装备集团西南技术工程研究所
类型:发明
国别省市:

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