【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学检测，尤其涉及一种波片调节和测量方法及测量装置。
技术介绍
1、波片是光学领域中的一种关键部件，可以实现光的调制、分光、整流等功能。波片的相位延迟量测量在确保光的偏振控制、保证光学器件的正常运行、提高物理量的精确测量等方面具有重要应用。
2、波片在被测量过程中需要入射光光束垂直入射至波片的表面，现有技术中通常缺乏对波片的调节以满足这一测量条件，从而导致波片的相位延迟量测量精度不高，因此需要提供一种波片测量方法，以提高波片相位延迟量测量精度。
3、鉴于此，克服该现有技术所存在的缺陷是本
亟待解决的问题。
技术实现思路
1、本专利技术针对现有技术中缺乏对波片的有效调节手段，从而导致波片的相位延迟量测量精度不高的技术问题提供一种解决方案。
2、为了解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：
3、第一方面，本专利技术提供一种波片调节方法，所述波片调节方法用于调节放置波片的调节平台，所述调节平台包括旋转台和连接所述旋转台的波片放置台，所述波片调节方法包括：
4、使入射光照射角锥棱镜，获得基准反射光，所述基准反射光的光轴平行于所述入射光的光轴；
5、使所述基准反射光经第二汇聚透镜汇聚至光斑探测器，得到基准光斑；
6、使入射光照射置于所述波片放置台上的波片，得到实测反射光；
7、使所述实测反射光经所述第二汇聚透镜汇聚至所述光斑探测器，得到实测光斑；
8、基于所述
9、基于所述实测光斑与所述基准光斑的相对位置，调节所述旋转台的旋转轴的倾斜角，以使所述旋转台的旋转轴平行于所述入射光的光轴。
10、优选的，在所述得到基准光斑和所述使入射光照射置于所述波片放置台上的波片之间还包括如下步骤：
11、调节所述光斑探测器的位置，以使所述基准光斑位于所述光斑探测器的中心。
12、优选的，所述基于所述旋转台转动时所述实测光斑的运行轨迹，调节所述旋转台旋转轴与所述波片放置台间的垂直度，以使所述旋转台旋转轴垂直于所述波片放置台，包括：
13、转动所述旋转台至少一周，以获得所述实测光斑的运行轨迹，所述运行轨迹为环形；
14、获取所述运行轨迹的中心坐标和所述实测光斑的坐标；
15、调节所述旋转台旋转轴与所述波片放置台间的垂直度以移动所述实测光斑，直至所述实测光斑的坐标与所述运行轨迹的中心坐标间的间距达到所述光斑探测器的最小识别间距。
16、优选的，所述基于所述实测光斑与所述基准光斑的相对位置，调节所述旋转台的旋转轴的倾斜角，以使所述旋转台的旋转轴平行于所述入射光的光轴，包括：
17、获取所述实测光斑的坐标与所述基准光斑的坐标；
18、调节所述旋转台旋转轴的倾斜角以移动所述实测光斑，直至所述实测光斑的坐标与所述基准光斑的坐标间的间距达到所述光斑探测器的最小识别间距。
19、优选的，所述调节平台还包括第二支撑基板、连接所述旋转台的第二调节平板以及置于所述第二支撑基板和所述第二调节平板之间的至少三个第二调节螺钉；
20、所述调节所述旋转台旋转轴的倾斜角包括：
21、通过调节所述第二调节螺钉以改变所述第二调节平板与所述第二支撑基板之间的间距，进而调节所述旋转台旋转轴的倾斜角。
22、第二方面，本专利技术提供一种波片测量方法，包括：
23、通过第一方面所述的波片调节方法，对调节平台进行调节；
24、对置于所述调节平台上的波片进行测量，得到波片的相位延迟量。
25、优选的，在所述对调节平台进行调节和所述对置于所述调节平台上的波片进行测量之间还包括如下步骤：
26、分别对波片的误差角识别精度和调节平台的调节精度进行评估；
27、所述对波片的误差角识别精度进行评估包括：
28、使入射光照射置于调节平台上的波片，得到实测反射光，所述实测反射光经过第二汇聚透镜汇聚至光斑探测器，得到实测光斑；
29、基于如下公式计算波片的最小识别误差角α；
30、tan2α＝δx/f
31、其中，δx为光斑探测器的最小识别间距，f为第二汇聚透镜的焦距；
32、将所述最小识别误差角α与阈值进行比较，确保所述最小识别误差角α小于阈值；
33、对所述调节平台的调节精度进行评估包括：
34、基于如下公式计算调节平台的最小调节倾角β：
35、tanβ＝δi/l
36、其中，δi为第一调节螺钉的最小调节距离，l为第一调节平板的支点到所述第一调节螺钉的距离，或者，δi为第二调节螺钉的最小调节距离,l为第二调节平板的支点到所述第二调节螺钉的距离；
37、将所述最小调节倾角β与阈值进行比较，确保所述最小调节倾角β小于阈值。
38、第三方面，本专利技术提供一种波片测量装置，包括：
39、照明模块、分光镜、起偏模块、调节平台、检偏模块、光谱探测模块、第二汇聚透镜和光斑探测器；
40、所述照明模块用于提供入射光；
41、所述起偏模块、调节平台、检偏模块和光谱探测模块依次设于所述入射光的光路中；
42、所述调节平台用于放置波片，所述入射光能够在照射波片后产生反射光；
43、所述分光镜置于所述反射光的光路中，所述分光镜用于将所述反射光反射至所述第二汇聚透镜；
44、所述第二汇聚透镜用于将所述反射光汇聚至所述光斑探测器。
45、优选的，所述调节平台包括旋转台和连接所述旋转台的波片放置台、第二支撑基板、连接所述旋转台的第二调节平板以及置于所述第二支撑基板和所述第二调节平板之间的至少三个第二调节螺钉；其中，所述波片放置台包括连接所述旋转台的第一支撑基板、第一调节平板以及置于所述第一支撑基板与所述第一调节平板之间的至少三个第一调节螺钉。
46、针对现有技术中的不足，本专利技术所能取得的有益效果为：
47、本专利技术通过对波片的位置进行调节，可以使得入射光能垂直入射至波片的表面，在波片的相位延迟量测量过程中，可以有效地提升波片的相位延迟量测量精度；进一步的，本专利技术通过搭配使用多重精度评估方式，可以直观地对波片的误差角识别精度和调节平台的调节精度进行评估，确保精度满足阈值要求；进一步的，本专利技术还提供了一种波片测量装置，能够对波片的相位延迟量进行准确测量。
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1.一种波片调节方法，其特征在于：所述波片调节方法用于调节放置波片的调节平台，所述调节平台包括旋转台和连接所述旋转台的波片放置台，所述波片调节方法包括：
2.根据权利要求1所述的波片调节方法，其特征在于:在所述得到基准光斑和所述使入射光照射置于所述波片放置台上的波片之间还包括如下步骤：
3.根据权利要求1所述的波片调节方法，其特征在于:
4.根据权利要求1或2所述的波片调节方法，其特征在于：
5.根据权利要求4所述的波片调节方法，其特征在于：所述调节平台还包括第二支撑基板、连接所述旋转台的第二调节平板以及置于所述第二支撑基板和所述第二调节平板之间的至少三个第二调节螺钉；
6.一种波片测量方法，其特征在于，包括：
7.根据权利要求6所述的波片测量方法，其特征在于，在所述对调节平台进行调节和所述对置于所述调节平台上的波片进行测量之间还包括如下步骤：
8.一种波片测量装置，其特征在于，包括：
9.根据权利要求8所述的波片测量装置，其特征在于：所述调节平台包括旋转台和连接所述旋转台的波片放置台
...【技术特征摘要】
1.一种波片调节方法，其特征在于：所述波片调节方法用于调节放置波片的调节平台，所述调节平台包括旋转台和连接所述旋转台的波片放置台，所述波片调节方法包括：
2.根据权利要求1所述的波片调节方法，其特征在于:在所述得到基准光斑和所述使入射光照射置于所述波片放置台上的波片之间还包括如下步骤：
3.根据权利要求1所述的波片调节方法，其特征在于:
4.根据权利要求1或2所述的波片调节方法，其特征在于：
5.根据权利要求4所述的波片调节方法，其特征在于：所述调节平台还包括第二支撑基板、连接所述旋转台的第二调节平板以及置于所述第二支撑基板和所述第二调节平板之间的至少三个第二调节螺钉...
【专利技术属性】
技术研发人员：张丽丽，杨康，
申请(专利权)人：武汉颐光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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