【技术实现步骤摘要】
本申请属于半导体，尤其涉及一种版图优化的方法、装置、设备及计算机存储介质。
技术介绍
1、随着半导体制造工艺的快速发展，人们对芯片的性能以及集成度的要求逐渐提升，这一趋势导致芯片版图中的关键尺寸不断减小。
2、芯片版图中的关键尺寸的制程已经达到纳米级别，因此，任何微小的偏差对芯片的整体性能以及可靠性都可能会造成影响。其中，受光学临近效应影响，掩模版图在进行曝光时可能会出现图形失真问题，从而影响芯片性能，甚至造成芯片失效。
3、相关技术中，可以通过计算光刻修正掩模版图，使经过修正后的掩模版图曝光的图形能够更接近设计版图的要求。然而，在通过计算光刻优化掩模版图时，可能会存在部分不连续点，这些不连续点影响形成在晶圆上图形的质量以及精度，导致芯片良率下降。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种版图优化方法、装置、设备及计算机存储介质，能够减少版图优化过程中的不连续点，提升产品良率。
2、第一方面，本申请实施例提供一种版图优化的方法，包括：获取原始版图和虚拟网络，虚拟网络包括呈矩阵排列的网格单元；按照第一叠放位置将虚拟网络叠放在原始版图上，以将原始版图按照网格单元划分为呈阵列排布的多个网格区域；对原始版图各个网格区域中的图形进行迭代优化，直至满足预设优化条件，得到目标版图；将原始版图更新为目标版图；平移虚拟网络，以得到更新后的第一叠放位置，并返回按照第一叠放位置将虚拟网络叠放在原始版图上，以将原始版图划分为呈阵列排布的多个网格区域，直至虚拟网络的移动次数
3、在第一方面一种可能的实施方式中，网格区域的轮廓为矩形，平移虚拟网络，以得到更新后的第一叠放位置，包括：沿网格区域的对角线方向平移虚拟网络，以得到更新后的第一叠放位置。
4、在第一方面一种可能的实施方式中，平移虚拟网络，以得到更新后的第一叠放位置，包括：根据网格区域的边长，确定平移距离；根据平移距离平移虚拟网络，以得到更新后的第一叠放位置。
5、在第一方面一种可能的实施方式中，平移距离小于边长。
6、在第一方面一种可能的实施方式中，对原始版图各个网格区域中的图形进行迭代优化，直至满足预设优化条件，得到目标版图，包括：迭代执行以下操作，直至满足预设优化条件，得到目标版图：根据光学邻近效应，确定各个网格区域中图形的图形修正策略；根据图形修正策略和光刻工艺模型，确定不同网格区域中不同图形的修正参数；根据修正参数，对不同网格区域中不同图形进行修正，得到修正后的修正图形；根据光刻工艺模型，预测修正图形的关键尺寸信息，得到预测关键尺寸信息；计算预测关键尺寸信息与预设关键尺寸阈值信息的偏差，得到偏差信息；在确定不满足预设优化条件的情况下，将修正图形更新为网格区域中的图形。
7、在第一方面一种可能的实施方式中，根据光刻工艺模型，预测修正图形的关键尺寸信息，得到预测关键尺寸信息，包括：根据修正图形，确定掩模图；将掩模图输入至光刻反应模型中，得到预测图形关键尺寸信息。
8、在第一方面一种可能的实施方式中，图形修正策略包括以下至少一项：图形边缘调整、添加辅助图形、调整图形形状；相应地，修正参数包括以下至少一项：图形边缘调整量、辅助图形的尺寸、位置和形状。
9、在第一方面一种可能的实施方式中，不同次迭代优化过程中的预设优化条件不同。
10、在第一方面一种可能的实施方式中，预设优化条件包括迭代次数小于预设次数，在相邻两次迭代优化过程中的预设优化条件中的预设次数不同；或，偏差信息小于预设偏差；在相邻两次迭代优化过程中的预设优化条件中的预设偏差不同。
11、第二方面，本申请实施例提供了一种版图优化装置，包括：获取模块，用于获取原始版图和虚拟网络，虚拟网络包括呈矩阵排列的网格单元；划分模块，用于按照第一叠放位置将虚拟网络叠放在原始版图上，以将原始版图按照网格单元划分为呈阵列排布的多个网格区域；优化模块，用于对原始版图各个网格区域中的图形进行迭代优化，直至满足预设优化条件，得到目标版图；更新模块，用于将原始版图更新为目标版图；平移模块，用于平移虚拟网络，以得到更新后的第一叠放位置，并返回按照第一叠放位置将虚拟网络叠放在原始版图上，以将原始版图划分为呈阵列排布的多个网格区域，直至虚拟网络的移动次数达到预设次数。
12、第三方面，本申请实施例提供了一种版图优化设备，设备包括：处理器以及存储有计算机程序指令的存储器；处理器执行计算机程序指令时实现第一方面或第一方面任意一项实施方式中的版图优化的方法。
13、第四方面，一种计算机可读存储介质，计算机可读存储介质上存储有计算机程序指令，计算机程序指令被处理器执行时实现第一方面或第一方面任意一项实施方式中的版图优化的方法。
14、第五方面，本申请实施例提供了一种计算机程序产品，计算机程序产品中的指令由电子设备的处理器执行时，使得电子设备执行如第一方面或第一方面任意一项实施方式版图优化的方法。
15、本申请实施例的一种版图优化的方法、装置、设备及计算机存储介质，本申请实施例的一种版图优化的方法，通过获取原始版图以及虚拟网络，并按照第一叠放位置将虚拟网络叠放在原始版图上，从而能够将原始版图按照虚拟网络中的网格单元进行划分，以得到多个网格区域。并对网格区域进行优化，使每个区域满足优化条件，得到目标版图。进一步地，可以将虚拟网络进行平移至更新后的第一叠放位置，并确定虚拟网络的移动次数是否达到第一预设次数，若达到，则确定版图优化完成，能够得到完成优化的版图。若未达到第一预设次数，则按照位于更新后的第一叠放位置的虚拟网络对优化后的版图进行划分，并重新对各个网格区域进行优化，直至达到预设次数。可以理解的是，在对各个网格区域中的图形进行迭代优化的过程中，位于中心位置图形的优化效果更好，因此，本申请实施例中，通过不断调整图形位于网格区域的位置，从而使版图中图形均有位于网格区域中心的机会，从而提升版图优化效果。
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1.一种版图优化的方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述网格区域的轮廓为矩形，所述平移所述虚拟网络，以得到更新后的第一叠放位置，包括：
3.根据权利要求1或2中任意一项所述的方法，其特征在于，所述平移所述虚拟网络，以得到更新后的第一叠放位置，包括：
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述平移距离小于所述边长。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述原始版图各个网格区域中的图形进行迭代优化，直至满足预设优化条件，得到目标版图，包括：
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据光刻工艺模型，预测所述修正图形的关键尺寸信息，得到预测关键尺寸信息，包括：
7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述图形修正策略包括以下至少一项：图形边缘调整、添加辅助图形、调整图形形状；
8.根据权利要求1-7中任意一项所述的方法，其特征在于，不同次迭代优化过程中的预设优化条件不同。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述预设优化条件包括
10.一种版图优化装置，其特征在于，包括：
11.一种版图优化设备，其特征在于，所述设备包括：处理器以及存储有计算机程序指令的存储器；
12.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令被处理器执行时实现如权利要求1-9中任意一项所述的版图优化方法。
13.一种计算机程序产品，其特征在于，所述计算机程序产品中的指令由电子设备的处理器执行时，使得所述电子设备执行如权利要求1-9任意一项所述的版图优化方法。
...【技术特征摘要】
1.一种版图优化的方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述网格区域的轮廓为矩形，所述平移所述虚拟网络，以得到更新后的第一叠放位置，包括：
3.根据权利要求1或2中任意一项所述的方法，其特征在于，所述平移所述虚拟网络，以得到更新后的第一叠放位置，包括：
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述平移距离小于所述边长。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述原始版图各个网格区域中的图形进行迭代优化，直至满足预设优化条件，得到目标版图，包括：
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据光刻工艺模型，预测所述修正图形的关键尺寸信息，得到预测关键尺寸信息，包括：
7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述图形修正策略包括以下至少一项：图形边缘调整、添加辅助图形、调整...
【专利技术属性】
技术研发人员：贾聚才，鲁李乐，
申请(专利权)人：东方晶源微电子科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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