【技术实现步骤摘要】
本公开涉及清洁设备，具体而言，涉及一种清洁基站及清洁系统。
技术介绍
1、随着技术的发展和进步，诸如扫地机器人等清洁设备的应用日益广泛。清洁基站作为扫地机器人的配套设备，用于对扫地机器人的拖布进行自动清洗，如此能够提高扫地机器人的自动化程度。相关技术中，清洁基站对清洁机器人的拖布的清洗效果较差。
2、需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
1、本公开的目的在于提供一种清洁基站及清洁系统，进而至少一定程度上提升清洁基站对拖布的清洗效果。
2、根据本公开的一个方面，提供一种清洁基站，所述清洁基站用于清洗清洁主机，并用于向所述清洁主机充电，所述清洁主机具有第一清洁构件，所述清洁基站包括：
3、第一清洗模组，所述第一清洗模组包括支座和清洗盘，所述清洗盘容置于所述支座，所述清洗盘背离所述支座的一面上设置有第一清洗部和第二清洗部，所述第一清洗部用于清洗所述第一清洁构件的底面，所述第二清洗部用于清洗所述第一清洁构件的侧面。
4、根据本公开的一实施方式，所述清洗盘背离所述支座的一侧形成有清洗空间，所述清洗空间用于容置所述第一清洁构件，所述第一清洗部设于所述清洗空间，所述第二清洗部设于所述清洗空间的边缘。
5、根据本公开的一实施方式，所述第二清洗部包括：
6、清洗段，所述清洗段的一端和所述清洗盘连接，且所述位于所述清洗空
7、压边，所述压边设于所述清洗段背离所述支座的一端，所述压边用于压紧所述第一清洁构件的顶面。
8、根据本公开的一实施方式，所述第二清洗部设于所述清洗盘的边缘，所述第二清洗部上形成有弧形清洗面，所述弧形清洗面能够贴合于所述第一清洁构件的侧面，以实现对所述第一清洁构件侧面的清洗。
9、根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有多个第二清洗部，多个所述第二清洗部包括：
10、主清洗部，所述主清洗部设于所述清洗空间的内边缘；
11、辅清洗部，所述辅清洗部设于所述清洗空间的侧边缘；
12、其中，所述清洁主机从所述清洗空间的外边缘进入所述清洗空间，所述清洗空间的内边缘为所述清洗空间背离外边缘的一侧，所述清洗空间的侧边缘为所述清洗空间内边缘和外边缘之间的边缘。
13、根据本公开的一实施方式，所述辅清洗部的高度低于所述主清洗部的高度。
14、根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有烘干孔；
15、所述清洁基站内设置有热风组件，所述热风组件通过烘干风道和所述支座连通，以将热风传输至所述支座。
16、根据本公开的一实施方式，所述清洁基站中设置有排水通道，所述烘干孔和所述排水通道连通。
17、根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上还设置有凸出部，所述凸出部和所述烘干孔交错设置。
18、根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有多个烘干孔列和多个凸出部列，所述烘干孔列和所述凸出部列交替设置，所述烘干孔列包括多个顺序排列的烘干孔，所述凸出部列包括多个顺序排列的凸出部。
19、根据本公开的一实施方式，所述清洗盘和所述支座可拆卸连接。
20、根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有第一卡接部，所述支座内设置有第二卡接部，所述第一卡接部和所述第二卡接部卡接。
21、根据本公开的一实施方式，所述第一卡接部为卡接柱，所述第二卡接部为卡接孔，所述卡接孔贯穿所述支座的底面。
22、根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有朝向所述支座的方向延伸的支撑部，响应于所述清洗盘安装至所述支座，所述支撑部抵于所述支座，以使所述清洗盘和所述支座之间形成间隙。
23、根据本公开的一实施方式，所述支座上设置有限位凸起，所述清洗盘上设置有限位通孔，所述限位凸起连接于所述限位通孔。
24、根据本公开的一实施方式，所述限位凸起为中空结构，以使流经所述清洗盘的清洗用水能够通过所述限位凸起和所述限位通孔。
25、根据本公开的一实施方式，所述支座上设置有限位通孔，所述清洗盘上设置有限位凸起，所述限位凸起连接于所述限位通孔。
26、根据本公开的一实施方式，所述清洁基站还包括：
27、第二清洗模组，所述第二清洗模组用于清洗所述清洁主机的第二清洁构件，所述清洁基站上设置有用于容置清洁主机的容置腔，所述容置腔具有开口，所述第二清洗模组设于所述容置腔内，或者所述第二清洗模组至少部分设于所述容置腔外。
28、根据本公开的一实施方式，所述第二清洗模组包括：
29、清洗槽；
30、清洗件，所述清洗件在工作时可在所述清洗槽往复运动，以清洗所述第二清洁构件，所述清洗盘相对于所述支座固定，所述第一清洁构件相对于所述清洗盘转动。
31、根据本公开的一实施方式，所述支座和所述清洗槽流体连通，并且所述支座底部朝向所述清洗槽倾斜，以使水能够从所述支座流向所述清洗槽。
32、根据本公开的第二个方面，提供一种清洁基站，用于清洗清洁主机，并用于向所述清洁主机充电，所述清洁主机包括第一清洁构件和第二清洁构件，所述清洁基站包括：
33、第一清洗模组，所述第一清洗模组包括清洗盘，所述清洗盘用于清洗所述第一清洁构件；
34、第二清洗模组，所述第二清洗模组包括清洗槽和清洗件，所述清洗件可在所述清洗槽运动；
35、其中，在对所述第一清洁构件进行清洁时，所述清洗盘固定，所述第一清洁构件相对于所述清洗盘转动，所述清洗件在所述清洗槽往复运动，以清洗所述第二清洁构件。
36、根据本公开的一实施方式，所述第一清洗模组包括支座和清洗盘，所述清洗盘容置于所述支座，所述清洗盘背离所述支座的一面上设置有第一清洗部和第二清洗部，所述第一清洗部用于清洗所述第一清洁构件的底面，所述第二清洗部用于清洗所述第一清洁构件的侧面。
37、根据本公开的一实施方式，所述清洗盘背离所述支座的一侧形成有清洗空间，所述清洗空间用于容置所述第一清洁构件，所述第一清洗部设于所述清洗空间，所述第二清洗部设于所述清洗空间的边缘。
38、根据本公开的一实施方式，所述第二清洗部包括：
39、清洗段，所述清洗段的一端和所述清洗盘连接，且所述位于所述清洗空间的边缘；
40、压边，所述压边设于所述清洗段背离所述支座的一端，所述压边用于压紧所述第一清洁构件的顶面。
41、根据本公开的一实施方式，所述第二清洗部设于所述清洗盘的边缘，所述第二清洗部上形成有弧形清洗面，所述弧形清洗面能够贴合于所述第一清洁构件的侧面，以实现对所述第一清洁构件侧面的清洗。
42、根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有多个第二清洗部，多个所述第二清洗部包括：
43、主清洗部，所述主本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种清洁基站，其特征在于，所述清洁基站用于清洗清洁主机，并用于向所述清洁主机充电，所述清洁主机具有第一清洁构件，所述清洁基站包括：
2.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘背离所述支座的一侧形成有清洗空间，所述清洗空间用于容置所述第一清洁构件，所述第一清洗部设于所述清洗空间，所述第二清洗部设于所述清洗空间的边缘。
3.如权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述第二清洗部包括：
4.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述第二清洗部设于所述清洗盘的边缘，所述第二清洗部上形成有弧形清洗面，所述弧形清洗面能够贴合于所述第一清洁构件的侧面，以实现对所述第一清洁构件侧面的清洗。
5.如权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有多个第二清洗部，多个所述第二清洗部包括：
6.如权利要求5所述的清洁基站，其特征在于，所述辅清洗部的高度低于所述主清洗部的高度。
7.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有烘干孔；
8.如权利要求7所述的清洁基站，其特征在于，所
9.如权利要求8所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上还设置有凸出部，所述凸出部和所述烘干孔交错设置。
10.如权利要求9所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有多个烘干孔列和多个凸出部列，所述烘干孔列和所述凸出部列交替设置，所述烘干孔列包括多个顺序排列的烘干孔，所述凸出部列包括多个顺序排列的凸出部。
11.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘和所述支座可拆卸连接。
12.如权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有第一卡接部，所述支座内设置有第二卡接部，所述第一卡接部和所述第二卡接部卡接。
13.如权利要求12所述的清洁基站，其特征在于，所述第一卡接部为卡接柱，所述第二卡接部为卡接孔，所述卡接孔贯穿所述支座的底面。
14.如权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有朝向所述支座的方向延伸的支撑部，响应于所述清洗盘安装至所述支座，所述支撑部抵于所述支座，以使所述清洗盘和所述支座之间形成间隙。
15.如权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述支座上设置有限位凸起，所述清洗盘上设置有限位通孔，所述限位凸起连接于所述限位通孔。
16.如权利要求15所述的清洁基站，其特征在于，所述限位凸起为中空结构，以使流经所述清洗盘的清洗用水能够通过所述限位凸起和所述限位通孔。
17.如权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述支座上设置有限位通孔，所述清洗盘上设置有限位凸起，所述限位凸起连接于所述限位通孔。
18.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站还包括：
19.如权利要求18所述的清洁基站，其特征在于，所述第二清洗模组包括：
20.如权利要求19所述的清洁基站，其特征在于，所述支座和所述清洗槽流体连通，并且所述支座底部朝向所述清洗槽倾斜，以使水能够从所述支座流向所述清洗槽。
21.一种清洁基站，其特征在于，用于清洗清洁主机，并用于向所述清洁主机充电，所述清洁主机包括第一清洁构件和第二清洁构件，所述清洁基站包括：
22.如权利要求21所述的清洁基站，其特征在于，所述第一清洗模组包括支座和清洗盘，所述清洗盘容置于所述支座，所述清洗盘背离所述支座的一面上设置有第一清洗部和第二清洗部，所述第一清洗部用于清洗所述第一清洁构件的底面，所述第二清洗部用于清洗所述第一清洁构件的侧面。
23.如权利要求22所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘背离所述支座的一侧形成有清洗空间，所述清洗空间用于容置所述第一清洁构件，所述第一清洗部设于所述清洗空间，所述第二清洗部设于所述清洗空间的边缘。
24.如权利要求23所述的清洁基站，其特征在于，所述第二清洗部包括：
25.如权利要求23所述的清洁基站，其特征在于，所述第二清洗部设于所述清洗盘的边缘，所述第二清洗部上形成有弧形清洗面，所述弧形清洗面能够贴合于所述第一清洁构件的侧面，以实现对所述第一清洁构件侧面的清洗。
26.如权利要求23所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有多个第二清洗部，多个所述第二清洗部包括：
27.如权利要求26所述的清洁基站，其特征在于，所述辅清洗部的高度低于所述主清洗部的高度。
28.如权利要求22所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设...
【技术特征摘要】
1.一种清洁基站，其特征在于，所述清洁基站用于清洗清洁主机，并用于向所述清洁主机充电，所述清洁主机具有第一清洁构件，所述清洁基站包括：
2.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘背离所述支座的一侧形成有清洗空间，所述清洗空间用于容置所述第一清洁构件，所述第一清洗部设于所述清洗空间，所述第二清洗部设于所述清洗空间的边缘。
3.如权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述第二清洗部包括：
4.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述第二清洗部设于所述清洗盘的边缘，所述第二清洗部上形成有弧形清洗面，所述弧形清洗面能够贴合于所述第一清洁构件的侧面，以实现对所述第一清洁构件侧面的清洗。
5.如权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有多个第二清洗部，多个所述第二清洗部包括：
6.如权利要求5所述的清洁基站，其特征在于，所述辅清洗部的高度低于所述主清洗部的高度。
7.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有烘干孔；
8.如权利要求7所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站内设置有排水通道，所述烘干孔和所述排水通道连通。
9.如权利要求8所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上还设置有凸出部，所述凸出部和所述烘干孔交错设置。
10.如权利要求9所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有多个烘干孔列和多个凸出部列，所述烘干孔列和所述凸出部列交替设置，所述烘干孔列包括多个顺序排列的烘干孔，所述凸出部列包括多个顺序排列的凸出部。
11.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘和所述支座可拆卸连接。
12.如权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有第一卡接部，所述支座内设置有第二卡接部，所述第一卡接部和所述第二卡接部卡接。
13.如权利要求12所述的清洁基站，其特征在于，所述第一卡接部为卡接柱，所述第二卡接部为卡接孔，所述卡接孔贯穿所述支座的底面。
14.如权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗盘上设置有朝向所述支座的方向延伸的支撑部，响应于所述清洗盘安装至所述支座，所述支撑部抵于所述支座，以使所述清洗盘和所述支座之间形成间隙。
15.如权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述支座上设置有限位凸起，所述清洗盘上设置有限位通孔，所述限位凸起连接于所述限位通孔。
16.如权利要求15所述的清洁基站，其特征在于，所述限位凸起为中空结构，以使流经所述清洗盘的清洗用水能够通过所述限位凸起和所述限位通孔。
17.如权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述支座上设置有限位通孔，所述清洗盘上设置有限位凸起，所述限位凸起连接于所述限位通孔。
18.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站还包括：
19.如权利要求18所述的清洁基站，其特征在于，所述第二清洗模组包括：
20.如权利要求19所述的清洁基站，其特征在于，所述支座和所述清洗槽流体连通，并且所述支座底部朝向所述清洗槽倾斜，以使水能够从所述支座流向所述清洗槽。
21.一种清洁基站，其特征在于，用于清洗清洁主机，并用于向所述清洁主机充电，所述清洁主机包括第一清洁构件和第二清洁构件，所述清洁基站包括：
22.如权利要求21所述的清洁基站，其特征在于，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：成盼，米长，张亮舟，刘尚杰，
申请(专利权)人：北京石头世纪科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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